Termiyonik vakum ark (TVA) tekniği ile üretilen In, Si, Ge, B ve Cr katkılı ZnO ince filmlerin bazı özellikleri
Investigation of some properties of the prepared In, Si, Ge, B and Cr Doped ZnO thin films using thermionic vacuum arc technique (TVA)
- Tez No: 522603
- Danışmanlar: PROF. DR. SUAT PAT
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2018
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Eskişehir Osmangazi Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Yüksek Enerji ve Plazma Fiziği Bilim Dalı
- Sayfa Sayısı: 109
Özet
Bu tez çalışmasında, reaktif olmayan termiyonik vakum ark tekniği ile farklı alttaşlar üzerine katkılı ZnO ince filmler üretildi. Alttaş malzeme olarak cam ve polietilen tereftalat (PET) tercih edilmiştir. Bu alttaşlar yalıtkan ve şeffaf malzeme olarak bilinirler. Bu çalışmada katkılı ZnO ince filmleri elde etmek için her alttaş için 5 ayrı deney ve toplamda 10 ayrı deney yapıldı. Deney sürecinde tüm belirlenen ve önemli parametreleri belirlendi. Kullanılan analiz teknik ve cihazları ile elde edilen katkılı ZnO ince filmlerin yapısal, optiksel ve yüzey özellikleri incelenmiştir. Üretilen katkılı ZnO ince filmlerin kalınlıkları Filmetrics F20 cihazı vasıtasıyla 10-28 nm arasında ölçülmüştür. Hazırlanan örneklerin kristal boyutlarının hesaplama sonucunda değerler 10 nm ve 28 nm arasında değişim göstermektedir. Optiksel analizler sonucunda, elde edilen soğurma değerlerine göre Tauc yöntemi uygulayarak optiksel yasak enerji (Eg) aralıkları hesaplanmıştır. Yaptığım çalışmada, hazırlanan ince filmlerin Eg aralıkları en düşük Si katkılı ZnO (3,2 eV) ve en yüksek Cr katkılı ZnO'e (3,9 eV) aittir. Yüzey özellikleri incelemek için atomik kuvvet mikroskobu ve alan emisyonlu elektron mikroskobu cihazları kullanılmıştır. Yüzey analiz sonuçlarına göre PET alttaşlar üzerine biriktirilen numunelerin daha pürüzsüz ve simetrik yapıda oldukları tanımlanmıştır.
Özet (Çeviri)
In this thesis, doped zinc oxide (ZnO) thin films have coated on various substrates using non – reactive thermionic vacuum arc (TVA) method. Glass and polyethylene terephthalate (PET) have been preferred as substrate materials. Accordingly, these substrates are known as insulating and transparent materials, respectively. In this investigation, 5 separate experiments were carried out for each substrate and totally, 10 different experiments were performed to obtain doped ZnO thin films. All determined and remarkable parameters are fixed during the experiment procedure. The structural, optical and surface properties of the doped ZnO thin films obtained by the analysis techniques and devices were studied. Using Filmetrics F20 apparatus, thickness values of the prepared thin films were measured between 10-28 nm. The crystallite sizes of the prepared samples vary between 10 nm and 28 nm. As a result of the optical results, the optical band gap energy (Eg) ranges were calculated according to the Tauc method and by using of the absorption values. In this research and based on the results, the lowest and highest Eg values of the samples were belonging to Si doped (3.2 eV) and Cr doped ZnO (3.9 eV) thin films, respectively. Atomic force microscopy and field emission electron microscopy devices were used to study the surface features. Regarding to the surface analysis results, it is found that the samples deposited on PET substrates are in a smoother and symmetrical structure related to the glass ones.
Benzer Tezler
- Katkılı ve katkısız GaAs ince filmlerin üretilmesi ve bazı özelliklerinin incelenmesi
Preparation of doped and undoped GaAs thin films and investigation of their some properties
VOLKAN ŞENAY
Doktora
Türkçe
2016
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. SUAT PAT
- Termiyonik vakum ark (TVA) tekniği ile II-VI grubu bazı yarıiletken bileşiklerin ince filmlerinin üretilmesi ve bazı fiziksel özelliklerinin incelenmesi
Produce of thin films of II-VI group some semiconductor compounds with thermionic vacuum arc (TVA) technique and investigation of some physical properties
MEHMET ÖZKAN
Doktora
Türkçe
2010
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. NACİ EKEM
- Termiyonik vakum ark yöntemi ile katkılı çinko oksit ince film üretimi
Production of doped ZnO thin films using thermionic vacuum arc method
SERCAN SADIK ERDEM
Yüksek Lisans
Türkçe
2020
Fizik ve Fizik MühendisliğiAfyon Kocatepe ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DR. ÖĞR. ÜYESİ MEHMET ÖZKAN
- ITO, IZO ve AZO ince filmlerinin bazı fiziksel özelliklerinin incelenmesi
Investigation of some physical properties of ITO, IZO and AZO thin films
SALİHA ELMAS
Doktora
Türkçe
2013
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. ŞADAN KORKMAZ
- Termiyonik vakum ark (TVA) tekniği ile magnezyum, bor ve magnezyum borür ince filmlerinin üretilmesi ve bazı fiziksel özelliklerinin incelenmesi
Production of magnesium, boron and magnesium diboride thin films using thermionic vacuum arc (TVA) technique and investigation of some physical properties
MUSTAFA ZAFER BALBAĞ
Doktora
Türkçe
2009
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. NACİ EKEM