Deposition and characterization of single and multilayered boron carbide and boron carbonitride thin films by different sputtering configurations
Tek ve çok katmanlı bor karbür ve bor karbonitrür ince filmlerinin farklı sıçratma teknikleriyle biriktirilmesi ve karakterizasyonu
- Tez No: 293768
- Danışmanlar: DR. MİCHEL JEANDİN, PROF. DR. OKAN ADDEMİR
- Tez Türü: Doktora
- Konular: Metalurji Mühendisliği, Metallurgical Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2009
- Dil: İngilizce
- Üniversite: İstanbul Teknik Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Metalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 235
Özet
Son 30 yılda sert ve aşınmaya dayanıklı kaplama çalışmalarında önemli bir artış görülmektedir. Endüstriyel uygulamalara yönelik özellikle takım uçları gibi uygulamalarda kullanılan ve detaylı olarak çalışılmış seramik ince filmlere, TiN, TiAlN, TiC, SiC, WC ve DLC örnek olarak verilebilir. Ancak, gelişen teknoloji ve endüstriyel uygulamalar birden fazla özelliği bir arada barındıran ince film türlerini gerektirmektedir. Bu sebeple bünyesinde bulundurduğu çok sert fazlar göz önüne alındığında B-C-N üçlü sistemi son on yılda ilgi çekici hale gelmiştir. Özellikle bor karbür ince filmler yüksek sertlikleri ve elastik modülleri ile en önemli adaylardan biri olarak ortaya çıkmaktadır. Bir diğer alternatif yapısında bulundurduğu farklı fazlarla birçok farklı özelliği bünyesinde toplayan bor karbonitrür ince filmlerdir. Geniş kapsamlı bir literatür çalışması bu iki tip malzemenin ince film formunda detaylı olarak çalışılmadığını göz önüne sermiştir. Bor karbür, sıçratma gibi atomal düzeyde biriktirmenin gerçekleştirildiği ince film kaplama yöntemleri ile en az çalışılmış malzemelerden biridir. Aynı zamanda B-C-N üçlü sistemi içerisinde en az çalışılmış olan bileşiktir. Öte yandan, literatürde B-C-N sistemi içerisinde en fazla çalışmanın kübik bor nitrür biriktirmek amacıyla gerçekleştirildiği görülmektedir. Bor karbür yapısı içerisine azot ilavesi sonucunda oluşan fazlar ve özellikleri üzerine gerçekleştirilmiş sınırlı sayıda çalışma bulunmaktadır.Sıçratma tekniği bilinen en eski ince film biriktirme yöntemlerinden biridir ve fiziksel buhar biriktirme uygulamalarının önemli bir bölümünü teşkil etmektedir. Günümüzde, akademik çalışmalarda olduğu kadar endüstriyel uygulamalarda da takım uçları ve makine parçaları için aşınmaya dirençli kaplamalardan, mikroelektronik bileşenler için yarıiletken kaplamalara, enerji tasarrufu için binalarda kullanılan camların kaplanmasından dekoratif amaçlı yapılan kaplamalara kadar çok geniş bir alanda kullanılmaktadır. Yüksek biriktirme hızları, düşük biriktirme sıcaklıkları, kaplamaların taban malzemeye çok iyi yapışması gibi avantajlarının yanı sıra biriktirme parametrelerinin hassas kontrolü ve farklı sıçratma konfigürasyonlarının kullanılması sayesinde, sıçratma tekniğiyle elde edilen ince filmlerin mikroyapıları ve dolayısıyla özellikleri hassas biçimde kontrol edilebilmektedir.Bu çalışmanın amacı, ilk olarak, biriktirme parametrelerinin elde edilen bor karbür kaplamaların özelliklerine olan etkilerini incelemek ve biriktirme şartları, bor karbür ince filmlerin büyüme morfolojileri ile mekanik ve aşınma özellikleri arasında bir ilişki kurmaktır. İkinci olarak ise, bor karbür yapısına azot ilavesinin etkilerini incelemek ve optimum sertlik ve tokluğa sahip aşınma dirençleri daha yüksek bor karbonitrür ince filmler elde etmektir.Bu çalışmada farklı sıçratma teknikleriyle biriktirilmiş tek ve çok katmanlı bor karbür ve bor karbonitrür ince filmler incelenmiştir. Homojen ve taban malzemeye iyi yapışan bor karbür kaplamalar, sırasıyla, konvansiyonel doğru akım (DC) manyetik alanda sıçratma, plazma destekli doğru akım manyetik alanda sıçratma ve radyo frekans (RF) sıçratma teknikleriyle üretilmiştir. Proses gazına azot ilavesiyle reaktif doğru akım manyetik alanda sıçratma tekniğiyle bor karbonitrür ince filmler biriktirilmiştir. Kalın bor karbür ve bor karbonitrür kaplamalar elde etmek için fonksiyonel gradyanlı çok katmanlı kaplamalar biriktirilmiş ve sonuçlar tartışılmıştır.DC manyetik alanda sıçratma tekniğiyle bor karbür, bor karbonitrür ve fonksiyonel gradyanlı kaplamaların biriktirilmesinde, bor karbür tozlarının sıcak preslenmesiyle elde edilmiş bor karbür hedef malzeme kullanılmıştır. Ticari kalitede bir bor karbür hedef malzeme radyo frekans sıçratma tekniğiyle biriktirilen bor karbür ince filmlerin üretiminde karşılaştırma amacıyla kullanılmıştır. Taban malzeme olarak AISI M2 ve AISI 430 kalite çelikler ve Si (100) wafer kullanılmıştır.Üretilen bor karbür ve bor karbonitrür kaplamaların kalınlıkları, kaplama bünyesinde oluşan iç gerilmeler ve bunlardan kaynaklanan yapışma problemlerini engellemek amacıyla, 350?700 nm arasında sınırlandırılmıştır. Üretilen fonksiyonel gradyanlı bor karbür ve bor karbonitrür kaplamaların kalınlıkları 1 ?m'nin üzerindedir.DC manyetik alan sıçratma tekniğiyle biriktirilen bor karbür ince filmlerin EPMA ile ölçülen kimyasal bileşimleri, hedef malzeme ve toz bileşimi ile aynıdır ve %78 B, % 21,4 C, %0,3 O, %0,3 Si bileşimiyle yaklaşık olarak stokiyometriktir. Kaplamaların kimyasal bileşimleri üretim şartlarındaki değişimlerden etkilenmemiştir.Bir seri bor karbür ince film, konvansiyonel doğru akım manyetik alanda sıçratma yöntemiyle, harici ısıtma olmadan (50 °C), 0 ila 200 V arasında değişen bias voltajları uygulanarak elde edilmiştir. Bias uygulanmadan biriktirilen filmlerin kolonsal yapılı olduğu gözlenmiştir. Bias voltajının 200 V'a arttırılmasıyla, kolonsal yapıdan, daha yoğun ve kolonların arası daha az açık bir yapıya geçiş sağlanmıştır. Yüksek çözünürlüklü TEM incelemeleri ve EFTEM haritalamaları sayesinde kolon kalınlıklarının 20?25 nm olduğu ve kolonlar arası 2?3 nm olan nanoboşluklara kaplama reaktöründen ve/veya havadan oksijen girişi tespit edilmiştir. İncelenen tüm konvansiyonel DC manyetik alanda sıçratma tekniğiyle biriktirilen bor karbürlerin amorf yapıda oldukları, yüksek çözünürlüklü TEM ve takip eden FFT paternleri ve/veya difraksiyon paternleri ile tespit edilmiştir. İncelenen tüm filmler için yaklaşık 20?22 GPa sertlik ve 220 GPa elastik modül değerleri nanoindentasyon tekniğiyle ölçülmüştür. Harici plazma kaynağı kullanılmadan biriktirilen bor karbür filmlerde uygulanan bias voltajının kaplamaların sertliği üzerinde herhangi bir etkisi olmadığı gözlenmiştir. Bu kaplamalar için alümina bilyeler kullanılarak gerçekleştirilen aşınma testlerinde 0,7 sürtünme katsayıları ve 5,0 x 10-8 mm3/Nm aşınma oranları ölçülmüştür. Elde edilen kaplamaların sürtünme katsayılarının ve aşınma oranlarının üretim şartlarında bağımsız olduğu gözlenmiştir.Bir diğer bor karbür ince film serisi plazma destekli doğru akım manyetik alanda sıçratma tekniğiyle, harici ısıtma olmadan (50 °C) ve 250 °C arasında biriktirme sıcaklıkları ve 0 ile 250 V arası bias voltajları uygulanarak elde edilmiştir. Bu teknikle kaplanan tüm filmlerde kolonsuz mikroyapılar ve düzgün yüzey morfolojileri gözlenmiştir. Nanoindentasyon ölçümleri sonunda bias voltajı ve sıcaklıktaki artışla kaplamaların sertlik değerlerinin arttığı ortaya konmuştur. Farklı sıcaklık ve bias voltajı kombinasyonlarıyla üretilmiş kaplamaların sertlik değerleri 30?35 GPa değişmiştir ve yaklaşık 40 GPa sertlik değeriyle tüm çalışma boyunca elde edilen en sert bor karbür kaplama 250 °C sıcaklık ve 100 V bias voltaj şartlarında biriktirilmiştir. Kaplamaların elastik modül değerleri 270 ila 300 GPa arasında değişmiştir. TEM çalışmaları sonucunda üretilen tüm kaplamaların amorf olduğu belirlenmiştir. Yüksek çözünürlüklü TEM çalışmaları neticesinde, kaplama-taban malzeme arayüzeyinde 1?1,5 nm'ye denk gelen 4?5 atom tabakasının düzenli olduğu ve bundan sonra kaplamanın amorf olarak biriktiği görülmüştür. Bor karbür kaplamalar aşınma testleri sırasında farklı malzemelere karşı düşük sürtünme katsayıları göstermemiştir. Al2O3 bilyelerle gerçekleştirilen testlerde sürtünme katsayıları 0,6 olarak tespit edilmiştir. Bununla birlikte aynı kaplamalardan 2,6?3,5 x 10?8 mm3/Nm arasında düşük aşınma oranları ölçülmüştür. Sürtünme katsayıları ve aşınma oranları biriktirme şartları ile herhangi bir değişiklik göstermemiştir.Doğru akım manyetik alanda sıçratma tekniği ile biriktirilen bütün bor karbür ince filmlerin kimyasal bileşimleri EPMA ile ölçülmüştür. Elde edilen kimyasal bileşimlere göre bütün filmler hedef malzeme bileşimiyle ve dolayısıyla başlangıç bor karbür toz bileşimiyle yaklaşık olarak aynıdır ve %78 B, %21,4 C, % 0,3 O ve % 0,3 Si bileşimiyle stokiyometrik bor karbür bileşimine yakındırlar. Farklı üretim şartlarında biriktirilen bor karbür ince filmlerin kimyasal bileşiminde herhangi bir farklılık gözlemlenmemiştir.Diğer bir seri bor karbür 80?140 W arasında değişen sıçratma güçleri kullanılarak radyo frekans (RF) sıçratma tekniğiyle elde edilmiştir. Mikroyapı çalışmaları kaplamaların kolonsuz bir şekilde büyüdüğünü ortaya koymuştur. Nanomekanik testler sonucunda 22 GPa sertlik ve 240 GPa elastik modül değerleri elde edilmiştir. Aşınma testlerinin başlangıç aşamasında DC manyetik alanda sıçratma tekniğinde elde edilen 1 civarı yüksek sürtünme katsayılarından farklı olarak 0,4 civarı sürtünme katsayıları elde edilmiştir. Sürtünme katsayıları 0,5 civarında sabitlenmiş ve kaplama tamamen aşındığında yükselmiştir.Bir diğer seri olarak bor karbür yapısına azot ilavesiyle elde edilen bor karbonitrür ince filmler çalışılmıştır. Mikroyapı çalışmaları sonucunda proses gazına %5 azot ilavesiyle elde edilen kaplamanın kolonsal mikroyapıda olduğu tespit edilmiştir. Proses gazı bileşiminde %25 azot ihtiva ettiğinde, mikroyapının eşeksenli tanelerden oluşmuş bir yapıya ve %50 azot şartlarında eşeksenli olmayan iri ve düzensiz tanelerden oluşan bir yapıya dönüştüğü gözlenmiştir. Kaplamaların kimyasal bileşimleri yapıya azot ilavesiyle önemli ölçüde değişmiştir. Gaz bileşiminde %5 N2 bulunduğunda, elde edilen kaplama yapısına %30 azot girmiş ve bu oran %50 N2'de kaplama yapısında %76'ya yükselmiştir. Nanomekanik ölçümler azot ilavesinin etkilerini açık bir şekilde ortaya koymuştur. %5 N2 gaz bileşiminde elde edilen kaplamanın sertliği 20 GPa olarak ölçülmüştür. Bu değer %25 N2'de 14 GPa ve %50 N2'de 10 Gpa'a kadar düşmüştür. Elastik modül değerleri de aynı trendi göstermiş ve %5 N2'de 180 GPa ölçülen değer %25 N2'de 155 Gpa'a düşmüş ve %50 N2'de 135 GPa ile en düşük değerine ulaşmıştır. Farklı azot ilaveleriyle biriktirilen BCN kaplamalar için 0,7 sürtünme katsayısı değerleri ve 1,2 x 10?9 ? 7,8 x 10?10 mm3/Nm arasında değişen aşınma oranları ölçülmüştür. Bor karbonitrür filmler için ölçülen aşınma oranları plazma destekli manyetik alanda sıçratma yöntemiyle biriktirilen bor karbür filmlerden 20-40 kat arası daha düşüktür.Kalın bor karbür ve bor karbonitrür filmler biriktirmek amacıyla fonksiyonel gradyanlı çok katmanlı kaplamalar çalışılmıştır. FE-SEM görüntüleri ve SIMS derinlik profilleri ile AISI M2 ve Si (100) taban malzemeler üzerinde Ti/TiC ve Ti/TiN katmanlarının plazma destekli manyetik alanda sıçratma tekniğiyle ve AISI 430 taban malzeme üzerine borür katmanlarının borlama işlemi ile başarıyla biriktirildiği ortaya konmuştur. Nanoindentasyon ölçümleri katmanlar arasında sertlik ve elastik modulün kademeli değişimini göstermiştir. Söz konusu alt katmanlar üzerine 1 µm'den kalın bor karbür ve bor karbonitrür kaplamalar başarıyla biriktirilmiştir.Çalışma neticesinde elde edilen sonuçlara dayanarak, bor karbür ince filmlerin sertlik ve aşınma direnci gerektiren uygulamalar için önemli bir alternatif olduğu düşünülmektedir. Üretim parametrelerinin değiştirilmesi ile farklı mikroyapılarda, dolayısıyla farklı özelliklere sahip bor karbür kaplamalar elde edilmiştir. Yapıya azot ilavesi ile optimum sertlik ve daha iyi aşınma dirençlerine sahip kaplamalar elde edilmiş ve elde edilen kaplamaların uygulama alanlarının daha da genişletilebileceği ortaya konmuştur. Fonksiyonel gradyanlı çok katmanlı tasarımların, iç gerilmelerden kaynaklanan problemleri ve film yapışması gibi özellikle sert ve aşınmaya dayanıklı filmlerde çok karşılaşılan sorunları ortadan kaldırmakta kullanılabileceği tespit edilmiştir. Elde edilen sonuçlara göre, çeşitli endüstriyel uygulamalara yönelik, kalın bor karbür ve bor karbonitrür kaplamalar, uygun alt katmanların seçimiyle başarıyla biriktirilebilir.
Özet (Çeviri)
Over the last 30 years, there has been a great deal of interest in the research of hard and wear resistant coatings. There exist ceramic thin films for industrial applications such as cutting tools, automobile and machine part including TiN, TiAlN, TiC, SiC, WC and DLC as examples. However, increasing technological and industrial demands request thin films with more complicated properties. For this purpose, B-C-N ternary system with its superhard phases is of great interest during last ten years. Boron carbide (B4C) with its high hardness and modulus besides other relevant properties is one of the most prominent candidates. Furthermore, boron carbonitride (BCN) thin films are attracting due to the combination of different properties as a result of that of different phases such as diamond, cubic boron nitride (c?BN) and hexagonal boron nitride (h?BN). A thorough literature study shows that these two materials have not been yet investigated in details in the thin film form. Boron carbide is one of the least studied materials by atomistic deposition techniques such as sputtering and the least studied compound in the B-C-N ternary diagram. On the other hand, almost all the efforts were given by different researchers to deposit cubic boron nitride. Very limited studies could be found focusing on the effect of nitrogen incorporation into boron carbide structure and on the different phases that could be obtained.Historically, sputtering is one of the oldest thin film deposition techniques and it occupies an important place between different physical vapor deposition (PVD) methods. Today, it is the most widely used atomistic deposition technique in industry and academia to grow thin films in a very large spectrum and for many applications, such as microelectronics, display devices, corrosion, tribology and wear-resistance, high temperature oxidation, solar cells, thermal insulation and decorative coatings, to improve the performance, extending the life, and enhancing the appearance of materials. In addition to its several advantages such as, high deposition rates, low temperature deposition, improved adhesion; with sensitive control of deposition parameters and different possible configurations, thin films with controlled microstructures thus well controlled properties can be obtained by sputtering.The aim of this study is to investigate at first, the effect of different sputter deposition parameters on the properties of boron carbide thin films and to establish a relation between deposition parameters, growth morphologies of boron carbide films and mechanical and wear properties. Second, to study the effect of nitrogen incorporation into boron carbide structure to grow optimized hard and though BCN thin films with an improved wear resistance.In this work, single and multilayered boron carbide and boron carbonitride thin films were deposited by several sputtering configurations. Three types of well adherent and homogenous boron carbide films were deposited by conventional direct current (DC) magnetron sputtering, plasma-enhanced DC magnetron sputtering, and radio frequency (RF) sputtering. Boron carbonitride thin films deposited by reactive DC magnetron sputtering with addition of nitrogen to the processing gas were also studied. Functionally-graded multilayered designs were used to grow thicker boron carbide and boron carbonitride films and the results are presented.An ?in-house? produced direct current compatible, conducting boron carbide target was used for DC magnetron sputtering of boron carbide and boron carbonitride thin films and functionally graded multilayered coatings. A commercial boron carbide target was used for RF sputtering of boron carbide thin films for comparative purposes. AISI M2 steel, AISI 430 steel, and Si (100) wafers were used as substrates.The thickness of boron carbide and boron carbonitride thin films were limited between 350-700 nm in order to prevent delamination of the coatings due to high residual stress generation with the increase in coating thickness. Only functionally graded boron carbide and boron carbonitride thin films were over 1 ?m thick.A series of boron carbide films were deposited by conventional DC magnetron sputtering without external heating (50 °C), at bias voltages between 0 and 200 V. Films deposited at floating potential (without applying any bias voltages) had columnar structures. With the increase of bias voltages from floating to 200 V, a transition from columnar to a denser although still columnar morphology with less separated columns were observed. High-resolution TEM observations accompanied by EFTEM elemental mapping demonstrated that column thicknesses were about 20-25 nm and oxygen from the deposition chamber and/or from ambient air was incorporated into the nanovoids of 2-3 nm between the column boundaries. All observed conventional DC magnetron sputtered B4C films were amorphous according to high-resolution imaging and consequent FFT and/or diffraction patterns. About 20-22 GPa hardness and 220 GPa modulus were measured by nanoindentation for all boron carbide coatings deposited by conventional DC magnetron sputtering. There was no significant effect of applied bias voltages on the hardness of boron carbide films deposited by conventional DC magnetron sputtering. Friction coefficients of about 0.7 and wear rate values of about 5.0 x 10-8 mm3/Nm were obtained against Al2O3 counterfaces for these coatings. The friction coefficient values and wear rates were insensitive to the deposition parameters.Another series of boron carbide films were deposited by plasma-enhanced DC magnetron sputtering at temperatures between 50 °C (without external heating) and 250 °C and bias voltages between floating and 250 V. Featureless, non-columnar microstructures with smooth surface morphologies were observed for all the films deposited by this configuration, even for the films deposited at floating potential without external heating. From nanoindentation measurements, an increase in the hardness and modulus of the coatings with the increase in the bias voltages and deposition temperatures were found. The hardness of the coatings deposited with different bias voltages and temperature combinations was about 30-35 GPa, an hardness value of ~40 GPa was obtained for the coating deposited at 250 °C with 100 V applied bias voltage, which is the hardest coating deposited in this study. Indentation moduli of boron carbide coatings deposited by plasma-enhanced configuration were between 270 and 300 GPa. TEM observations showed that B4C films deposited by plasma-enhanced DC magnetron sputtering were completely amorphous in the total range of process parameters. From high-resolution observations, it is evident that there is a transition layer of 4-5 atomic layers, which correspond to 1-1.5 nm with crystallographic order just at the coating-substrate interface and then the coating becomes quickly amorphous. Tribological studies demonstrated that boron carbide coatings do not give low friction coefficients against different counterfaces. Friction coefficients of about 0.6 were found against Al2O3 for all the coatings deposited by plasma-enhanced configuration. However, good wear rate values between 2.6 ? 3.5 x 10-8 mm3/Nm, thus about two times better wear resistance were obtained from plasma-enhanced DC magnetron sputtered boron carbide films compared to conventional DC magnetron sputtered boron carbide films. The friction coefficient and wear rate values were insensitive to the deposition parameters.The chemical compositions of DC magnetron sputter deposited boron carbide films with or without auxiliary plasma configuration, measured by EPMA were the same with the target material thus source powders and were nearly stoichiometric boron carbide with about 78% B, 21.4% C, 0.3% O and 0.3% Si. The chemical composition was insensitive to the deposition parameters.Boron carbide films were also deposited by RF sputtering using a commercial B4C target with variable sputtering power between 80 and 140 W. Microstructural studies demonstrated the non-columnar growth of these films. Measured film compositions were about 76% B, 23.2% C, 0.5% Si, 0.3% O for RF sputtered boron carbide thin films. Nanomechanical characterizations revealed that coatings had ~22 GPa hardness and ~240 GPa modulus. Lower friction coefficients compared to DC sputtered boron carbide films, about 0.4 were observed at the beginning of ?pin-on-disc? tests instead high values of about 1 obtained for DC sputtered films. Friction coefficients reached a steady-state level around 0.5 until the coatings were completely worn.Boron carbonitride films with N incorporation into boron carbide structure were also studied. Microstructural studies revealed columnar structure for the film deposited in presence of 5% N2 in the processing gas. At 25% N2, the coating microstructure changed to a uniform granular structure and at 50% N2 to a non-uniform coarse granular structure. Chemical compositions of the films deposited were drastically influenced by different amount of N2 in the processing gas. At 5% N2, 30 at.% N incorporated in the coating structure and increased to 76 at.%, for an increase of N2 to 50 % in the processing gas. Nanomechanical characterizations further revealed the effect of N incorporation. The boron carbonitride coating deposited with 5% N2 in the deposition gas had 20 GPa hardness. At 25% N2, the hardness of the coating decreased to about 14 GPa and at 50% N2 to 10 GPa. The Young?s modulus values of the coatings showed also the same tendency to decrease with increasing N2 in the processing gas, from 180 GPa for 5% N2 to 155 GPa at 25% N2 and finally at 50% N2 it reached its minimum value with 135 GPa. Friction coefficients of about 0.7 were measured for BCN films deposited with different N2 percentages in the process gas. Wear rates measured for BCN films were between 1.2 x 10-9 ? 7.8 x 10-10 mm3/Nm. Thus, wear rates of almost 20-40 times better than B4C coatings deposited by plasma-enhanced configuration were found for BCN films.To growth thicker boron carbide and boron carbonitride thin films, functionally graded multilayered designs were also studied. FE-SEM observations and SIMS depth profile analyses revealed that Ti/TiC and Ti/TiN graded underlayers on AISI M2 and Si (100) substrates were successfully formed by plasma-enhanced DC magnetron sputtering and boride underlayers by surface boronizing on AISI 430 steel substrate. Nanoindentation measurements revealed the graded transition of the hardness and modulus values between different layers. Well adherent BCN and boron carbide top layers with thicknesses over 1 µm were successfully grown onto the underlayers.Results demonstrated that boron carbide films are promising candidates for wear resistance and hardness related applications. With a controlled change of process parameters, different microstructures, thus films with different properties were obtained. With N incorporation into boron carbide structure, optimized hard and better wear-resistant films were achieved. This showed that application ranges may be further expanded. Additionally, it was found that functionally-graded multilayered approach is an adequate solution to prevent film delamination and intrinsic stress related problems of hard and wear-resistant films. Thicker boron carbide and boron carbonitride films for several industrial applications could therefore be deposited easily with a proper design for the different underlayers.
Benzer Tezler
- Elektrodepozisyonla sentezlenen NiFe alaşım ve NiFeCu/Cu süperörgülerin yapısal, manyetik ve magnetotransport karakterizasyonu
Structural, magnetic and magnetotransport characterization of the NiFe alloys and NiFeCu/Cu superlattices synthesised by electrodeposition
HİLAL KURU
Doktora
Türkçe
2009
Fizik ve Fizik MühendisliğiBalıkesir ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. HAKAN KÖÇKAR
PROF. DR. MÜRSEL ALPER
- CdS/PbS heteroyapılarının elektrokimyasal depozisyon yöntemiyle sentezi ve karakterizasyonu
Synthesis by electrochemical deposition technique and characterization of CdS/PbS heterostructures
ALİ KÜÇÜK
- TaN, ZrN ve TaN / ZrN çok katlı kaplamaların aşınma özelliklerinin incelenmesi
Investigation of wear properties of TaN, ZrN And TaN / ZrN multilayer thin film coatings
OĞUZ YILDIZ
Yüksek Lisans
Türkçe
2010
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiMetalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. KÜRŞAT KAZMANLI
- MEMS ile entegre mikro ısıtıcı ve IDE mikro sistemlerin fabrikasyonu ve nano kompozit yarı iletken gaz sensör uygulaması
Fabrication of integrated micro heater and ide micro systems with MEMS and application of nano composite semiconductor GAS sensor
HALİME İLBEYİİLİNGİ
Yüksek Lisans
Türkçe
2024
Fizik ve Fizik Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiFizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DR. ÖĞR. ÜYESİ BERNA MOROVA
DOÇ. DR. CİHAT TAŞALTIN
- CrN ve CrN+Cr2N tek katlı ve çok katlı kaplamaların üretimi ve karakterizasyonu
Production and characterization of single layered and multi-layered CrN and CrN+Cr2N coatings
AHMET MURAT YARGAN