Temperature dependent electrical characterization of NiO/n-Si heterojunction
NiO/n-Si heteroeklemin sıcaklığa bağlı elektriksel karaktarizasyonu
- Tez No: 616399
- Danışmanlar: DOÇ. DR. ÖMER ÇELİK
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2015
- Dil: İngilizce
- Üniversite: Dicle Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.
Özet
Bu çalışmada, NiO/n-Si heteroeklemin elde edilmesi ve sıcaklığa bağlı elektriksel özelliklerinin belirlenmesi amaçlanmıştır. Bu amaçla, n-Si yarıiletken ve cam üzerine NiO ince filmleri radio frekansı (RF) reaktif saçtırma yöntemi ile biriktirilmiştir. Yüksek saflıkta Ni hedef olarak ve oksijen reaktif gaz olarak kullanılmıştır. Au metali doğrultucu kontak olarak buharlaştırılmıştır. Au/NiO/n-Si heteroeklemin sıcaklığa bağlı elektriksel parametreleri 305 ile 480 K arasında alınan akım-gerilim ölçümleri ile belirlenmiştir. İdealite faktörü, engel yüksekliği ve seri direnç gibi elektriksel parametrelerin sıcaklığa kuvvetlice bağlı olduğu görülmüştür. Ayrıca, cam üzerindeki ince filmin optik özellikleri uv-vis verileri ile analiz edilmiştir.
Özet (Çeviri)
In this study, it was aimed to obtain NiO/n-Si heterojunction and determine its temperature dependent electrical properties. For this aim, NiO thin films were growth on an n-Si semiconductor and a glass by radio frequency (RF) reactive sputtering technique. High purity Ni was used as target and oxygen was used as reactive gas. Au metal was evaporated to obtain front contact. Temperature dependent electrical parameters of Au/NiO/n-Si heterojunction were executed its current-voltage (I-V) measurements between 305 and 480 K in dark. It was seen that electrical parameters such as ideality factor, barrier height and series resistance were strongly sensitive to temperature. Furthermore, optical properties of thin film on a glass were analyzed by means of uv-vis data.
Benzer Tezler
- Si (100) taşıyıcılı Ni-Si ve Ag-Ni-Si silisid filmlerin elde edilmesi, elektriksel ve yapısal özelliklerinin incelenmesi
Formation of the Ni-Si and Ag-Ni-Si silicide films on Si(100) substrates and investigation of their structural and electrical properties
GÖKHAN UTLU
- Toz metalurjisi yöntemleri ile üretilen çeşitli W-Ni-Fe ve W-Ni-Cu ağır alaşımların mikroyapısal ve fiziksel karekterizasyonu
Microstructural and physical characterization of various W-Ni-Fe and W-Ni-Cu heavy alloys manufactured via powder metallurgy methods
GÜNKUT ERNAS
- Buharlaştırma, SILAR ve elektrokimyasal yöntemler ile oluşturulan PbS arayüzeyli Schottky kontakların karakterizasyonu
Characterization of Schottky contacts PbS interface constituted with evaporation, SILAR and electrochemical methods
YASİR GÜLEN
- Synthesis of some functional conducting polymers, characterization, Mott-Schottky analysis and sensor applications
Bazı fonksiyonel iletken polimerlerin sentezi, karakterizasyonu, Mott-Schottky analizi ve sensor uygulamaları
TOLGA KARAZEHİR
Doktora
İngilizce
2017
İstanbul Teknik ÜniversitesiPolimer Bilim ve Teknolojisi Ana Bilim Dalı
Yükleniyor...
- Nikel köpüklerin ergimiş KOH içerisinde anodik oksidasyonu ile süperkapasitör uygulamaları için elektroaktif nikel oksit üretimi ve karakterizasyonu
Production and characterization of electroactive nickel oxides grown on nickel foam by anodic oxidation in KOH melts for supercapacitor applications
NAZLI İREM TOKMAK
Yüksek Lisans
Türkçe
2017
İstanbul Teknik ÜniversitesiMalzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
Yükleniyor...