Geri Dön

Kimyasal püskürtme tekniği ile üretilen CdO bileşiklerinin yapısal ve optik özellikleri

The structural and optical properties of CdO compounds produced by chemical spray pyrolysis technique

  1. Tez No: 292577
  2. Yazar: MUSTAFA BURAK ÇOBAN
  3. Danışmanlar: YRD. DOÇ. DR. SENEM AYDOĞU
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2011
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Dumlupınar Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 86

Özet

Bu çalışmada, katkısız ve farklı oranlarda (%0, %2, %4, %6 ve %8) flor katkılı CdO yarıiletken filmleri kimyasal püskürtme yöntemi ile cam tabanlar üzerine 250 ? taban sıcaklığında üretilmiştir. CdO yarıiletken filmlerinin yapısal ve optiksel özelliklerine F katkısının etkisi araştırılmıştır. Üretilen yarıiletken ince filmlerin kalınlıkları, 0.078-0.150 µm arasında değişmektedir. CdO:F filmlerinin soğurma spektrumlarından direkt band geçişli oldukları ve yasak enerji aralıklarının 2,60-3,40 eV arasında değiştiği görülmüştür.X-ışınları kırınım desenlerinden elde edilen filmlerin yapısının polikristal ve yüzey merkezli kübik yapıda oldukları belirlenmiştir. Katkısız ve F katkılı CdO ince filmlerinin x-ışını kırınım deseninden yararlanarak a örgü sabiti değerlerinin 4,68514 ? ile 4,7067 ? arasında, tanecik büyüklüklerinin 215 ? ile 265 ? arasında ve dislokasyon yoğunluklarının 1,418×10-3 (nm)-2 ile 2,16132×10-3 (nm)-2 arasında oldukları hesaplanmıştır.

Özet (Çeviri)

In this study, undoped and CdO semiconductor films doped with different fluorine concentrations (at %2, %4, %6 and %8) were produced at 250 ? substrate temperature on the glass substrates by the chemical spray pyrolysis technique. The effect of F doping on the structural and optical properties of CdO semiconductor films has been investigated. The thicknesses of produced semiconductor thin films were changed between 0.078 µm and 0.150 µm. It was seen that CdO:F films have the direct band gap and the forbidden energy band gap values of these films were changed between 2.60 and 3.40 eV by using optical technique.It was determined that the films were formed in the polycrystalline and face centered cubic structure by X-ray diffraction spectra. a lattice constants, the grain sizes and the dislocation densities of undoped and F-doped CdO thin films were calculated as between 4.68514 ? and 4.7067 ?, between 215 ? and 265 ? and between 1.41863×10-3 (nm)-2 and 2.16132×10-3 (nm)-2 by using the x-ray diffraction patterns, respectively.

Benzer Tezler

  1. Kimyasal püskürtme tekniği ile üretilen katkısız ve Ga katkılı CdO bileşiklerinin yapısal, optiksel ve elektriksel özellikleri

    The structural, optıcal and electrıcal propertıes of CdO and Ga doped CdO compounds produced by chemıcal spray prolysıs technıque

    GÖKHAN ÇABUK

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2012

    Fizik ve Fizik MühendisliğiDumlupınar Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    YRD. DOÇ. DR. SENEM AYDOĞU

  2. Farklı gaz ortamlarında tavlanan CdO filmlerinin incelenmesi

    Characterization of CdO films annealed at different gas atmospheres

    KUTAY YAMAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2014

    Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. İDRİS AKYÜZ

  3. Kimyasal püskürtme tekniği ile üretilen Al katkılı CdS filmlerinnin bazı fiziksel özellikleri

    Some physical properties of Al doped CdS films produced by spray pyrolysis technique

    SEVAL ATEŞ

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2015

    Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    YRD. DOÇ. DR. YRD.DOÇ.DR.SALİH KÖSE

  4. Kimyasal püskürtme tekniği ile üretilen katkısız ve Ga katkılı ZnO bileşiklerinin yapısal,optiksel ve elektriksel özellikleri

    The structural, optical and electrical properties of undoped and Ga doped ZnO compounds produced by chemical spray prolysis technique

    SEDA UZKALAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2017

    Fizik ve Fizik MühendisliğiDumlupınar Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. HURİYE SENEM AYDOĞU

  5. Ultrasonik kimyasal püskürtme tekniği ile üretilen TiO2 filmlerinin yapısal, optik, yüzey ve fotokatalitik özellikleri üzerine farklı ortamlarda tavlama işleminin etkisi

    The effect of annealing in different atmospheres on the structural, optical, surface and photocatalytic properties of TiO2 films produced by ultrasonic spray pyrolysis technique

    MÜGE SÖYLEYİCİ ÇERGEL

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2018

    Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. FERHUNDE ATAY