Geri Dön

a-Si;H filimlerinde ısıl uyarlamalı akım (Thermally smilated current) ve fotoiletkenlik ölçümleri

Başlık çevirisi mevcut değil.

  1. Tez No: 55362
  2. Yazar: ERONSOY TOPÇU
  3. Danışmanlar: DOÇ.DR. AYNUR ERAY
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Akım ölçerler, Film, Fotoiletkenlik, Flowmeters, Film, Photoconductivity
  7. Yıl: 1996
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Hacettepe Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

ÖZET Bu çalışmada, plazma biriktirme yöntemiyle hazırlanmış mdrojerüendirilmiş amorf silisyum filimler üzerinde, 110-420 K. sıcaklık aralığında, karanlık iletkenlik, fotoiletkenlik, ısıl uyarmalı akım deneyleri yapılmıştır. Ayrıca Staebler-Wronski olayının etkisi incelenmiştir. Fotoiletkenlik deneyleri, ışık kaynağı olarak 585 nın ve 660 ran dalga boylu LED grupları kullanılarak, üretim hızının (G) 2xl015 -2xl018 foton/cm3s aralığında değiştirilmesiyle, sıcaklığın ve foton akısının fonksiyonu olarak incelenmiştir. Tüm deneklerde, 150-220 K sıcaklık aralığında, fotoiletkenliğin azaldığı“Thermal Quenching”bölgesi gözlenmiştir. Fotoiletkenliğin, TQ bölgesindeki minimum ve maksimumları, artan üretim hızı ile yüksek sıcaklıklara kaymakta ve maksimumlardaki kayma aktivasyon türü bir davranış vermektedir. ap~Gr bağuıüsındaki y sıcaklığa bağlıdır; düşük sıcaklıklarda y<l, TQ bölgesinde y>l'dir. Sonuçlar mevcut modellerle açıklanmaya çalışılmıştır. Isıl uyarmalı akım ölçümlerinde, fazla belirgin olmamakla birlikte, literatürde belirtildiği gibi biri ~110 K, diğeri ~300 K civarında olan iki tepe gözlenmiştir. Deneklerin şiddetli ışığa açılması, 100-300 K arasında farklı sıcaklıklarda yapılan aydınlatmalarla incelenmiştir. Tüm sıcaklıklarda, deneğin ışığa açılmasıyla fotoiletkenlik önemli ölçüde azalmaktadır. Farklı sıcaklıklarda aydınlatma sonucu yaratılan kusurların kararlılığını açıklamak için, denekler 50 K'lik artışlarla ardışık olarak tavlanmışlardır. Düşük sıcaklıklarda yaratılan kusurlar, yüksek sıcaklıklarda yaratılan kusurlara oranla daha düşük sıcaklıklarda tavlanmaya başlamaktadır. Işık eşlikli etkilerin bugüne kadar aydınlanmamış olmasına rağmen, sonuçlar mevcut modellerle açıklanmıştır.

Özet (Çeviri)

ABSTRACT In this study, dark conductivity, photoconductivity and thermally stimulated current experiments are carried out on hydrogenated amorphous silicon samples prepared by PECVD, within the temperature range of 1 10-420 K. Photoconductivity measurements are investigated as a function of temperature and photon fluxes within the generation rate range of 2xl015-2xl018 photon/cm3s by using LED's groups centered at 585 nm and 660 nm, as light source. The temperature dependent photoconductivity curve shows a clear thermal quenching (TQ) in the temperature range of 150-220 K. TQ maximum and minimum of the photoconductivity curve moves to higher temperatures with the generation rate and the thermally activated behaviour is present for TQ maximum and minimum values of photoconductivity. The exponent y in the o-pc~GY relation is temperature dependent; y <1 at low temperatures, y >1 in the TQ region. Results are attempted to explain by using existing models. On the TSC measurements, two peaks, one of at 1 10 K, the other one at 300 K are observed even if they are not seen clearly. Light soaking were investigated by the exposure to light at temperatures between 100-300 K. Upon light exposure at all these temperatures, o*pc decreases significantly. In order to explain the stability of the defects which are created at different exposure temperatures, the samples were annealed step by step with 50 K increments. Defects created at lower temperatures begin to anneal at lower annealing temperatures than those created at higher temperatures. Although light induced effects on a-Si:H are still an open question, the results are dicussed within the framework of the existing models.

Benzer Tezler

  1. Ovulasyon indüksiyonu tedavisinde folliküler gelişimin ultrasonografik takibi

    Başlık çevirisi yok

    MERİH BAYRAM

    Tıpta Uzmanlık

    Türkçe

    Türkçe

    1987

    Kadın Hastalıkları ve DoğumGazi Üniversitesi

    Kadın Hastalıkları ve Doğum Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. MÜLAZIM YILDIRIM

  2. Çimentonun sertleşmesi üzerinde kimyasal komponentlerin etkisi

    Başlık çevirisi yok

    NACİYE TÜRKEL

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1986

    Kimya MühendisliğiUludağ Üniversitesi

    Kimya Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MUSTAFA CEBE

  3. Bazı esterlerin kinetik incelenmesi ve termodinamik parametrelerin belirlenmesi

    Kinetic study and detesmination of thermodnamic parameters of some esters

    İBRAHİM TAŞ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1986

    Kimya MühendisliğiUludağ Üniversitesi

    Kimya Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MUSTAFA CEBE

  4. Atherosklerotik kalp hastalıklarında risk faktörleri

    Risk factors in the coronary artery disease

    MURAT SUHER

    Tıpta Uzmanlık

    Türkçe

    Türkçe

    1987

    KardiyolojiGazi Üniversitesi

    İç Hastalıkları Ana Bilim Dalı