AlN katmanların fiziksel buhar biriktirme yöntemiyle üretimi ve karakterizasyonu
Production and characterization of AlN layers via physcal vapor deposition method
- Tez No: 376002
- Danışmanlar: PROF. DR. ÖMER FARUK EMRULLAHOĞLU, PROF. DR. ŞÜKRÜ TAKTAK
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Metalurji Mühendisliği, Mühendislik Bilimleri, Metallurgical Engineering, Engineering Sciences
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2014
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Afyon Kocatepe Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.
Özet
Yapılan bu tez çalışmasında; yüksek ısıl iletkenliği (285 W/(m•K), geniş bant aralığı (6.2 eV), yüksek kimyasal ve ısıl kararlılığı, düşük ısıl genleşmesi ve yüksek yüzey akustik dalga iletim hızı nedenleriyle günümüz teknolojisinde oldukça yaygın bir kullanım alanına sahip olan Alüminyum nitrür (AlN) katmanların fiziksel buhar biriktirme yöntemlerinden biri olan RF manyetik saçtırma yöntemi ile üretimi yapılmıştır. Ayrıca yapılan çalışmada üretilen AlN katmanların kalınlıkları ölçülmüş, üretim oranları hesaplanmış, X ışınları kırınımı XRD analizi ile minerolojik özellikleri incelenmiş, Atomik kuvvet mikroskobu (AFM) ile yüzey özellikleri tespit edilmiştir. Çalışmada Radyo frekans (RF) manyetik saçtırma yöntemi ile alüminyum hedef malzeme kullanarak cam altlık üzerine AlN ince filmler depolanmıştır. AlN ince filmlerin üretimi sabit vakum basıncı (2.10-2 mbar), sabit çalışma basıncı (5.10-2 mbar) ve sabit gaz karışımı oranında (%50 Ar, %50 N2) farklı sistem güçleri (W) ve farklı sürelerde reaktif saçtırma prensibi ile gerçekleştirilmiştir. Çalışmanın sonucunda sistem gücünün artmasıyla kaplama bünyesindeki AlN fazının Al fazına oranının arttığı gözlemlenmiştir. Ayrıca artan sistem çalışma gücü ve kaplama süresi ile birlikte kaplama kalınlıklarının ve yüzey pürüzlülüğünün arttığı görülmüştür.
Özet (Çeviri)
In this study it is aimed to fabricate Aluminum nitride (AlN) layers which have been widely used and have excellent physical and chemical properties, such as high thermal conductivity (100–260 W/m K)., wide band gap (6.2 eV) structure, high chemical stability, low thermal expansion and high surface aqustic velocity transmittance were facricated by RF magnetron sputtering technique that a type of physical vapor deposition. Furthermore, the thicknesses of films were measured, mineralogical datas were obtained by XRD method, and surface properties were examined by AFM. In the study AlN thin film layers were deposited on the glass substrates was using Aluminum targets by RF magnetron sputtering technique. AlN coating process performed for constant base pressure (2.10-2 mbar) constant working pressure (5.10-2 mbar), constant gas mixture rate (%50 Ar, %50 N2), and variable working power and deposition time. In the result, it was observed that the AlN deposition rate increased with increasing RF power. In addition the thicknesses and roughness of the films increased with the increasing RF power and deposition
Benzer Tezler
- Mo-N kaplamaların ark fiziksel buhar biriktirme yöntemiyle üretimi ve karakterizasyonu
Production and characterisation of Mo-N coatings by arc physical vapour deposition technique
M. KÜRŞAT KAZMANLI
- Alüminyum ve alüminyum silisyum alaşımlarının ark fiziksel buhar biriktirme yöntemiyle Mo-N kaplanması
Mo-N coating of alüminum and alüminium silicon alloys with are physical vapour diposition technique
YASEMİN KILIÇ
- Nano yapılı Cuo ve Cu2O geçiş metal oksitlerin görünür bölgede fotodedektör uygulamaları
Photodetector application of nanostructured CuO and Cu2O transitional metal oxides in the visible region
FEVKANİ YILDIZ
Doktora
Türkçe
2023
Fizik ve Fizik MühendisliğiAtatürk ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. MUTLU KUNDAKÇİ
- Sürücülerde kandaki alkol miktarı ile trafik kazası arası ilişki
Başlık çevirisi yok
Z.SEMRA GÜMRÜKÇÜ
Yüksek Lisans
Türkçe
1986
UlaşımGazi ÜniversitesiKazaların Çevresel ve Teknik Araştırması Ana Bilim Dalı (disiplinlerarası)
PROF. DR. RIDVAN EGE
- Seçilen ekstraktif çözgenin etilasetat-etilalkol azeotropik sistemi üzerine etkisi
Başlık çevirisi yok
NAŞİDE FİDİ
Yüksek Lisans
Türkçe
1987
Kimya MühendisliğiEge ÜniversitesiKimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. ERDEN ALPAY