Geri Dön

Plazma destekli kimyasal buhar biriktirme yöntemi ile poli(sikloheksil metakrilat) ince filmlerinin sentezi, karakterizasyonu ve termal özelliklerinin incelenmesi

Synthesis, characterization and, thermal properties of poly(cyclohexyl methacrylate) thin films synthesized by plasma assisted chemical vapor deposition method

  1. Tez No: 516048
  2. Yazar: YUNUS YARTAŞI
  3. Danışmanlar: DOÇ. DR. MUSTAFA KARAMAN
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Kimya Mühendisliği, Chemical Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2018
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Selçuk Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

Mikroakışkan cihazlarda sıvı veya gaz geçişini sağlamak için gerekli boşluklu yapının oluşturulmasında, mikro elektromekanik sistemlerde, optik sistemlerin üretiminde kurban malzemeler çok çeşitli uygulamalar için kullanılan materyallerdir. Günümüzde kurban malzemeler yüzeyde kalıntı bırakmadan temiz bir şekilde ayrıştığı için ince film sentezinde ilgi görmektedir. Kurban olarak yüzeyden ayrılan polimer, mekanik ve termal olarak kararlı olmalıdır. Termal olarak parçalanabilen kurban malzemelerin yüzeyden kaldırılmasında geleneksel yöntemler çözelti ve çözücü kullanımını gerektirir. Son zamanlarda ısı ile kurban tabakaların çıkartılması geleneksel yöntemlere alternatif sunmaktadır. Bu çalışmada, hidrofobikliği ve temiz ayrışımıyla ilgi çeken poli(sikloheksil metakrilat) P(CHMA) kurban ince filmleri plazma destekli kimyasal buhar biriktirme (PECVD) tekniği ile elde edilmiştir. P(CHMA) ince filmlerinde substrat sıcaklığının ve plazma gücünün biriktirme hızına etkisi incelenmiştir. Böylece daha düşük substrat sıcaklıklarında daha yüksek olan 46.51 nm/dk kaplama hızına ulaşılabildiği görülmüştür. Sentezlenen ince filmlerin kimyasal yapısını açığa çıkartmak için FTIR ve XPS analizleri yapılmıştır. Yapılan termal tavlama testleri sonucunda, 200 nm kalınlığındaki filmin ısıtıcı plaka ile 40 dk süreyle 300°C'de tavlanması sonucu yüzeyde hiç kalıntı bırakmadan ayrıştığı görülmüştür. Elde edilen P(CHMA) ince filmleri, kurban malzeme olarak kullanılarak SiO2 temelli nano boyutta boşluk üretimi gerçekleştirilmiştir.

Özet (Çeviri)

Sacrificial materials are used for a variety of applications including the formation of hollow structures required for liquid or gas passage in microfluid devices, in the production of optical systems and in micro electro-mechanical systems. Recently, sacrificial materials have attracted a lot of interest in thin film deposition because they are cleanly separated without leaving any residue on the surface. The sacrificial polymer thin film on the surface must be mechanically stable. Conventional methods for removing sacrificial materials require the use of solutions and solvents. Recently, removal of sacrificial layers by heating has provided an alternative to conventional methods. In this study, P(CHMA) thin films showing clean dissociation and hydrophobic properties on the surface have been obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition technique. The effects of substrate temperature and plasma power on the deposition rate have been studied in P(CHMA) thin films. Thus, a higher deposition rate of 46.51 nm / min has been achieved at lower substrate temperatures. FTIR and XPS analyzes were performed to explain the chemical structure of the synthesized thin films. As a result of the thermal annealing tests, it was observed that annealing of a 200 nm film at 300°C for 40 minutes using a heating plate resulted in the removal of the film from the surface without any residue. Nano-sized SiO2 based hollow structures were obtained using the as-deposited P(CHMA) thin films.

Benzer Tezler

  1. Plazma destekli kimyasal buhar biriktirme yöntemi ile poli(hekza florobütil akrilat-co-glisidil metakrilat) nano kaplamaların sentezi ve karakterizasyonu

    Synthesis and characterization of poly(hexafluoro butyl acrylate-co-glicidil methacrylate) nano coatings by inductively coupled plasma enhanced chemical vapor de-position method

    TUBA UÇAR

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2016

    Kimya MühendisliğiSelçuk Üniversitesi

    Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. MUSTAFA KARAMAN

  2. Plazma destekli kimyasal buhar biriktirme yöntemi ile polimer nano kaplamaların sentezi ve karakterizasyonu

    Synthesis and characterization of polymeric nano coatings by plasma enhanced chemical vapor deposition method

    EMRAH DEMİR

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2015

    Kimya MühendisliğiSelçuk Üniversitesi

    Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. MUSTAFA KARAMAN

  3. Döner yataklı plazma destekli kimyasal buhar biriktirme yöntemi ile polimerik nanokaplamaların sentezi

    Synthesis of polymeric nano-coatings deposited by rotating bed plasma enhanced chemical vapor deposition

    MEHMET GÜRSOY

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2018

    Kimya MühendisliğiSelçuk Üniversitesi

    Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. MUSTAFA KARAMAN

  4. Sürekli ve verimli sis toplama için PECVD yöntemi ile hidrofobik ve hidrofilik yüzeylerin oluşturulması

    Creating hydrophobic and hydrophilic surfaces with PECVD method for continuous and efficient fog collection

    BERKAN KOCADAYIOĞULLARI

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2023

    Kimya MühendisliğiKonya Teknik Üniversitesi

    Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. MEHMET GÜRSOY

  5. PECVD yöntemi ile polimerle kaplanmış grafen bazlı epoksi kompozit özelliklerinin incelenmesi

    Investigation of epoxy composite properties based on graphene coated with polymer by PECVD method

    DUYGU YANARDAĞ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2018

    Kimya MühendisliğiSelçuk Üniversitesi

    Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. GÜLNARE AHMETLİ

    DOÇ. DR. MUSTAFA KARAMAN