Kimyasal püskürtme tekniği ile üretilen CdO bileşiklerinin yapısal ve optik özellikleri
The structural and optical properties of CdO compounds produced by chemical spray pyrolysis technique
- Tez No: 292577
- Danışmanlar: YRD. DOÇ. DR. SENEM AYDOĞU
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2011
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Dumlupınar Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 86
Özet
Bu çalışmada, katkısız ve farklı oranlarda (%0, %2, %4, %6 ve %8) flor katkılı CdO yarıiletken filmleri kimyasal püskürtme yöntemi ile cam tabanlar üzerine 250 ? taban sıcaklığında üretilmiştir. CdO yarıiletken filmlerinin yapısal ve optiksel özelliklerine F katkısının etkisi araştırılmıştır. Üretilen yarıiletken ince filmlerin kalınlıkları, 0.078-0.150 µm arasında değişmektedir. CdO:F filmlerinin soğurma spektrumlarından direkt band geçişli oldukları ve yasak enerji aralıklarının 2,60-3,40 eV arasında değiştiği görülmüştür.X-ışınları kırınım desenlerinden elde edilen filmlerin yapısının polikristal ve yüzey merkezli kübik yapıda oldukları belirlenmiştir. Katkısız ve F katkılı CdO ince filmlerinin x-ışını kırınım deseninden yararlanarak a örgü sabiti değerlerinin 4,68514 ? ile 4,7067 ? arasında, tanecik büyüklüklerinin 215 ? ile 265 ? arasında ve dislokasyon yoğunluklarının 1,418×10-3 (nm)-2 ile 2,16132×10-3 (nm)-2 arasında oldukları hesaplanmıştır.
Özet (Çeviri)
In this study, undoped and CdO semiconductor films doped with different fluorine concentrations (at %2, %4, %6 and %8) were produced at 250 ? substrate temperature on the glass substrates by the chemical spray pyrolysis technique. The effect of F doping on the structural and optical properties of CdO semiconductor films has been investigated. The thicknesses of produced semiconductor thin films were changed between 0.078 µm and 0.150 µm. It was seen that CdO:F films have the direct band gap and the forbidden energy band gap values of these films were changed between 2.60 and 3.40 eV by using optical technique.It was determined that the films were formed in the polycrystalline and face centered cubic structure by X-ray diffraction spectra. a lattice constants, the grain sizes and the dislocation densities of undoped and F-doped CdO thin films were calculated as between 4.68514 ? and 4.7067 ?, between 215 ? and 265 ? and between 1.41863×10-3 (nm)-2 and 2.16132×10-3 (nm)-2 by using the x-ray diffraction patterns, respectively.
Benzer Tezler
- Kimyasal püskürtme tekniği ile üretilen katkısız ve Ga katkılı CdO bileşiklerinin yapısal, optiksel ve elektriksel özellikleri
The structural, optıcal and electrıcal propertıes of CdO and Ga doped CdO compounds produced by chemıcal spray prolysıs technıque
GÖKHAN ÇABUK
Yüksek Lisans
Türkçe
2012
Fizik ve Fizik MühendisliğiDumlupınar ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. SENEM AYDOĞU
- Farklı gaz ortamlarında tavlanan CdO filmlerinin incelenmesi
Characterization of CdO films annealed at different gas atmospheres
KUTAY YAMAN
Yüksek Lisans
Türkçe
2014
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. İDRİS AKYÜZ
- Kimyasal püskürtme tekniği ile üretilen Al katkılı CdS filmlerinnin bazı fiziksel özellikleri
Some physical properties of Al doped CdS films produced by spray pyrolysis technique
SEVAL ATEŞ
Doktora
Türkçe
2015
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. YRD.DOÇ.DR.SALİH KÖSE
- Kimyasal püskürtme tekniği ile üretilen katkısız ve Ga katkılı ZnO bileşiklerinin yapısal,optiksel ve elektriksel özellikleri
The structural, optical and electrical properties of undoped and Ga doped ZnO compounds produced by chemical spray prolysis technique
SEDA UZKALAN
Yüksek Lisans
Türkçe
2017
Fizik ve Fizik MühendisliğiDumlupınar ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. HURİYE SENEM AYDOĞU
- Ultrasonik kimyasal püskürtme tekniği ile üretilen TiO2 filmlerinin yapısal, optik, yüzey ve fotokatalitik özellikleri üzerine farklı ortamlarda tavlama işleminin etkisi
The effect of annealing in different atmospheres on the structural, optical, surface and photocatalytic properties of TiO2 films produced by ultrasonic spray pyrolysis technique
MÜGE SÖYLEYİCİ ÇERGEL
Doktora
Türkçe
2018
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. FERHUNDE ATAY