Geri Dön

?-FeSi2 ince filmlerin elde edilmesi ve fiziksel özelliklerinin incelenmesi

Investigation of physical properties and synthesis of ß-FeSi2 thin films

  1. Tez No: 213271
  2. Yazar: BEYHAN TATAR
  3. Danışmanlar: PROF. DR. KUBİLAY KUTLU
  4. Tez Türü: Doktora
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Metalurji Mühendisliği, Physics and Physics Engineering, Metallurgical Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2007
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Yıldız Teknik Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Bölümü
  12. Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  13. Sayfa Sayısı: 129

Özet

? -FeSi2 ince filmler oda sıcaklığında n-Si(100) ve p-Si(111) altlıklar üzerine dengelenmemiş manyetik alanda sıçratma tekniği ile büyütülerek ? -FeSi2/n-Si ve ? -FeSi2/p-Si heteroeklemler bu şekilde hazırlandı. Bu çalışmanın orjinalliği filmlerin kaplama işleminden sonra hiçbir ısıl işlem uygulanmadan bu heteroeklemlerin elde edilmesinin başarılmasıdır. Farklı film kalınlıklarında ? -FeSi2/Si heteroeklemlerin üretimi saf demirin Si altlıklar üzerine dengelenmemiş manyetik alanda sıçratma tekniğiyle kaplanmasıyla yapıldı. Kaplama işleminden önce altlıklar ve hedef nötral molekül kaynağı ile temizlendi.? -FeSi2 filmlerin mikro-yapıları X-ışınları kırınım analizleri ve Raman spektroskopi analizleri ile incelendi. Bu filmlerin elementel analizleri EDS ve GDOES analizleri kullanılarak yapıldı. ? -FeSi2 ince filmlerin yüzey özellikleri taramalı elektron mikroskobu, alan emisyonlu taramalı elektron mikroskobu ve atomik kuvvet mikroskobu ile karakterize edildi. ? -FeSi2 filmler polikristal yapıda oldukları tespit edildi. Ara katmanın yüzey özelliklerinin ve kristalliğinin altlığın yüzey özelliklerine bağlı olduğu bulundu. Altlığın yüzey özellikleri ve kaplama parametreleri optimize edilerek çok düzgün yüzey özelliklerine sahip ? -FeSi2 filmler hazırlanabileceği görüldü.? -FeSi2 filmlerin optiksel soğurma katsayıları oda sıcaklığında FT-IR ölçümleri ile belirlendi. Bu ? -FeSi2 filmlerin kıyı bölgesi içerisindeki optiksel soğurmasından direkt geçişli bir yarıiletken karakteristiğinde oldukları ve Eg=0,85 eV olarak belirlendi. ? -FeSi2/n-Si ve ? -FeSi2/p-Si heteroeklemlerin elektriksel özellikleri oda sıcaklığında akım-gerilim(I-V) karakteristikleri alınarak incelendi. Kaplanmış filmler tarafından alınan karanlıktaki akım-gerilim karakteristiklerinde heteroeklemler için doğrultucu özellik göstermiştir. İdeallik faktörü ve bariyer yüksekliği gibi diyot parametreleri termo iyonik emisyon teorisi kullanılarak belirlendi.Bunun yanında, bu çalışmada n-Si(100) altlıklar üzerine dengelenmemiş manyetik alanda sıçratma tekniği kullanılarak büyütülen yarıiletken ? -FeSi2 ince filmlerin yapı ve yüzey özelliklerine kaplamadan önce ve kaplama süresince uygulanan iyon bombardımanın etkisi incelendi.

Özet (Çeviri)

ß-FeSi2 thin films were grown on n-Si (100) and p-Si (111) substrates at room temperature by unbalanced magnetron sputtering and ß-FeSi2/n-Si and ß-FeSi2/n-Si heterojunctions were thus prepared. The originality of the study is the achievement of heterojunctions without any further heat treatment of the deposition films. Pure iron is deposited on Si substrates with unbalanced magnetron sputtering for the production of ß-FeSi2/Si heterojunctions with different film thicknesses. Prior to coating process the target and substrates are cleaned with neutral molecular source.Microstructure of ß-FeSi2 films were investigated by X-Ray Diffraction analysis and Raman spectroscopy. Elemental analyses of ß-FeSi2 films were made using Energy Dispersive Spectroscopy and Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy. Surface properties of ß-FeSi2 films were characterized with Scanning Electron Microscopy, Field Emission Scanning Electron Microscopy and Atomic Force Microscopy. The ß-FeSi2 films were found to be polycrystalline in nature. Surface morphology and crystallinity of the template layers were found to depend on the surface conditions of substrates. ß-FeSi2 films with very smooth surfaces can be obtained by optimization of substrate surface properties and coating parameters.Optical absorption coefficients of the ß-FeSi2 films at room temperature were evaluated from the Fourier Transform Infrared Spectroscopy measurements. The optical absorption in the edge region of these ß-FeSi2 films was evaluated as Eg=0,85 eV which is characteristic for a direct transition semiconductor. The electrical properties obtained from current-voltage characteristics (I-V) of ß-FeSi2/n-Si and ß-FeSi2/n-Si heterojunctions at room temperature have been investigated. Dark current-voltage characteristics of the deposited coatings showed a rectifying behaviour for the heterojunctions.The diode parameters such as zero-bias barrier height and ideality factor were determined using thermionic emission theory.However, we have investigated the effect of ion bombardment during and after deposition on the structure and surface properties of semiconducting ß-FeSi2 thin films grown on n-Si (100) substrates at room temperature by unbalanced magnetron sputtering.

Benzer Tezler

  1. Grafen tabanlı demir sülfür (FeS2) ince film yarıiletkeninin sentezlenerek yapısal optiksel karakterizasyonunun yapılması ve boya ile duyarlı güneş hücrelerinde karşıt elektrot olarak kullanılması

    Synthesis of grafen based iron sulfur (FeS2) thin film semiconductor for investigating the structural and optical characterization and using as a counter electrode in dye sensitized solar cells

    MANSUR AŞGIN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2019

    EnerjiYalova Üniversitesi

    Enerji Sistemleri Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. BAYRAM KILIÇ

  2. 6063 aluminyum alaşımlarının korozyon direnci üzerine anodizasyon öncesi yüzey işlemlerinin ve AA anodizasyonla üretilmiş ince oksit filmlerinin etkisi

    The Effect of pretreatment and thin layer sulfuric acid a C anodization of 6063 aluminum alloys on its corrosion resistance

    FERİHA SERTÇELİK

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    1999

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    PROF.DR. ALİ FUAT ÇAKIR

  3. Yüksek Si içeriğine sahip Fe-Si alaşımlarının üretiminde alternatif bir yöntem: Ergimiş tuz elektrolizi

    An alternatif method in production of high Si content Fe-Si alloys: Molten salt electrolysis

    OĞUZ KAĞAN COŞKUN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2019

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. SERVET İBRAHİM TİMUR

  4. Determination of sulfate reducing bacterial population in the Black Sea sediments by flourescence in situ hybridization technique

    Karadeniz çamurundaki sülfat indirgeyen bakteri populasyonunun floresanlı yerinde hibritleşme tekniği ile belirlenmesi

    İCLAL ÜŞENTİ

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2004

    Çevre MühendisliğiBoğaziçi Üniversitesi

    Çevre Teknolojileri Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. BAHAR İNCE

  5. Der Wegfall der Geschäftsgrundlage nach deutschem und türkischem Recht

    Türk Alman Hukukunda İşlem Temelinin Çökmesi

    NURTEN İNCE

    Doktora

    Almanca

    Almanca

    2014

    HukukUniversität Potsdam (University of Potsdam)

    Hukuk Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. DETLEV W BELLING