Geri Dön

RF magnetron kopartma tekniği kullanılarak hazırlanan Nb2O5ince filmlerin optik özelliklerinin incelenmesi

The investigation of optical properties of Nb2O5 thin films prepared by RF magnetron sputtering

  1. Tez No: 305910
  2. Yazar: MELTEM YEŞİLTEPE
  3. Danışmanlar: YRD. DOÇ. DR. ÖZLEM DUYAR COŞKUN
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2012
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Hacettepe Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Nanoteknoloji ve Nanotıp Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 154

Özet

Bu yüksek lisans tez çalışmasında, Nb2O5 ince filmlerin magnetron kopartma tekniği kullanılarak hazırlanması ve optik karakterizasyonu amaçlanmıştır. İnce film özellikleri, alttaş sıcaklığı, reaktif gaz/kopartma gazı oranı, toplam basınç gibi büyütme parametrelerine bağlıdır. Büyütme parametrelerini kontrol ederek filmlerin optik özelliklerini değiştirmek mümkündür. Bu çalışmada Nb2O5 filmler oda sıcaklığında ve 300 ?C alttaş sıcaklığında büyütüldü. Alttaş sıcaklığının kaplama hızına olan etkisi gözlendi. Ayrıca oda sıcaklığında farklı O2 koşullarında silika alttaşlar üzerine büyütülen ince filmler 300 ?C' den 800 ?C ye kadar, tavlama süreleri arttırılarak tavlama işlemine maruz bırakıldı. Film yapısında ve optik özelliklerinde değişikliğe yol açan tavlama sıcaklıkları ve süreleri belirlendi. Film yoğunluğundaki artışa ve azalışa bağlı olarak kırma indisinin ve kalınlığın değişim gösterdiği gözlendi. 0.8 mTorr O2 kısmi basıncı ve 5.3 mTorr toplam basınç koşullarında hazırlanan film ile 1.1 mTorr O2 kısmi basıncı ve 5.6 mTorr toplam basınç koşullarında hazırlanan filmin dalga boyuna bağlı geçirgenlik değerlerinde belirgin bir farklılığın varlığı gözlendi. 0.8 mTorr O2 kısmi basıncı ve 5.3 mTorr toplam basınç koşullarında hazırlanan filmin geçirgenliği filmi 500 ?C' de 1 saat tavlayarak arttırılmıştır. Atmosfer ortamında tavlama sonucunda geçirgenliği arttırılan filmlerin optik özellikleri, O2 kısmi basıncı azaltılmayan ortamda hazırlanarak tavlanan filmlerin optik özellikleriyle karşılaştırıldı.

Özet (Çeviri)

In this thesis study, Nb2O5 thin films preparation by using magnetron sputtering technique and optical characterization were aimed. The properties of thin films depend on the deposition parameters such as substrate temperature, reactive gas/ sputter gas ratio and total pressure. By controlling depositon parameters, it is possible to change thin films optical properties. In this study, Nb2O5 thin films deposited at room temperature and 300 ?C substrate temperature. Substrate temperature effect to the deposition rate of the film was observed. The films also deposited at room temperature on silica substrate, exposed to different annealing temperatures from 300 ?C to 800 ?C for different annealing time. Annealing temperatures and times caused the optical and structural changes. Refractive index and thickness differences which related to increasing or decreasing film density were observed. Thin film which deposited at 0.8 mTorr O2 partial pressure and 5,3 mTorr total pressure and thin film which deposited at 1.1 mTorr O2 partial pressure and 5,6 mTorr total pressure conditions have significiant difference on transmittance. The optical transmittance of the films which deposited at reduced O2 partial pressure were increased by annealing at 500 ?C during 1 hour in athmosphere. The optical properties of the films which prepared for different O2 partial pressures compared after annealing of the films.

Benzer Tezler

  1. Fotovoltaik Ge-ZnO nanokompozit ince filmlerin hazırlanması ve fiziksel özelliklerinin araştırılması

    Preparation and investigation of physical properties of the photovoltaic Ge-ZnO nanocomposite thin films

    JANAN M.ALİ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2013

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. ABDULLAH CEYLAN

  2. NiO ince film bazlı elektrokromik kaplama/cihaz tasarımı, hazırlanması ve karakterizasyonu

    Design, preparation and characterization of electrochromic coating/device based on NiO thin film

    GAMZE ATAK

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2017

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. ÖZLEM DUYAR COŞKUN

  3. TiN ve TiO2 ince filmlerinin hazırlanması ve optik özelliklerinin incelenmesi

    Preparation of tin and TiO2 thin films and investigation of their optical properties

    AYŞE BEGÜM ARIĞ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2010

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HÜSEYİN ZAFER DURUSOY

  4. p-SnS/n-CdS yarıiletken heteroeklemin karakterizasyonu

    Characterization of p-SnS/n-CdS semiconductor heterojunction

    SONER ALPDOĞAN

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2018

    Fizik ve Fizik MühendisliğiMersin Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HÜLYA METİN GÜBÜR

    PROF. DR. ABDULLAH CEYLAN

  5. Co katkılı ZnO seyreltik manyetik ince filmlerin sentezi ve fiziksel özellikleri

    Synthesis and physical properties of Co doped ZnO diluted magnetic thin films

    MUSA MUTLU CAN

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2011

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. TEZER FIRAT