Production and characterization of ZnO and Al doped ZnO films by SILAR method
SILAR yöntemiyle katkısız ve Al katkılı ZnO ince filmlerin ile üretilmesi ve karakterizasyonu
- Tez No: 823899
- Danışmanlar: DR. ÖĞR. ÜYESİ İLKER KARA
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2023
- Dil: İngilizce
- Üniversite: Çankırı Karatekin Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 60
Özet
Bu çalışmada katkısız ZnO ve farklı konsantrasyonlarda Al-katkılı ZnO ince filmler ITO substrate üzerine SILAR (Sıralı İyonik Tabaka Adsorpsiyonu ve Reaksiyonu) yöntemi ile başarılı bir şekilde büyütüldü. Üretilen ince filmler Taramalı elektron mikroskobu (SEM/EDS), X-ışını kırınımı (XRD) ve UV-VIS spektroskopi yöntemi ile karakterize edildi. XRD analiz sonuçlarından üretilen ince filmlerin nanoboyutta kristalize olduklarını ve kristalleşme kalitesinin Al katkı konsantrasyonuna bağlı olarak değiştiğini görüldü. SEM/EDS analiz sonuçları, ZnO ince filmlerin morfolojisi üzerinde Al katkılama konsantrasyonun önemli bir etkiye sahip olduğunu gösterdi. UV-VIS analiz sonuçları, üretilen ince filmlerin hem optik bant aralığı değerlerinde hem de geçirgenliklerinde katkı konsantrasyonuna bağlı olarak önemli farklılıkların oluştuğunu görüldü.
Özet (Çeviri)
In this study, undoped ZnO and Al-doped ZnO thin films at different concentrations were successfully grown on ITO substrate by SILAR (Sequential Ionic Layer Adsorption and Reaction) method. The thin films produced were characterized by scanning electron microscopy (SEM/EDS), X-ray diffraction (XRD), and UV-VIS spectroscopy. According to the XRD analysis results, it was observed that the produced thin films crystallized at the nanoscale and that the crystallization quality changed depending on the Al additive concentration. SEM/EDS analysis results showed that the concentration of Al doping has a significant effect on the morphology of ZnO thin films. UV-VIS analysis results showed that there were significant differences in both optical band gap values and transmittance of the produced thin films depending on the additive.
Benzer Tezler
- Döndürerek kaplama yöntemi ile hazırlanan ZnO:Al ince filmlerin üretilmesi ve karakterizasyonu
Characterization and production of ZnO:Al thin films prepared by spin coating method
SENA ALTUNCU KÖK
Doktora
Türkçe
2020
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DR. ÖĞR. ÜYESİ MEHMET PEKER
- Al, Ga katkılı N-tipi ZnO saydam iletken oksitlerin üretimi ve karakterizasyonu
Production and characterization of Al, Ga doped N-type ZnO transparent conducting oxides
AYŞEN KAYA
Yüksek Lisans
Türkçe
2019
Metalurji Mühendisliğiİskenderun Teknik Üniversitesiİleri Metalurji ve Malzeme Teknolojileri Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. VOLKAN AYLIKCI
- Opto-elektronik uygulamalarda kullanılabilecekm katkısız ve Al katkılı ZnO filmlerinin üretilmesi
Production of undoped and Al doped ZnO films for opto-electronic applications
GÖKSU ÖFÖFOĞLU
Yüksek Lisans
Türkçe
2014
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. SEMA KURTARAN
- Capacitance-voltage and current-voltage characteristic properties of ZnO:Al/p-Si heterojunction
ZnO:Al/p-Si heterokavşakların kapasitans-voltaj ve akım-voltaj karakteristik özellikleri
YELİZ KÖSE
Yüksek Lisans
İngilizce
2015
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiMetalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. MURAT BAYDOĞAN
- Nano yapılı metal oksit yarıiletkenler kullanılarak foto diyotların üretilmesi
Using nano-structured metal oxide semiconductor production of photo diodes
MEHMET ÇAVAŞ
Doktora
Türkçe
2011
Metalurji MühendisliğiFırat ÜniversitesiMetalurji Eğitimi Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. NİYAZİ ÖZDEMİR
PROF. DR. FAHRETTİN YAKUPHANOĞLU