Geri Dön

Elektron seçici katman olarak ZnO nanoparçacıklar ve thıourea'nın birleşimi ile optoelektronik performansın artırılması

Enhancing optoelectronic performance by combining ZnO nanoparticles and thiourea as an electron selective layer

  1. Tez No: 1001341
  2. Yazar: ERSİN ŞİMŞEK
  3. Danışmanlar: PROF. DR. MURAT SOYLU
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2026
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Bingöl Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

Bu çalışmada, sol-jel spin kaplama tekniği kullanılarak cam ve p-tipi silisyum (p-Si) alttaşlar üzerine sentezlenen katkısız ve tiyoüre (Thiourea, TU) katkılı ZnO ince filmlerin yapısal, optik, elektriksel ve morfolojik özellikleri incelenmiştir. TU katkılı ZnO (TU:ZnO) ince filmlerin yapısal özellikleri X-ışını kırınımı (XRD) analizleri ile değerlendirilmiş ve filmlerin hekzagonal wurtzit kristal yapıya sahip olduğu, özellikle (002) ve (101) düzlemleri boyunca tercihli yönelim sergilediği belirlenmiştir. Optik karakterizasyon sonuçlarına göre, TU katkılı ZnO ince filmlerin optik bant aralığı (Eg) değerleri 3,25–3,26 eV aralığında bulunmuştur. Elektriksel ölçümler, TU katkılı ZnO/p-Si heteroeklem yapılarının belirgin bir doğrultucu davranış sergilediğini ve doğrultma oranının (RR) yaklaşık 10³ mertebesinde olduğunu göstermiştir. Doğrultma davranışının, TU ağırlıkça yüzde içeriğine karşı belirgin bir hassasiyet göstermediği tespit edilmiştir. %0,5 TU katkılı ZnO/p-Si heteroeklem aygıtı için açık devre gerilimi (Voc) 291 mV olarak belirlenmiş olup, TU katkı oranının artmasıyla birlikte Voc değerinde azalma gözlenmiştir. Elde edilen sonuçlar, ZnO ince filmlerde uygun katkılama ve parametre ayarlamalarının, fotovoltaik aygıtlar ve ekran teknolojileri gibi optoelektronik uygulamalarda performansın artırılması açısından önemli bir potansiyele sahip olduğunu ortaya koymaktadır.

Özet (Çeviri)

This study investigates the properties of katkısız and thiourea (TU)-doped ZnO thin films synthesized on glass and p-type silicon (p-Si) substrates using the sol–gel spin coating technique. A comprehensive analysis was carried out to evaluate the structural, electro-optical, and morphological characteristics of TU-doped ZnO (TU:ZnO) thin films. X-ray diffraction (XRD) analyses revealed that the ZnO films exhibit a hexagonal wurtzite crystal structure with preferred orientations along the (002) and (101) planes. Optical measurements indicated that the optical band gap (Eg) values of TU-doped ZnO thin films range between 3.25 and 3.26 eV. Electrical characterization results demonstrated that the TU-doped ZnO/p-Si heterojunction structures exhibit pronounced rectifying behavior, with a rectification ratio on the order of 10³, showing no significant sensitivity to the TU weight percentage. The open-circuit voltage (Voc) of the ZnO/p-Si heterojunction device with 0.5% TU doping was measured as 291 mV, and a decreasing trend in Voc was observed with increasing TU concentration. Overall, the obtained results indicate that optimal doping and appropriate tuning of ZnO thin films hold significant promise for enhancing device performance in photovoltaic technologies and display applications.

Benzer Tezler

  1. Metal oksit inorganik malzemelerin GaAs hücre teknolojisine elektron seçici yayıcı katman olarak entegrasyonu

    Integration of metal oxide inorganic materials into GaAscell technology as electron selective emitter layer

    ELİF YILMAZ

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2024

    Kimya MühendisliğiEskişehir Teknik Üniversitesi

    Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. MUSTAFA KULAKCI

  2. Atomic layer deposition of III-nitrides and metal oxides; their application in area selective ALD

    III-nitratların ve metal oksitlerin atomik katman kaplamısı; bunların alan seçici ALD`deki uygulamaları

    ALI HAIDER

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2017

    Bilim ve Teknolojiİhsan Doğramacı Bilkent Üniversitesi

    Malzeme Bilimi ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı (disiplinlerarası)

    Assist. Prof. AYKUTLU DANA

    DR. NECMİ BIYIKLI

  3. Yarı iletken metal oksit nanoyapıların üretimi, karakterizasyonu ve ters hibrit güneş piline uygulamaları

    Fabrication and characterization of semiconductor metal oxide nano structures and inverted type hybrid solar cell applications

    ARİF KÖSEMEN

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2016

    Fizik ve Fizik MühendisliğiGebze Teknik Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. YUSUF YERLİ

  4. Development of hole transport transparent conductive electrodes for n-type crystalline silicon solar cells

    N-tipi kristal silisyum güneş gözeleri için deşik seçici iletken saydam elektrot üretilmesi

    OZAN AKDEMİR

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2018

    Bilim ve TeknolojiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Mikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı (disiplinlerarası)

    DOÇ. DR. ALPAN BEK

    DR. ÖĞR. ÜYESİ MUHSİNE BİLGE İMER

  5. Numerical and experimental investigation on the crushing behaviour of auxetic lattice cells produced with additive manufacturing techniques

    Eklemeli imalat teknikleri ile üretilmiş ökzetik kafes yapıların ezilme davranışlarının nümerik ve deneysel olarak incelenmesi

    KADİR GÜNAYDIN

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2020

    Makine Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Uçak ve Uzay Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HALİT SÜLEYMAN TÜRKMEN

    DR. ÖĞR. ÜYESİ ANTONIO MATTIA GRANDE