Sıçratma tekniği ile büyütülen zirkonyum dioksit ince filmlerin mikro yapılarının incelenmesi
The investigation of microstructures of zirconium dioxide thin films grown by sputtering technique
- Tez No: 348493
- Danışmanlar: PROF. DR. YUSUF ATICI
- Tez Türü: Doktora
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: ZrO2 ince filmler, Reaktif RF Sıçratma, Mikro yapı, Elektron mikroskopisi, ZrO2 thin films, Reactive RF Sputtering, Microstructure, Electron microscopy
- Yıl: 2013
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Fırat Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 119
Özet
Bu tezde, farklı kalınlıklara (400 nm, 500 nm, 600 nm) sahip ZrO2 ince filmler, Reaktif RF Magnetron Sıçratma tekniği kullanılarak, n tipi yarıiletken (100) yönelimli Silisyum alt yapı üzerine 200 oC'lik altyapı sıcaklığında, 125 W'lık güç değeri ile büyütüldü. Büyütülen ince filmlerin mikro yapı analizleri Taramalı Elektron Mikroskobu (SEM) ile yapıldı. Numunelerin yapısını oluşturan büyük boyutlu yapıların ve topakların daha küçük tanelerin istiflenmesi ile meydana geldiği, film kalınlığının artmasıyla tane boyutlarının değiştiği görüldü. Numunelerin kimyasal kompozisyonunu belirlemek amacıyla Enerji-Ayırımlı X-Işını Analizi (EDX) dedektörü kullanılarak alınan sonuçlara bakıldığında filmin başarılı bir şekilde büyütüldüğü görüldü. ZrO2 ince film numunelerinin kristal yapı analizi, X-Işını Kırınım (XRD) tekniği kullanılarak incelendi. ZrO2-1 ve ZrO2-2 numunesinin kristal yapısının monoklinik, ZrO2-3 numunesinin ise baskın monoklinik faz ile beraber tetragonal faz gösterdiği belirlendi. Ayrıca numunelerin elektriksel özelliklerinin incelenmesi amacıyla alınan I-V ölçümlerine göre her üç numunenin idealite faktörü (n) ve engel yüksekliği (?b) değerleri hesaplandı ve her üç numunenin de doğrultucu kontak (Schottky diyot) özelliği gösterdiği görüldü.
Özet (Çeviri)
The Investigation of Microstructures of Zirconium Dioxide Thin Films Grown by Sputtering Technique In this thesis, ZrO2 thin films with different thicknesses (400 nm, 500 nm, 600 nm) were grown by Reactive RF magnetron sputtering technique, on n-type Silicon (100) substrate at 200 oC applying 125 W power rating. The micro structural analyses of thin films were done by Scanning Electron Microscope and it was observed that the films were grown successfully in the form of big grains formed by the accumulation of small particles. It was seen that the size of grains changed with the increase of film thickness. Energy-dispersive X-ray (EDX) spectroscopy was used to determine the chemical compositions of samples. The crystal structures of ZrO2 samples were analyzed by X-ray diffraction (XRD) technique. It was identified that the crystal structures of ZrO2-1 and ZrO2-2 samples were monoclinic but the crystal structure of ZrO2-3 sample presented both monoclinic phase and tetragonal phase. In addition, according to I-V measurements, which were done to investigate the electrical properties of samples, ideality factor (n) and barrier height (?b) of each samples were calculated and it was observed that the samples demonstrated (schottky diode) properties.
Benzer Tezler
- DC magnetron sıçratma tekniği ile büyütülen titanyum ince filmlerinin fiziksel özelliklerinin incelenmesi
Investigation of physical propenties of titanium thin films grown by DC magnetron sputtering technique
ÜMÜT KAPLAN
Yüksek Lisans
Türkçe
2019
Fizik ve Fizik MühendisliğiFırat ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. YUSUF ATICI
- PVD tekniğiyle büyütülen MoO3 yarıiletken ince filmlerin elektriksel ve optik özelliklerinin incelenmesi
MoO3 thin films growth with physical vapour deposition technique and investigation of electrical and optical properties
CANAN YÖNEY
Yüksek Lisans
Türkçe
2019
Fizik ve Fizik MühendisliğiTekirdağ Namık Kemal ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. BEYHAN TATAR
- Hf-Co tabanlı manyetik ince filmlerin B ve N katkılaması ile değişen yapısal, manyetik özelliklerinin incelenmesi
Investigation of variable structural, magnetic properties of Hf-Co based magnetic thin films with B and N doping
GİZEM DURAK YÜZÜAK
Doktora
Türkçe
2016
Fizik ve Fizik MühendisliğiAnkara ÜniversitesiFizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. HALİL YALÇIN ELERMAN
- ?-FeSi2 ince filmlerin elde edilmesi ve fiziksel özelliklerinin incelenmesi
Investigation of physical properties and synthesis of ß-FeSi2 thin films
BEYHAN TATAR
Doktora
Türkçe
2007
Fizik ve Fizik MühendisliğiYıldız Teknik ÜniversitesiFizik Bölümü
PROF. DR. KUBİLAY KUTLU
- Alüminyum nitrür ince filmlerin büyütülmesi ve mikroyapılarının incelenmesi
The growth of aluminium nitride thin films and investigation of their microstructures
DÜZGÜN KAL
Yüksek Lisans
Türkçe
2011
Fizik ve Fizik MühendisliğiFırat ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. YUSUF ATICI