Investigation of structural, optical and electrical characteristics of ZnO-SnO2 thin films deposited by filtered vacuum arc deposition system
Filtreli vakum ark depolama sistemiyle üretilen ZnO-SnO2 ince filmlerin yapısal, optiksel ve elektriksel özelliklerinin incelenmesi
- Tez No: 212519
- Danışmanlar: PROF. DR. YÜKSEL UFUKTEPE
- Tez Türü: Doktora
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Filtreli Vakum Ark, ZnO-SnO2, Optik Karakterizasyon, Özdireç, Kimyasal ve Termal Dayanıklılık, Filtered Vacuum Arc, ZnO-SnO2, Optical Characterization, Resistivity, Chemical and Thermal Stability
- Yıl: 2007
- Dil: İngilizce
- Üniversite: Çukurova Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 329
Özet
Araştırma konusunun amaçları ZnO-SnO2 ince filmleri FVAD sistemini kullanarak depolamak, ve depolama koşullarının etkileri ve depolama sonrası tavlama işleminin depolanan filmlerin özelliklerine etkisinin araştırılmasıydı. Kimyasal komposisyon, kristal yapı, yüzey morfolojisi, elektriksel özdirenç ve optik özellikler belirlendi. Ek olarak, depolanan ZnO-SnO2 ince filmlerin karakteristikleri aynı FVAD sistemini kullanarak üretilen ZnO, ve SnO2 ince filmler ile karşılaştırıdı. Depolanan filmlerin kimyasal ve ısısal kararlıklarıda aynı zamanda test edildi. ZnO-SnO2 ince filmler farklı Sn atomik konsantrasyonları içeren çinko katotlar kullanılarak UV fuse silica (UVFS) ve cam alttabanlar üzerine FVAD sistemiyle üretildi. Filmler farklı oksijen basınç, ark akım, ve alttaban sıcaklıkları kullanılarak depolandı. Oksijen basıncı 0.53 Pa -1.06 Pa aralığında alındı. Alttaban sıcaklığı oda sıcaklığı, 200 veya 400oC olarak ayarlandı. Vakum ark akımı 150-300 A ve depolama zamanı 60-240 s aralığındaydı. Ek olarak, depolanan filmlerin özelliklerinin hava veya argon atmosferinde iyileştiği depolama sonrası uygulanan tavlama ve testle belirlendi.
Özet (Çeviri)
The objectives of the present research were the deposition of zinc stannate thin films using FVAD system, and the investigation of the effect of deposition conditions and the post-deposition annealing on the properties of deposited films. The chemical concentration, crystal structure, surface morphology, electrical resistivity and optical properties were determined. In addition, the characteristics of the zinc stannate thin films were compared with those of ZnO and SnO2 thin films deposited using the same FVAD system. Chemical and thermal stability of the deposited films were also determined. The ZnO-SnO2 thin films were deposited using zinc cathodes that contained Sn with different atomic percentages by filtered vacuum arc deposition (FVAD) system on UV fused silica (UVFS) and glass substrates. The films were deposited using a range of background oxygen pressure, arc current, and substrate temperature. The oxygen background pressure was in the range 0.53 to 1.06 Pa. The substrate temperature was room temperature, 200 or 400 °C. The arc current of the vacuum arc was in the range 150 to 300 A and the deposition time was 60 s to 240 s. In addition, post-deposition annealing was applied and tested whether it improves the properties of deposited films in air or argon atmospheres.
Benzer Tezler
- Kimyasal püskürtme yöntemiyle hazırlanan ZnO mikroçubukların bazı yapısal, optik ve schottky diyot özelliklerinin incelenmesi
The investigation of some structural, optical and schottky diode properties of ZnO microrods prepared by spray pyrolysis method
EDA ABBASOĞLU
Yüksek Lisans
Türkçe
2013
Fizik ve Fizik MühendisliğiKaradeniz Teknik ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. TAYFUR KÜÇÜKÖMEROĞLU
- Capacitance-voltage and current-voltage characteristic properties of ZnO:Al/p-Si heterojunction
ZnO:Al/p-Si heterokavşakların kapasitans-voltaj ve akım-voltaj karakteristik özellikleri
YELİZ KÖSE
Yüksek Lisans
İngilizce
2015
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiMetalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. MURAT BAYDOĞAN
- Preparation of indium tin oxide thin films and investigation of hydrogen post-treatment effect
İndiyum kalay oksit ince filmlerin hazırlanması ve hidrojen ile indirgeme etkisinin incelenmesi
GÖKÇEN GÖKÇELİ
Yüksek Lisans
İngilizce
2018
Mühendislik Bilimleriİstanbul Teknik ÜniversitesiNanobilim ve Nanomühendislik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. NİLGÜN YAVUZ
- Investigation on structural, optical and electrical properties and behaviour against gamma irradiation of Al: ZnO thin films prepared by sol-gel spin coating method
Sol-gel döndürerek kaplama ile hazırlanan Al: ZnO filmlerin yapısal, optik, elektrik özelliklerinin ve radyasyona karşı davranışlarının incelenmesi
MELİHA TEKİN
Yüksek Lisans
İngilizce
2009
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiDOÇ. DR. NİLGÜN BAYDOĞAN
PROF. DR. EYÜP SABRİ KAYALI
- Döndürerek kaplama yöntemiyle farklı tavlama sıcaklıklarında üretilen ZnO yarıiletken filmlerinin bazı fiziksel özelliklerinin incelenmesi
The investigation of the some physical properties of ZnO semiconductor films produced by spin coating method at different annealing temperatures
SENA ALTUNCU
Yüksek Lisans
Türkçe
2012
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. MEHMET PEKER