Geri Dön

Analysis of boron doped hydrogenated amorphous silicon carbide thin film for silicon heterojunction solar cells

Bor katkılı hidrojene amorf silisyum karbür katmanının silisyum heterojunction güneş pilleri için analizi

  1. Tez No: 600236
  2. Yazar: ARGHAVAN SALIMI
  3. Danışmanlar: PROF. DR. RAŞİT TURAN, YRD. DOÇ. DR. SELÇUK YERCİ
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Mühendislik Bilimleri, Engineering Sciences
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2019
  8. Dil: İngilizce
  9. Üniversite: Orta Doğu Teknik Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Mikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 113

Özet

Fotovoltaik endüstrisinde baskın olan güneş hücreleri silisyum bazlı güneş hücreleridir. Son zamanlarda, daha yüksek verimlilik ve daha düşük maliyetle c-Si güneş pilleri geliştirme çabaları artmaktadır. Bunlar arasında, silisyum hetero eklem guneş hücresi (SHJ), hem Ar-Ge hem de endüstriyel seviyelerde gösterilen üstün performans değerleri nedeniyle çok dikkat çekmektedir. silisyum güneş hücresini sınırlayan kriterlerinden biri, ön yüzeyde uygun pasivasyon sağlayarak çözülebilen ön kısımdaki yeniden birleşmedir. Amorf silisyum (a-Si) durumunda ise, fotonların parazitik emilimi ve azınlık taşıyıcıların yeniden birleşmesi oldukça yüksektir, dolayısıyla bu engellerin üstesinden gelmek için bant aralığını artırılması yaklaşımlardan birisidir. Amorf silisyum bant aralığını arttırmanın bir yolu, bor katkılama işlemi sırasında karbon ekleme ve amorf silisyum hidrojenlenmesi (a-Si: H). Genel olarak, p-tipi a-Si bant aralığı, yaklaşık 1,6 eV civarında ve a-Si bant aralığına yakındır. Bu arada, karbon alaşımları sayesinde bant aralığı 1,6 eV'dan 2,4 eV'a çıkarmamızı sağlamaktadır. Silisyumdaki bor difüzyonu zorlu bir konu olmasına rağmen, bor hala p-tipi amorf silisyum için hâkim bir katkı maddesidir. Bu çalışmada, PECVD tarafından biriktirilen boron'un a-Si: H katkılı bant yapısını yapıya karbon katmak suretiyle arttırmaya çalıştık. Üretim sıcaklığı, PECVD'nin RF gücü ve gaz akış hızlarının katkılama, a-Si: H bant aralığı ve yapıya verilen Karbon miktarına olan etkisini görmek için çökeltme parametrelerini değiştirdik. P-aSiC üretimi sonucunda elde ettiğimiz en iyi değer optik bant aralığı 1,89eV ve karanlık iletkenliği 1,8×10-5 (Ω.cm)-1 olarak bulunmuştur. Üretim gücü arrtırıldığında metan molekülleri daha iyi ayrışırken amorf matrise karbon bağlanmaktadır. Metan akış miktarındaki artış sistem içersine C bağlanmasını arttırmaktadır.

Özet (Çeviri)

Silicon based solar cells are the dominant type of solar cells in the photovoltaic industry. Recently, there have been increasing efforts to develop c-Si solar cells with higher efficiency and lower cost. Among them, silicon heterojunction solar cell (SHJ) is attracting much attention because of its superior performance values demonstrated at both R&D and industrial levels. One of the common limiting criteria is the recombination at the front side which can be solved by providing proper passivation at the front contact. In case of amorphous silicon (a-Si), the parasitic absorption of photons and recombination of the minority carriers are considerably high, thus, one approach can be increasing its optical band gap to overcome these impediments. One way to increase the optical band gap of a-Si is adding carbon(C) during boron(B) doping and hydrogenating amorphous silicon (a-Si:H). Generally, the p-type a-Si:H optical band gap is around 1.6 eV which is close to the intrinsic a-Si:H optical band gap. Meanwhile, C alloying allows us to increase the optical band gap from 1.6 up to 2.4 eV. In this work, we tried to increase the optical band gap of B doped a-Si:H deposited by PECVD through introducing C into the structure. We modified the deposition parameters such as deposition temperature, RF power of PECVD, and precursors gas flow rates to see their effects on the doping, a-Si:H optical band gap, and amount of C introduced into the structure. The best characteristic parameters that we have achieved for p-a-SiC:H is optical band gap of 1.89 eV with dark conductivity of 1.8×10-5 (Ω.cm)-1. By increasing the RF-power, we have observed that the methane molecules decompose better and C atom incorporates into the structure. Also, increasing the methane flow rate improved the C incorporation within the structure.

Benzer Tezler

  1. Characterization and fabrication of silicon thin films for solar cell applications

    Güneş gözeleri uygulamaları için silisyum ince filmlerin üretim ve karakterizasyonları

    MEHMET KARAMAN

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2011

    EnerjiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Mikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. RAŞİT TURAN

    YRD. DOÇ. DR. H. EMRAH ÜNALAN

  2. Synthesis and in vitro analysis of boron doped 45S5 bioglass paste used for dentine hypersensitivity treatment

    Dentin hipersensitivite tedavisinde kullanılan bor katkılı 45S5 biyoglas macunu sentezi ve in vitro analizi

    RAZAN ALMNAWER

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2022

    BiyomühendislikKarabük Üniversitesi

    Biyomedikal Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DR. ÖĞR. ÜYESİ AMMAR ZEIDAN GHAILAN ALSHEMARY

  3. Mikrobiyal yakıt hücresi katot katalizörü olarak bor katkılı düzenli mezo gözenekli karbon sentezi

    Synthesis of boron doped ordered mesoporous carbons for microbial fuel cell cathode catalyst

    TANER TÜRKER

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2022

    Kimya MühendisliğiGazi Üniversitesi

    Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. FATMA ÇİĞDEM GÜLDÜR

  4. Saf ve bor katkılı indiyum selenit (InSe) tek kristallerinin bridgman yöntemiyle büyütülmesi, yapısal, optik, elektriksel ve fotolüminesans özelliklerinin araştırılması

    Growth of undoped and boron doped indium selenit (InSe) single crystals by bridgman method, investigation of structural, optical, electrical and photoluminescence properties

    HÜSEYİN ERTAP

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2015

    Fizik ve Fizik MühendisliğiKafkas Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MEVLÜT KARABULUT

  5. Sol-jel yöntemi ile katkılı ve katkısız titanyum dioksit tozlarının sentezlenmesi

    The synthesis of doped and non-doped titanium dioxide powders by sol-gel method

    EMRE BANAZ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2009

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Metalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MAHMUT ERCAN AÇMA