Geri Dön

Mikro aygıt üretimi için iyon demetli aşındırmanın özelliklerinin incelenmesi

Investigation of ion beam etching for micro device fabrication

  1. Tez No: 914455
  2. Yazar: DİLARA AYGÜN
  3. Danışmanlar: DOÇ. DR. İLBEYİ AVCI
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2024
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Ege Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Genel Fizik Bilim Dalı
  13. Sayfa Sayısı: 66

Özet

Bu tez çalışmasında, mikroaygıt üretimi için ince film kaplaması, fotolitografi ve iyon demetli aşındırma işlemleri (IBE) yapılmış ve elde edilen aygıtların aşındırma morfolojisi AFM ile incelenmiştir. Yapılan aşındırma çalışmaları hem direkt olarak cam altlıklara, hem de bu altlıklar üzerine kaplanmış olan ITO ince filmlere uygulanmıştır. Kalınlığı optimize edildikten sonra 200 nm kalınlığında ITO (indiyum kalay oksit) ince filmler RF magnetron püskürtme ile kaplanmış ve bu filmler üzerinde 10-100 mikrometre aralığında değişen genişliklerde aygıt yapılarının desenlenebilmesi için standart UV fotolitografi işlemleri yapılmıştır. Hem cam hem de ince filmler üzerine aktarılan desenler Ar+ iyon demeti ile 90, 60 ve 45 derece açılarla aşındırılmış, böylece istenilen kenar eğimlerine sahip yapılar (özellikle de basamaklı yapılar) elde edilmiştir. Bu yapılar çok katmanlı aygıt üretimi için önemli olup, ince filmlerin katman bütünlüğü bozulmadan daha ince yapılabilmesi, üstün kontak özelliklerine sahip olması ve dolayısıyla daha performanslı aygıtlar elde edilebilmesini sağlayacak niteliktedir. Aygıt yapılarının ince filmler üzerine desenlenmesi esnasında kullanılan ıslak veya kuru aşındırma yöntemlerine etkili bir alternatif olarak IBE yönteminin kullanımı, proses detayları, parametreleri ve elde edilen yapının özellikleri bu tez kapsamında detaylı şekilde incelenmiştir.

Özet (Çeviri)

In this thesis, thin film deposition, photolithography and ion beam etching (IBE) processes were performed for the fabrication of microdevices and the etching morphologies of obtained devices were investigated by AFM. The etching studies were applied both directly on glass substrates and on ITO thin films deposited on these substrates. With the optimized thickness properties, 200 nm thick ITO (indium tin oxide) thin films were deposited on glass substrates by RF magnetron sputtering and standard UV photolithography were performed to pattern various device structures (10-100 micrometer wide). The patterns transferred on both glass and thin film samples were etched with Ar+ ion beam at 90, 60 and 45 degree angles to obtain step-like structures with desired sidewalls. These structures are important for the fabrication of multilayer devices, enabling the deposition of thinner layers without sidewall coating problems, having superior contact properties with the underlayer and thus enabling the higher performances. The advantages of using the IBE method as an effective alternative to wet or reactive dry etching methods during the patterning of the devices, process details, parameters and properties of the obtained structures have been explained in detail througout the thesis.

Benzer Tezler

  1. Comparison of alloyed and non-alloyed ohmic contacts in GaN/algan HEMT for Ka band radar applications

    Ka bant radar uygulamaları için GaN / algan HEMT yapılarında alaşımlı ve alaşımsız ohmik kontakların karşılaştırılması

    HÜSEYİN ÇAKMAK

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2020

    Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Mikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı

    DR. ÖĞR. ÜYESİ MUHSİNE BİLGE İMER

    DOÇ. DR. ALPAN BEK

  2. Metal-oksit nanotel tabanlı aygıtların üretimi ve karakterizasyonu

    Fabrication and characterization of metal-oxide nanowire based devices

    MUSTAFA COŞKUN

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2017

    Fizik ve Fizik MühendisliğiMarmara Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. FATİH DUMLUDAĞ

    PROF. DR. AHMET ALTINDAL

  3. Fabrication and characterization of magnetic microresonators

    Manyetik mikro-çınlaçların üretimi ve nitelendirilmesi

    HÜSEYİN İLKER OCAKLI

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2008

    Makine MühendisliğiKoç Üniversitesi

    Malzeme Mühendisliği Bölümü

    YRD. DOÇ. DR. BURHANETTİN ERDEM ALACA

  4. Novel estimation and control techniques in micromanipulation using vision and force feedback

    Mikromanipulasyonda görme ve kuvvet tabanlı geribeslemeye dayalı yeni kestirim ve kontrol teknikleri

    HAKAN BİLEN

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2008

    Bilgisayar Mühendisliği Bilimleri-Bilgisayar ve KontrolSabancı Üniversitesi

    Mekatronik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. MUSTAFA ÜNEL

  5. GaN PIN radyasyon sensörü epitaksiyel üretimi ve karakterizasyonu

    Epitaxially growth of GaN-PIN sensor and characterizations

    ÖMER AHMET KAYAL

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2019

    Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi Üniversitesi

    İleri Teknolojiler Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. SEMA BİLGE OCAK

    DOÇ. DR. CANAN AYDAŞ