Ion implantation for homogeneous and selective emitter formation on single crystal solar cells
İyon implantasyonu ile tek kristal güneş hücrelerinde homojen ve seçici emitter oluşumu
- Tez No: 898808
- Danışmanlar: PROF. DR. RAŞİT TURAN, DR. BÜLENT ARIKAN
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2024
- Dil: İngilizce
- Üniversite: Orta Doğu Teknik Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Mikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 86
Özet
İyon implantasyonu, özellikle tek taraflı katkılama özelliği ile, kristal silisyum bazlı güneş hücrelerinin üretiminde önemli avantajlar sunar. Bu teknik hem bor hem de fosfor emitörlerinin hassas bir şekilde oluşturulmasına olanak tanır ve taşıyıcı konsantrasyonu ve derinliği üzerinde titiz kontrol sağlar. Fosfosilikat Cam (PSG), Borosilikat Cam (BSG) veya Bor Zengin Tabaka (BRL) kaldırma ihtiyacını ortadan kaldırır. Ayrıca, iyon implantasyonu yüksek hassasiyetle seçici emitör yapılarının kolayca oluşturulmasını sağlar. Bu çalışmada, hem p-tipi hem de n-tipi emitör yapılarının üretimi için iyon implantasyonu parametreleri incelenmiştir. Ayrıca, iyon implantasyonu yoluyla seçici emitörler ile PERC (Passivated Emitter Rear Cell) güneş hücreleri üretilmiş ve bunların performansı termal difüzyon süreci kullanılarak üretilen muadilleri ile karşılaştırılmıştır. Sonuçlarımız, iyon implantasyonunun daha iyi bir tekdüzelik ile seçici emitör bölgeleri oluşturabildiğini ve termal difüzyon süreciyle karşılaştırıldığında benzer verimlilik sağladığını göstermektedir, bu da iyon implantasyonunun güneş hücresi performansını artırma potansiyelini ortaya koymaktadır.
Özet (Çeviri)
Ion implantation offers significant advantages in the production of crystalline silicon-based solar cells, notably through its capability for single-sided doping. This technique enables the precise creation of both boron and phosphorus emitters, allowing for meticulous control over dopant concentration and junction depth, eliminating the need for Phosphosilicate Glass (PSG), Borosilicate Glass (BSG), or Boron Rich Layer (BRL) removal. Additionally, ion implantation facilitates the straightforward formation of selective emitter structures with high precision. In this study, we investigate the ion implantation parameters for fabricating both p-type and n-type emitter structures. Furthermore, we produce PERC (Passivated Emitter Rear Cell) solar cells with selective emitters via ion implantation and compare the performance with those produced using the thermal diffusion process. Our results demonstrate that ion implantation can create selective emitter regions with better uniformity and similar efficiency when compared with the thermal diffusion process, showcasing its potential for enhancing solar cell performance.
Benzer Tezler
- Microstructural and mechanical characterization of nitrogen ion implanted and plasma ion nitrided plastic injection mould steel
Nitrojen iyonu implante edilmiş ve plazma nitrasyonu yapılmış plastik injeksiyon kalıp çeliğinin mikroyapısal ve mekanik özelliklerinin karakterizasyonu
ORTAÇ ONMUŞ
Yüksek Lisans
İngilizce
2003
Metalurji Mühendisliğiİzmir Yüksek Teknoloji EnstitüsüMalzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. ORHAN ÖZTÜRK
DOÇ. DR. MUSTAFA GÜDEN
- Moleküler baskılanmış kriyojel disklerden florourasil salınımı
Fluorouracil delivery from molecularly imprinted cryogel disks
KEMAL ÇETİN
- Dynamic ion behavior in plasma source ion implantation
Plazma kaynaklı iyon ekiminde dinamik iyon hareketi
BİGE BOZKURT
Yüksek Lisans
İngilizce
2006
Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik ÜniversitesiFizik Bölümü
PROF.DR. SİNAN BİLİKMEN
- Ion implanted homojunction crystalline silicon solar cells
İyon implante edilmiş homoeklem kristal silisyum güneş hücreleri
GENCE BEKTAŞ
Doktora
İngilizce
2022
EnerjiOrta Doğu Teknik ÜniversitesiMikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAŞİT TURAN
PROF. DR. HÜSNÜ EMRAH ÜNALAN
- Biocompatibility and microstructural characterization of PVD coated and nitrogen implanted Co-Cr alloy
Azot implante edilmiş ve PVD kaplanmış Co-Cr alaşımının mikroyapı karakterizasyonu ve biyouyumluluğu
UĞUR TÜRKAN
Yüksek Lisans
İngilizce
2004
Metalurji Mühendisliğiİzmir Yüksek Teknoloji EnstitüsüMalzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DOÇ.DR. ORHAN ÖZTÜRK
