Rf manyetik sıçratma yöntemiyle üretilen bakır oksit, bakır nitrit ve bakır oksinitrit ince filmlerin bazı kristal yapı ve optiksel özelliklerinin incelenmesi
Investigation of some crystal structure and optical properties of copper oxide,copper nitride and copper-oxynitride thin films produced with the method of rf magnetron sputtering system
- Tez No: 514319
- Danışmanlar: DR. ÖĞR. ÜYESİ ŞADAN KORKMAZ
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2018
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Eskişehir Osmangazi Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Katıhal Fiziği Bilim Dalı
- Sayfa Sayısı: 78
Özet
Bu tez çalışmasının amacı, RF Sıçratma yöntemi ile cam alttaş üzerine reaktif/taşıyıcı gaz oranlarını değiştirerek bakır oksit, bakır nitrit ve bakır oksinitrit ince filmleri üretmek, karakterizasyonlarını yaparak kullanım alanlarının temelini oluşturmaktır. Alttaş malzeme olarak yalıtkan ve şeffaf materyallerden olan cam kullanılmıştır. İnce film üretimleri her alttaş için tek katman olarak 14 ayrı deney olarak gerçekleştirilmiştir. Deney parametreleri reaktif gaz/gazlar ve taşıyıcı gaz oranları hariç tüm üretimler için sabit tutulmuştur. Reaktif gaz oranları bakır oksit ve bakır nitrit için %10, 30, 50, 70 ve 90 olarak belirlenmiştir. Bakır oksinitrit için iki reaktif gaz oranı da %15, 25, 35 ve 45 olarak belirlenmiştir. Üretilen bakır oksit, bakır nitrit ve bakır oksinitrit ince filmlerin yapısal, yüzeysel ve optiksel özellikleri uygun ölçüm teknikleri ile belirlenmiştir. İnce film tabakaların kalınlıkları Filmetrics F20 cihazı tarafından 85-200 nm arasında ölçülmüştür. XRD ölçümleri sonucunda üretilen ince filmlerin kristal yapıları tespit edilmiştir. Tauc yöntemi kullanılarak optiksel yasak enerji aralıkları belirlenmiştir ve doğrudan band geçişli oldukları görülmüştür. Üretilen ince filmlerin yasak enerji aralıkları en düşük 1,49 eV ile en yüksek 1,78 eV. arasında değişmektedir. Atomik kuvvet mikroskobu yüzey özellikleri incelendiğinde üretimlerin pürüzsüz ve simetrik yapıda oldukları tespit edilmiştir.
Özet (Çeviri)
The aim of this thesis, it is to produce copper oxide, copper nitride and copper-oxynitride thin films on glass substrates by using RF magnetron sputtering method and to form the fundamental for usage areas by making characterizations. Glass was used as a substrate which is insulator and transparent. For fabrication of thin films, the only single layer was employed for each substrate, 14 experiments for each substrate carried out. All experimental parameters keep constant for all fabricated films except the gas ratio of reactive gas/gasses and buffer gas. The gas ratios for copper oxide and copper nitride were considered %10, 30, 50, 70 and 90. For copper-oxynitride both of two reactive gas ratios were considered as %15, 25, 35 and 45. The morphological, surface and optical properties of the thin films have been determined by suitable measurement techniques. The thickness values of the thin film layers were measured between 85–200 nm by Filmetrics F20 device. The crystallite structure of the produced thin films were defined through XRD measurement results. The optical band gap values of the films were estimated using Tauc method and direct band transition in the samples has been observed. In the prepared thin films, the calculated band gap values were changed between 1.49 eV to 1.78 eV. According to atomic force microscope for the surface properties, the low roughness structure was detected for thin films deposited on glass substrates.
Benzer Tezler
- Preparation of PZT and PLZT thin films on different substrates by sol-gel spin coating methods and investigation of their properties
PZT ve PLZT ince filmlerin farklı altlıklar üzerinde sol-jel spin kaplama yöntemiyle hazırlanması ve özelliklerinin incelenmesi
MUSTAFA ÇAĞRI BAYIR
Yüksek Lisans
İngilizce
2019
Bilim ve TeknolojiGebze Teknik ÜniversitesiMalzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. EBRU MENŞUR ALKOY
- Fiziksel buhar biriktirme yöntemiyle katı hal lityum iyon pil bileşenlerinin geliştirilmesi
Development of solid state lithium-ion battery components by physical vapor deposition method
ENGİN ALKAN
Doktora
Türkçe
2023
EnerjiSakarya ÜniversitesiMetalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. MEHMET OĞUZ GÜLER
- Deposition and characterization of single and multilayered boron carbide and boron carbonitride thin films by different sputtering configurations
Tek ve çok katmanlı bor karbür ve bor karbonitrür ince filmlerinin farklı sıçratma teknikleriyle biriktirilmesi ve karakterizasyonu
TOLGA TAVŞANOĞLU
Doktora
İngilizce
2009
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiMetalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DR. MİCHEL JEANDİN
PROF. DR. OKAN ADDEMİR
- Galyum katkılı çinko oksit ince filmlerin karakterizasyonu ve üretim parametrelerinin ince filmlere olan etkilerinin incelenmesi
Characterization of gallium doped zinc oxide thin films and investigation of the effect of growth parameters on the thin films
ENVER KAHVECİ
Yüksek Lisans
Türkçe
2017
Bilim ve TeknolojiHacettepe ÜniversitesiNanoteknoloji ve Nanotıp Ana Bilim Dalı
PROF. DR. FİLİZ BETÜL KAYNAK
- RF sıçratma ile oluşturulmuş Ba0,5Sr0,5TiO3 ince filmlerin memristif özelliklerinin incelenmesi
Investigation of memristive behavior of Ba0,5Sr0,5TiO3 thin films prepared by RF sputter
ÖZLEM AKIN
Doktora
Türkçe
2023
Mühendislik BilimleriAtatürk ÜniversitesiNanobilim ve Nanomühendislik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. HASAN EFEOĞLU