Geri Dön

Dynamic ion behavior in plasma source ion implantation

Plazma kaynaklı iyon ekiminde dinamik iyon hareketi

  1. Tez No: 172293
  2. Yazar: BİGE BOZKURT
  3. Danışmanlar: PROF.DR. SİNAN BİLİKMEN
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: tyon Ekimi, Plazma Kaynaklı İyon Ekimi, Dinamik İyon Ha reketi, Sayısal Çözümleme, Modelleme, Ion implantation, Plasma Source Ion Implantation, Plasma Immer sion Ion Implantation, Dynamic Ion Behavior, Modeling
  7. Yıl: 2006
  8. Dil: İngilizce
  9. Üniversite: Orta Doğu Teknik Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Bölümü
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

öz PLAZMA KAYNAKLI İYON EKİMİNDE DİNAMİK İYON HAREKETİ Bozkurt, Bilge Yüksek Lisans, Fizik Bölümü Tez Yöneticisi: Prof. Dr. Sinan Bilikmen Ocak 2006, 74 sayfa Bu çalışmanın amacı, plazma kaynaklı iyon ekimi ile düzlemsel ve silindirik he defler için endüstriyel uygulama düşünülerek iyon-matris plakalarının evrimi esnasındaki dinamik iyon hareketini analitik olarak çalışmak ve sonra bu dina mik iyon hareketini sayısal olarak simüle eden bir kod geliştirmektir. Eğer bir deşarj tüpünde elektrotlar arası mesafe az ise, elektrotlar arasına yüksek bir potansiyel uygulandığında, tüm elektrotlar arası mesafeyi dolduran bir iyon- matris plakası oluşur. Kısa bir süre sonra iyon-matris plakası katoda doğru ha reket etmeye başlar ve orada kaybolur. Matris plakasının evrimi esnasında iki bölge oluşur. Bu iki bölgenin potansiyel profili türetilmiş ve katottaki iyon akısı hesap edilmiştir. Sonra, sonlu farklar metodu kullanılarak problem sayısal ola rak simüle edilmiştir. Analitik hesaplamaların sonuçları ile sayısal simülasyonla- rın uyumlu olduğu gözlemlenmiştir.

Özet (Çeviri)

ABSTRACT DYNAMIC ION BEHAVIOR IN PLASMA SOURCE ION IMPLANTATION Bozkurt, Bilge M. S., Department of Physics Supervisor: Prof. Dr. Sinan Bilikmen January 2006, 74 pages The aim of this work is to analytically treat the dynamic ion behavior during the evolution of the ion matrix sheath, considering the industrial application plasma source ion implantation for both planar and cylindrical targets, and then to de velop a code that simulates this dynamic ion behavior numerically. If the sepa ration between the electrodes in a discharge tube is small, upon the application of a large potential between the electrodes, an ion matrix sheath is formed, which fills the whole inter-electrode space. After a short time, the ion matrix sheath starts moving towards the cathode and disappears there. Two regions are formed as the matrix sheath evolves. The potential profiles of these two regions are derived and the ion flux on the cathode is estimated. Then, by us ing the finite-differences method, the problem is simulated numerically. It has been seen that the results of both analytical calculations and numerical simula tions are in a good agreement.

Benzer Tezler

  1. ZrB-ZrBN çok katlı kaplamaların korozyon davranışı

    Başlık çevirisi yok

    O.LEVENT ERYILMAZ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1996

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    DOÇ.DR. MUSTAFA ÜRGEN

  2. Statistical investigation of magnetosphere-ionosphere-ground interaction over mid-latitudes during geomagnetic storms

    Jeomanyetik fırtınalar sırasında orta enlemlerdeki manyetosfer-iyonosfer-yer etkileşiminin istatistiksel olarak incelenmesi

    EZGİ GÜLAY

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2023

    Bilim ve Teknolojiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Meteoroloji Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. ZEREFŞAN KAYMAZ

  3. TİN kaplama parametrelerinin aşınma davranışı üzerindeki etkisi

    The Effect of coating parameters on the wear behaviour of TİN

    OĞUZ AKKAŞ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1998

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. E. SABRİ KAYALI

  4. Amorf silisyumda staebler wronski etkisinin fotoiletkenlik parametresi üzerindeki rolü

    The Role of staebler-wronski effect on the prameter of photocondictivity in amorphus silicon

    SEVİLAY UĞUR

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    1995

    Fizik ve Fizik Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    DOÇ.DR. FATMA TEPEHAN

  5. Aloe vera (AV) katkılı poli (bütilen adipat-ko-tereftalat) (PBAT) doku iskelesi ile fotobiyomodüle kalp yaması geliştirilmesi

    Development of photobiomodulated cardiac patch with Aloe vera (AV) doped poly (butylene adipate-co-terephthalate) (PBAT) scaffolds

    TUĞÇE GÜLTAN

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2024

    Kimya MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MENEMŞE GÜMÜŞDERELİOĞLU

    PROF. DR. SULTAN BELGİN İŞGÖR