Geri Dön

Sıçratma tekniği ile büyütülen zirkonyum dioksit ince filmlerin mikro yapılarının incelenmesi

The investigation of microstructures of zirconium dioxide thin films grown by sputtering technique

  1. Tez No: 348493
  2. Yazar: BURHAN COŞKUN
  3. Danışmanlar: PROF. DR. YUSUF ATICI
  4. Tez Türü: Doktora
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: ZrO2 ince filmler, Reaktif RF Sıçratma, Mikro yapı, Elektron mikroskopisi, ZrO2 thin films, Reactive RF Sputtering, Microstructure, Electron microscopy
  7. Yıl: 2013
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Fırat Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 119

Özet

Bu tezde, farklı kalınlıklara (400 nm, 500 nm, 600 nm) sahip ZrO2 ince filmler, Reaktif RF Magnetron Sıçratma tekniği kullanılarak, n tipi yarıiletken (100) yönelimli Silisyum alt yapı üzerine 200 oC'lik altyapı sıcaklığında, 125 W'lık güç değeri ile büyütüldü. Büyütülen ince filmlerin mikro yapı analizleri Taramalı Elektron Mikroskobu (SEM) ile yapıldı. Numunelerin yapısını oluşturan büyük boyutlu yapıların ve topakların daha küçük tanelerin istiflenmesi ile meydana geldiği, film kalınlığının artmasıyla tane boyutlarının değiştiği görüldü. Numunelerin kimyasal kompozisyonunu belirlemek amacıyla Enerji-Ayırımlı X-Işını Analizi (EDX) dedektörü kullanılarak alınan sonuçlara bakıldığında filmin başarılı bir şekilde büyütüldüğü görüldü. ZrO2 ince film numunelerinin kristal yapı analizi, X-Işını Kırınım (XRD) tekniği kullanılarak incelendi. ZrO2-1 ve ZrO2-2 numunesinin kristal yapısının monoklinik, ZrO2-3 numunesinin ise baskın monoklinik faz ile beraber tetragonal faz gösterdiği belirlendi. Ayrıca numunelerin elektriksel özelliklerinin incelenmesi amacıyla alınan I-V ölçümlerine göre her üç numunenin idealite faktörü (n) ve engel yüksekliği (?b) değerleri hesaplandı ve her üç numunenin de doğrultucu kontak (Schottky diyot) özelliği gösterdiği görüldü.

Özet (Çeviri)

The Investigation of Microstructures of Zirconium Dioxide Thin Films Grown by Sputtering Technique In this thesis, ZrO2 thin films with different thicknesses (400 nm, 500 nm, 600 nm) were grown by Reactive RF magnetron sputtering technique, on n-type Silicon (100) substrate at 200 oC applying 125 W power rating. The micro structural analyses of thin films were done by Scanning Electron Microscope and it was observed that the films were grown successfully in the form of big grains formed by the accumulation of small particles. It was seen that the size of grains changed with the increase of film thickness. Energy-dispersive X-ray (EDX) spectroscopy was used to determine the chemical compositions of samples. The crystal structures of ZrO2 samples were analyzed by X-ray diffraction (XRD) technique. It was identified that the crystal structures of ZrO2-1 and ZrO2-2 samples were monoclinic but the crystal structure of ZrO2-3 sample presented both monoclinic phase and tetragonal phase. In addition, according to I-V measurements, which were done to investigate the electrical properties of samples, ideality factor (n) and barrier height (?b) of each samples were calculated and it was observed that the samples demonstrated (schottky diode) properties.

Benzer Tezler

  1. DC magnetron sıçratma tekniği ile büyütülen titanyum ince filmlerinin fiziksel özelliklerinin incelenmesi

    Investigation of physical propenties of titanium thin films grown by DC magnetron sputtering technique

    ÜMÜT KAPLAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2019

    Fizik ve Fizik MühendisliğiFırat Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. YUSUF ATICI

  2. PVD tekniğiyle büyütülen MoO3 yarıiletken ince filmlerin elektriksel ve optik özelliklerinin incelenmesi

    MoO3 thin films growth with physical vapour deposition technique and investigation of electrical and optical properties

    CANAN YÖNEY

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2019

    Fizik ve Fizik MühendisliğiTekirdağ Namık Kemal Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. BEYHAN TATAR

  3. Hf-Co tabanlı manyetik ince filmlerin B ve N katkılaması ile değişen yapısal, manyetik özelliklerinin incelenmesi

    Investigation of variable structural, magnetic properties of Hf-Co based magnetic thin films with B and N doping

    GİZEM DURAK YÜZÜAK

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2016

    Fizik ve Fizik MühendisliğiAnkara Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HALİL YALÇIN ELERMAN

  4. ?-FeSi2 ince filmlerin elde edilmesi ve fiziksel özelliklerinin incelenmesi

    Investigation of physical properties and synthesis of ß-FeSi2 thin films

    BEYHAN TATAR

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2007

    Fizik ve Fizik MühendisliğiYıldız Teknik Üniversitesi

    Fizik Bölümü

    PROF. DR. KUBİLAY KUTLU

  5. Alüminyum nitrür ince filmlerin büyütülmesi ve mikroyapılarının incelenmesi

    The growth of aluminium nitride thin films and investigation of their microstructures

    DÜZGÜN KAL

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2011

    Fizik ve Fizik MühendisliğiFırat Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. YUSUF ATICI