V2O5 ince filmlerin Si alttaş üzerine büyütülmesi ve sıcaklığın film karakterleri üzerine etkisinin incelenmesi
Production of V2O5 thin films on Si substrate and investigation of the effect of temperature on film characteristics
- Tez No: 545397
- Danışmanlar: PROF. DR. SÜLEYMAN ÖZÇELİK
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2018
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Gazi Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: İleri Teknolojiler Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 64
Özet
Bu tez çalışmasında; V2O5 ince filmler Si alttaş üzerine farklı alttaş sıcaklıklarında RF magnetron püskürtme tekniği kullanılarak büyütüldü. Büyütülen ince filmler farklı sıcaklık değerlerinde tavlandı. V2O5 ince filmlerin yapısal, morfolojik, optik ve elektriksel özellikleri X-Işını Kırınım (XRD), Fourier Dönüşümlü Kızılötesi (FTIR), Atomik Force Mikroskop (AFM) ve Hall analiz teknikleri kullanılarak belirlendi. İnce filmlerdeki kristal oluşumu ve kristal kaliteleri XRD ile, kimyasal bağ yapısı FTIR spektrometre ile, yüzey morfolojisi ise AFM ile belirlendi. Elde edilen ölçüm sonuçlarından, filmlerin kristal kalitesinin artan alttaş sıcaklığı ile arttığı bulundu. Ayrıca, ince filmlerin yüzey pürüzlülüğü artan tavlama sıcaklığı ile arttığı bulundu. Hall analizleri incelendiğinde, özdirencin artan film sıcaklığı ile özdirencin azaldığı gözlendi.
Özet (Çeviri)
In this thesis; V2O5 thin films were produced on Si subsrate by using RF magnetron sputtering technique at different subsrate temperatures. The produced thin films were annealed at different temperature values. The structural, morphological, optical and electrical properties of V2O5 thin films were determined using X-Ray Diffraction (XRD), Fourier Transformed Infrared (FTIR), Atomic Force Microscope (AFM) and Hall analysis techniques. Crystal formation and crystal quality in thin films were determined by XRD, chemical bond structure was determined by FTIR spectrometer and surface morphology by AFM. From the measurement results obtained, it was found that the crystal quality of the films was increased with increasing subsrate temperature. Morever, it was found that the surface roughness of the thin films increased with increasing annealing temperature. When the Hall analysis was examined, it was observed that the resistivity decreased with increasing film temperature.
Benzer Tezler
- V2O5 ince filmlerin yapısal, morfolojik ve optiksel karakterizasyonu
Structural, morphological and optical characterization of V2O5 thin films
MELTEM DÖNMEZ
Yüksek Lisans
Türkçe
2015
Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. MEHMET ÇAKMAK
- Vanadyum pentaoksit temelli optik sensörlerde numune kalınlığının ve tavlama sıcaklığının sensör parametrelerine etkisi
The effect of sample thickness and anneali̇ng temperature on sensor parameters in vanadium pentoxide based optical sensors
EVREN ERDİL
Yüksek Lisans
Türkçe
2022
Metalurji MühendisliğiGazi Üniversitesiİleri Teknolojiler Ana Bilim Dalı
PROF. DR. SELİM ACAR
- Vanadyum oksit tabanlı kızılötesi dedektör geliştirilmesi
Development of vanadium oxide-based infrared detector
MELTEM DÖNMEZ KAYA
Doktora
Türkçe
2021
Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi Üniversitesiİleri Teknolojiler Ana Bilim Dalı
PROF. DR. MEHMET ÇAKMAK
- V2O5 ince filmlerin saçtırma yöntemi ile biriktirilmesi ve diyot üretiminde kullanılması
Deposition of V2O5 thin films by sputtering method and their usage in the fabrication of diodes
RAHMİ ÖZALP
Yüksek Lisans
Türkçe
2019
Fizik ve Fizik MühendisliğiDicle ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. SEZAİ ASUBAY
- A microbolometer detector based on a sol-gel technology
Sol jel teknolojisine dayalı mikrobolometre dedektörü
ÖZGECAN DERVİŞOĞLU
Doktora
İngilizce
2013
Elektrik ve Elektronik MühendisliğiOrta Doğu Teknik ÜniversitesiMikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı
PROF. DR. TAYFUN AKIN
DOÇ. DR. CANER DURUCAN