Reaktif RF magnetron kopartma yöntemi kullanılarak hazırlanan WO3 ince filmlerin optik, yapısal ve elektrokromik özelliklerinin incelenmesi
Investigation of optical, structural and electrochromic properties of WO3 thin films prepared by reactive RF magnetron sputtering method
- Tez No: 372803
- Danışmanlar: YRD. DOÇ. DR. ÖZLEM DUYAR COŞKUN
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2014
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Hacettepe Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Nanoteknoloji ve Nanotıp Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 76
Özet
Bu yüksek lisans tez çalışmasında reaktif RF magnetron kopartma yöntemi kullanılarak WO3 ince filmler hazırlanmış ve film büyütme parametrelerinin, filmlerin optik, yapısal ve elektrokromik özellikleri üzerindeki etkisi incelenmiştir. İnce film özellikleri, toplam basınç, oksijen kısmi basıncı ve alttaş sıcaklığı gibi büyütme parametrelerine bağlıdır. Büyütme parametrelerinin kontrol edilmesi ile WO3 filmlerin optik, yapısal ve elektrokromik özelliklerini değiştirmek mümkündür. Bu çalışmanın ilk kısmında toplam basıncın film özellikleri üzerindeki etkisi incelenmiştir. Bunun için oksijen kısmi basıncı sabit tutulmuş ve 5 – 40 mTorr aralığında argon gazı sisteme sızdırılmıştır. Tüm filmlerin optik geçirgenlikleri oldukça yüksektir ve elektrokromik olarak en yüksek renklenme verimliliğine sahip ve en çok renklenen örnek 20 mTorr argon gazı basıncı altında %10 oksijen kısmi basıncı ile büyütülen örnektir. Oksijen kısmi basıncının film özellikleri üzerindeki etkisinin incelenmesi için oksijen kısmi basıncı %5 - %15 aralığında değiştirilerek filmler büyütülmüş ve filmlerin optik geçirgenliğinin artan kısmi oksijen basıncı ile yükseldiği gözlenmiştir. Elektrokromik olarak en yüksek renklenme verimliliği ve optik modülasyona sahip olan örneğin %12.5 oksijen kısmi basıncı ile büyütülen örnek olduğu gözlenmiştir. Alttaş sıcaklığının film özellikleri üzerindeki etkisinin incelenmesi için, argon gazı basıncı 20 mTorr' da, oksijen gazı kısmi basıncı %10 olacak şekilde oda sıcaklığı, 100, 200 ve 300 °C alttaş sıcaklıklarında WO3 ince filmler büyütülmüştür. Alttaş sıcaklığının yükseltilmesi ile elde edilen filmlerin kırma indislerinin büyüdüğü gözlenmiştir. Elektrokromik olarak en yüksek renklenme verimliliğine ve optik modülasyon değerine sahip olan WO3 filmin 300 °C alttaş sıcaklığında büyütülen örnek olduğu gözlenmiştir. Filmlerin SEM görüntüleri incelendiğinde, filmlerin homojen bir yüzey yapısına sahip olduğu, XRD desenleri incelendiğinde ise tüm filmlerin amorf yapıda olduğu gözlenmiştir.
Özet (Çeviri)
In this master of thesis study, WO3 thin films were prepared by reactive RF magnetron sputtering method and the effects of the film deposition parameters on the optical, structural and electrochromic properties of the films were investigated. Thin film properties depend on the deposition parameters such as total pressure, oxygen partial pressure and substrate temperature etc. It is possible to change the optical, structural and electrochromic properties of the films by controlling the deposition parameters. The effect of total pressure on the film properties was investigated. For this purpose, the argon gas was introduced in to the chamber in the range of 5 – 40 mTorr while the oxygen partial pressure maintained constant during the deposition process. The optical transmissions of all the films are quite high. The sample prepared at 20 mTorr argon gas with 10% of oxygen partial pressure is the most colored one with the highest coloration efficiency of 17.46 cm2/C. In order to investigate the effects of the oxygen partial pressure on film properties, the films were prepared with 20 mTorr argon pressure while changing the oxygen partial pressure in the range of 5% - 15% and it is observed that optical transmission of the films are increasing with increasing oxygen partial pressure. The highest coloration efficiency and optical modulation was seen on the sample prepared with 12.5% oxygen partial pressure. In order to investigate the effect of substrate temperature, WO3 thin films with 20 mTorr argon gas pressure and 10% oxygen partial pressure were prepared at 100, 200 and 300 °C substrate temperatures. The refractive indices are increasing with increasing substrate temperature due to their high density of the film. It is seen that the highest coloration efficiency and optical modulation was achieved for the sample prepared at 300 °C substrate temperature. SEM images of the films shows that surface structure of the films are smooth and homogeneous. The XRD pattern reveals that all films have in amorphous structure.
Benzer Tezler
- RF magnetron kopartma tekniği kullanılarak hazırlanan Nb2O5ince filmlerin optik özelliklerinin incelenmesi
The investigation of optical properties of Nb2O5 thin films prepared by RF magnetron sputtering
MELTEM YEŞİLTEPE
Yüksek Lisans
Türkçe
2012
Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe ÜniversitesiNanoteknoloji ve Nanotıp Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. ÖZLEM DUYAR COŞKUN
- TiN ve TiO2 ince filmlerinin hazırlanması ve optik özelliklerinin incelenmesi
Preparation of tin and TiO2 thin films and investigation of their optical properties
AYŞE BEGÜM ARIĞ
Yüksek Lisans
Türkçe
2010
Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe ÜniversitesiFizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. HÜSEYİN ZAFER DURUSOY
- Alüminyum nitrür ince filmlerin büyütülmesi ve mikroyapılarının incelenmesi
The growth of aluminium nitride thin films and investigation of their microstructures
DÜZGÜN KAL
Yüksek Lisans
Türkçe
2011
Fizik ve Fizik MühendisliğiFırat ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. YUSUF ATICI
- Sıçratma tekniği ile büyütülen zirkonyum dioksit ince filmlerin mikro yapılarının incelenmesi
The investigation of microstructures of zirconium dioxide thin films grown by sputtering technique
BURHAN COŞKUN
Doktora
Türkçe
2013
Fizik ve Fizik MühendisliğiFırat ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. YUSUF ATICI
- Characterization of molybdenum oxide and magnesium doped zinc oxide charge transport layers deposited by sputtering for heterojunction solar cells
Heteroeklem güneş hücreleri için saçtırma yöntemi ile büyütülmüş molibden oksit ve magnezyum katkılı çinko oksit yük taşıyıcı tabakaların karakterizasyonu
GENCE BEKTAŞ
Yüksek Lisans
İngilizce
2017
Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik ÜniversitesiMikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. SELÇUK YERCİ
DOÇ. DR. ALPAN BEK