Geri Dön

Study of low-frequency noise in amorphous silicon

Başlık çevirisi mevcut değil.

  1. Tez No: 3773
  2. Yazar: İ. HAKAN PEKCAN
  3. Danışmanlar: DOÇ. DR. YEKTA ÜLGEN
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Elektrik ve Elektronik Mühendisliği, Electrical and Electronics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 1987
  8. Dil: İngilizce
  9. Üniversite: Boğaziçi Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 68

Özet

Bu çalışmada, amorf silisyum filmler oluşturdukları gürültü açısından incelenmiştir. Omik kontaklı olan filmler vakumda elektron tabancası ile buharlaştı rılarak iki farklı geometride gerçekleştiril miştir. 10 Hertz' den 4.4 kHz 'e kadar! ık bir frekans ekseni boyunca gürültü spektrumu belirlenmiş ve bu frekans bölgesindeki ölçümler l/f tipi karakteristiğin geçerli olduğunu göstermiştir, ölçümlerde doğru akım kutuplama gerilimi ve sıcaklık değiştirilerek etkin gürültü direnci belirlenmiştir. Artan sıcaklıklarda (>300°K) gürültü seviye sinin azaldığı görülmüştür. Oda sıcaklığında fonon yardımlı atlama olayı ile gürültü oluşumu arasında ilişki kurulmuş ve bu bölgede Fermi seviyesi durum yoğunluğunun, gürültü ölçme yöntemiyle hesapla nabileceği gösterilmiştir. Ayrıca, amorf olmayan silisyum kristalinin gürültüsü de ölçülerek, amorf silisyumdan daha gürültülü olduğu gözlenmiştir.

Özet (Çeviri)

In this thesis, amorphous silicon films are fabricated and their low-frequency noise properties are investigated over the range of 10 Hz to 4.4 kHz. The ohmic contacted films are produced in two different geometries using the electron gun vacuum-evaporation technique. The noise measurements carried out at low-frequencies show that, 1/f noise is dominant in this frequency region. Effects of d.c. biasing and increasing ambient temperature are also investigated; increasing temperature (>300 °K) decreases the low-frequency noise power level. The relationship between the hopping rate and the 1/f noise is verified. It is also shown that, the density of states near the Fermi level can be calculated from 1/f noise measurements. Amorphous silicon films are found to be noisier than the crystalline structure.

Benzer Tezler

  1. Fabrication and characterization of miniaturized fluxgate sensors

    Minyatürize edilmiş fluxgate sensörlerin fabrikasyonu ve karakterizasyonu

    FATMANUR KOCAMAN

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2019

    Mühendislik BilimleriGebze Teknik Üniversitesi

    Nanobilim ve Nanomühendislik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MUHAMMED HASAN ASLAN

    DR. ÖĞR. ÜYESİ TURGUT TUT

  2. Dalgacık analizi kullanılarak optik fotoğraflardan bulutluluk oranı tayini

    Cloudiness ratio determination from optic photographs using wavelet analysis

    UĞUR BERKAY KAHVECİ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2018

    Enerjiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Enerji Bilim ve Teknoloji Ana Bilim Dalı

    DR. ÖĞR. ÜYESİ BURAK BARUTÇU

  3. Computational and experimental investigation of low frequency noise in passenger vehicles

    Binek araçlardaki düşük frekanslı gürültünün hesaplamalı ve deneysel yöntemlerle araştırılması

    AKIN OKTAV

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2016

    Makine MühendisliğiBoğaziçi Üniversitesi

    Makine Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. GÜNAY ANLAŞ

    DOÇ. DR. ÇETİN YILMAZ

  4. Türkiye Denizleri'nde insan kaynaklı darbeli gürültülerin incelenmesi

    Study of human generated impulsive noise in Turkish seas

    EMİNE BETÜL GEZER

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2022

    Deniz Bilimleriİstanbul Üniversitesi

    Fiziksel Oşinografi ve Deniz Biyolojisi Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. HÜSNE ALTIOK

  5. Gemi makinelerinin yataklanması ve titreşim etüdü

    Marine engine foundation and study of vibration

    AKİLE NEŞE HALİLBEŞE

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2015

    Gemi Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Gemi İnşaatı ve Gemi Makineleri Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. OSMAN AZMİ ÖZSOYSAL