Co-Cu alaşım filmlerinin elektrodepozisyonu ve özelliklerinin incelenmesi
Electrodeposition and characterisation of Co-Cu alloy films
- Tez No: 198628
- Danışmanlar: DOÇ.DR. MÜRSEL ALRER
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Elektrodepozisyon, Co filmler, Co-Cu alaşım filmleri, Manyetorezistans, AMR, Electrodeposition, Co films, Co-Cu alloys films, Magnetoresistance, AMR
- Yıl: 2005
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Uludağ Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 80
Özet
ÖZETCo ve Co-Cu filmler her biri kendi iyonlarını içeren çözeltilerden Ti(hcp) alttabaka üzerine elektrodepozisyon yöntemiyle büyütüldüler.Filmlerin özellikleri depozisyon potansiyeli, kalınlık, çözelti pH'ı ve Cukonsantrasyonuna göre araştırıldı. Filmlerin depozisyon potansiyelleridönüşümlü voltametri (CV) metoduyla -1.6V olarak belirlendi. Büyümesırasında akım zaman geçişleri kaydedilerek büyüme modları incelendi.Buradan yola çıkarak Co ve Co-Cu filmlerin birbirinden farklı büyümemekanizmasına sahip olduğu saptandı.Filmlerin nominal kütleleri tartılan kütleler ile karşılaştırılarak akımverimliliği yaklaşık %80 olarak hesaplandı. ICP-AES metoduyla yapılankimyasal analizlerden filmlerin %90 civarında Co, %10 civarında Cuiçerdiği bulundu. Bunun yanında çözeltideki Cu miktarına bağlı olarakfilmdeki Cu oranı da değişmektedir.Filmlerin yapısal analizleri X-ışını difraksiyonu (XRD) tekniği ileyapıldı. Yüksek ve düşük pH'da üretilmiş Co filmler fcc yapıgöstermektedir. Ancak tercihli yönelimleri pH'a göre değişmektedir.Bunun yanında yüksek pH'da üretilen Co-Cu filmler karışık (fcc+hcp) yapıgösterirken düşük pH'daki filmler fcc yapıdadır. Ayrıca filmlerde depozitedilen Cu miktarı film yapısını etkilemektedir. Saf Co fcc, 0.01 M Cu içerençözeltiden büyütülmüş film hcp, 0.02 M ve 0.04 M Cu içeren çözeltidenbüyütülmüş filmler karışık yapıdadır.Farklı parametrelere göz önünde tutularak filmlerin MR özellikleriincelendi. Hazırlanan tüm filmlerin anizotropik manyetorezistans (AMR)davranış gösterdiği tespit edildi. pH' ın MR değerlerini etkilediği görüldü.Ayrıca filmlerdeki Cu konsantrasyonunun artmasıyla MR eğrilerindekidalgalanmalar azalmaktadır.
Özet (Çeviri)
ABSTRACTSingle Co and Co-Cu alloy films were grown on polycrystalline Ti(hcp) substrates from electrolytes containing their ions by theelectrodeposition technique. The properties of the films were investigatedas a function of the deposition potential, the film thickness, the electrolytepH and the Cu concentration. The appropriate potential region fordeposition was determined by the cyclic voltammetry (CV) method. Thecurrent-time transients recording during deposition was used toinvestigate the initial nucleation and progressive growth mechanisms offilms. It was observed that the Co and Co-Cu films have different growthmechanisms.The current efficiency can be calculated from the ratio of thenominal mass of the films to their real mass weighed in a balance . Theefficiency was found to be about 80 %. The ICP-AES analysis revealed thatCo-Cu films include 90 % Co and 10 % Cu. The Cu content in the filmschanges with the Cu concentration in electrolyte.The structural characterisations were studied using X-raydiffraction (XRD). Single Co films show face centred cubic (fcc) crystalstructure at all pHs studied, but their preferred orientations change withthe electolyte pH. Co-Cu films the crystal structure is a mixture of fcc andhexagonal closed packed (hcp) at high pH (3.9), while fcc at low pH (1.9).The Cu concentration in electrolyte was observed to affect the crystalstructure. The Co-Cu film grown from an electrolyte containing 0.01 M Cushows hcp, while those grown from the electrolytes having 0.02 M and0.04 M Cu concentrations show mixed (fcc+hcp) crystal structure.Magnetoresistances measurements of films were carried out atroom temperature and in the magnetic field of up to ±10 kOe. It wasobserved that both Co and Co-Cu films exihibited anisotropicmagnetoresistances (AMR) which is affected considerably by theelectrolyte pH.
Benzer Tezler
- CoCu alaşım filmlerin elektrodepozisyonu, yapısal ve manyetik özellikleri üzerine depozisyon parametrelerin etkisinin incelenmesi
Electrodeposition of CoCu films and investigation of the effect of deposition parameters on their structural and magnetic properties
ÖZNUR KARAAĞAÇ
Yüksek Lisans
Türkçe
2007
Fizik ve Fizik MühendisliğiBalıkesir ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ.DR. HAKAN KÖÇKAR
PROF.DR. MÜRSEL ALPER
- Elektrodepozisyon tekniği ile büyütülen CoFeCu filmlerin yapısal, manyetik ve manyetodirenç özelliklerinin incelenmesi
Investigation of structural, magnetic and magnetoresistance properties of CoFeCu films produced by electrodeposition technique
ERCÜMENT ÖZERGİN
Yüksek Lisans
Türkçe
2008
Fizik ve Fizik MühendisliğiBalıkesir ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. HAKAN KÖÇKAR
PROF. DR. MÜRSEL ALPER
- Elektrokimyasal depolama yoluyla elde edilen CuCo ve Cu-Co-Ni alaşım filmlerinin yapısal ve magnetorezistans özellikleri
The characterizations of structural and magnetoresistance properties of CuCo and Cu-Co-Ni alloys obtained by electrochemical deposition
İSMAİL HAKKI KARAHAN
Doktora
Türkçe
2002
Fizik ve Fizik MühendisliğiAtatürk ÜniversitesiOrtaöğretim Fen ve Matematik Alanları Eğitimi Ana Bilim Dalı
PROF.DR. Ö. FARUK BAKKALOĞLU
- Magnetoresistance effect CuAgCo allo films
CuAgCo alaşım filmlerinde magnetoresistans etkisi
PINAR CAN
Yüksek Lisans
İngilizce
2005
Fizik ve Fizik MühendisliğiGaziantep ÜniversitesiFizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. ÖMER FARUK BAKKALOĞLU
- Elektrokimyasal depolama metoduyla elde edilen Co-Cu alaşım filmlerinde sıcaklığa bağlı boyuna magnetorezistans ve özdirenç
Longitudinal magnetorezistans in Co-Cu alley films prepared by electrochemical deposition method
İSMAİL HAKKI KARAHAN
Yüksek Lisans
Türkçe
1997
Eğitim ve ÖğretimAtatürk ÜniversitesiFizik Eğitimi Ana Bilim Dalı
DOÇ.DR. ÖMER FARUK BAKKALOĞLU