Geri Dön

Systematical cvd growth and characterization of 2d ws2

2b ws2'in cvd yöntemi ile büyütülmesi ve karakterizasyonu

  1. Tez No: 582239
  2. Yazar: BÜŞRA YORULMAZ
  3. Danışmanlar: DOÇ. DR. NİHAN KOSKU PERKGÖZ
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Metalurji Mühendisliği, Mühendislik Bilimleri, Physics and Physics Engineering, Metallurgical Engineering, Engineering Sciences
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2019
  8. Dil: İngilizce
  9. Üniversite: Eskişehir Teknik Üniversitesi
  10. Enstitü: Lisansüstü Eğitim Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 76

Özet

MoS2, WS2 ve MoSe2 gibi tek tabakalı GMK (geçiş metal dikalkojenitleri), optikte dedektör, elektronikte transistör ve sensör olarak kullanılmasını sağlayan doğrudan bir bant aralığına sahiptir. Bu GMK arasında, atomik kalınlıkta, geniş alanlı WS2, doğrudan bant aralığı, yüksek bant aralığı enerjisi, yüksek foto lüminesans ışıması ve düşük yanıt süresi gibi benzersiz özellikleri nedeniyle büyük ilgi görmektedir. Son birkaç yıldır farklı araştırma grupları tarafından rapor edilen umut verici sonuçlara rağmen, CVD sürecinin temel anlayışına dair genel bir içgörü hala eksiktir ve büyük ölçekli, düşük maliyetli tek katmanlı büyümeyi gerçekleştirme hedefi tam olarak yerine getirilememiştir. Bu çalışmada, sistematik bir şekilde, kimyasal buhar biriktirme (CVD) tekniği ile kontollü olarak, tek katmanlı tungsten disülfür (WS2) büyümesini sunuyoruz. İki boyutlu (2B) WS2 sentezi hakkında, ana taşıyıcı gaza H2 gazı ilave etme, büyüme süresi ve sıcaklığı gibi proses parametrelerinin kapsamlı bir araştırmasıyla iki boyutlu (2B) WS2 sentezi hakkında bilgi edindik. Ayrıca, WO3 ile ilgili radikal buhar yoğunluğunu değiştirerek, tek tabakalı yapıların içindeki tohum oluşumlarının kontrolünü gerçekleştirdik. İndirgeyici reaktif doğası gereği, taşıyıcı gaza H2 gazı eklenmesinin doğrudan WO3 indirgemesine dahil olduğunu doğruladık. Böylece daha etkili sülfürizasyon gereksinimi ve dolayısıyla tek tabakalı oluşum süreci elde edildi. Ek olarak, büyüme konfigürasyonunu geliştirerek ve reaktif radikalleri sınırlayarak, tungsten buharı yoğunluğu artmış bir ortam elde ettik. Böylece, bu yapıları pratik uygulamalarda için kullanmakta hala teknolojik bir zorluk olan, daha büyük tek tabakalı WS2 yongalar ve filmler elde etmeyi başardık. Büyüme işleminin daha da iyileştirilmesi, uygulamalarda tek tabakalı yongaların veya filmlerin cihaz performansını düşürebilecek istenmeyen tohum oluşumlarını ve ilave katmanların oluşumlarını önlemek için büyüme süresinin değiştirilmesi şeklinde sunulmuştur.

Özet (Çeviri)

TMDC monolayers such as MoS2, WS2, and MoSe2 possess a direct bandgap, which allows them to be utilized as detectors in optics, as transistors and sensors in electronics. Among these TMDCs, atomically thin, large area WS2 has great interest due to its unique properties such as direct bandgap, large bandgap energy, high photoluminescence intensity and low response time. Despite the promising results which have been reported by different research groups for the last few years, still a general insight towards the basic understanding of the CVD process is missing and the aim of realizing large-scale, low- cost monolayer growth is not fully accomplished. In this work, we present a controlled growth of monolayer tungsten disulfide (WS2) via chemical vapor deposition (CVD) technique in a systematic sequence. We have gained knowledge about two-dimensional (2D) WS2 synthesis with a comprehensive investigation of process parameters such as H2 gas inclusion into the main carrier gas, growth duration and temperature. Moreover, by changing the radical vapor density associated with WO3, we realized seed formations control inside the monolayer structures. We confirm that, via its reductive reagent nature, H2 gas inclusion into the carrier gas is directly involved in WO3 reduction. So that requirement of more effective sulfurization consequently monolayer formation process is achieved. In addition, by developing the growth configuration and restricting the reactant radicals, we obtained increased tungsten vapor density ambient. Therefore, we succeed in obtaining larger WS2 monolayer flakes and films, which is still a technological challenge in order to utilize these structures for practical applications. Further optimization of the growth process is presented by modifying the growth duration to avoid the undesired seed formations and additional layers which will conceivably limit the device performance of the monolayer flakes or films when applied.

Benzer Tezler

  1. Two-dimensional transition metal dichalcogenide (TMDC) alloys and devices

    İki boyutlu geçiş metal dikalkogenit (GMDK) alaşımları ve aygıtları

    MEHMET BAY

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2019

    Elektrik ve Elektronik MühendisliğiEskişehir Teknik Üniversitesi

    Elektrik-Elektronik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. NİHAN KOSKU PERKGÖZ

  2. 2D materials and their hetero bilayer systems for optoelectronic applications

    Optoelektronik uygulamalar için 2B malzemeler ve bunların hetero 2-katmanlı systemleri

    YAHAYA SHEHU

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2019

    Elektrik ve Elektronik MühendisliğiEskişehir Teknik Üniversitesi

    Elektrik-Elektronik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. NİHAN KOSKU PERKGÖZ

  3. Silicon based dielectrics: Growth, characterization, and applications in integrated optics

    Silisyum tabanlı dielektrikler: Tümleşik optikte kullanıma yönelik büyütme ve inceleme

    FERİDUN AY

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2005

    Elektrik ve Elektronik Mühendisliğiİhsan Doğramacı Bilkent Üniversitesi

    Elektrik-Elektronik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. ATİLLA AYDINLI

  4. 2B organik-inorganik hibrit perovskit/geçiş metali dikalkojenit heteroyapılı optik soğurma tabakalarının geliştirilmesi

    Development of 2D organic-inorganic hybrid perovskite/transition metal dichalcogenide heterostructured optical absorption layers

    ALP YILMAZ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2024

    Bilim ve TeknolojiTOBB Ekonomi ve Teknoloji Üniversitesi

    Mikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı

    DR. ÖĞR. ÜYESİ AYDAN YELTİK

  5. Çelik üzerinde titanyum karbür katmanlarının katodik ark FBB temelli yayındırma yöntemi ile üretilmesi

    Production of titanium carbides on steel via diffusion based cathodic arc PVD method

    ERKAN KAÇAR

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2022

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MUSTAFA KAMİL ÜRGEN