Geri Dön

Co-Cu alaşım filmlerinin elektrodepozisyonu ve özelliklerinin incelenmesi

Electrodeposition and characterisation of Co-Cu alloy films

  1. Tez No: 198628
  2. Yazar: MÜRŞİDE ŞAFAK
  3. Danışmanlar: DOÇ.DR. MÜRSEL ALRER
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Elektrodepozisyon, Co filmler, Co-Cu alaşım filmleri, Manyetorezistans, AMR, Electrodeposition, Co films, Co-Cu alloys films, Magnetoresistance, AMR
  7. Yıl: 2005
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Uludağ Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 80

Özet

ÖZETCo ve Co-Cu filmler her biri kendi iyonlarını içeren çözeltilerden Ti(hcp) alttabaka üzerine elektrodepozisyon yöntemiyle büyütüldüler.Filmlerin özellikleri depozisyon potansiyeli, kalınlık, çözelti pH'ı ve Cukonsantrasyonuna göre araştırıldı. Filmlerin depozisyon potansiyelleridönüşümlü voltametri (CV) metoduyla -1.6V olarak belirlendi. Büyümesırasında akım zaman geçişleri kaydedilerek büyüme modları incelendi.Buradan yola çıkarak Co ve Co-Cu filmlerin birbirinden farklı büyümemekanizmasına sahip olduğu saptandı.Filmlerin nominal kütleleri tartılan kütleler ile karşılaştırılarak akımverimliliği yaklaşık %80 olarak hesaplandı. ICP-AES metoduyla yapılankimyasal analizlerden filmlerin %90 civarında Co, %10 civarında Cuiçerdiği bulundu. Bunun yanında çözeltideki Cu miktarına bağlı olarakfilmdeki Cu oranı da değişmektedir.Filmlerin yapısal analizleri X-ışını difraksiyonu (XRD) tekniği ileyapıldı. Yüksek ve düşük pH'da üretilmiş Co filmler fcc yapıgöstermektedir. Ancak tercihli yönelimleri pH'a göre değişmektedir.Bunun yanında yüksek pH'da üretilen Co-Cu filmler karışık (fcc+hcp) yapıgösterirken düşük pH'daki filmler fcc yapıdadır. Ayrıca filmlerde depozitedilen Cu miktarı film yapısını etkilemektedir. Saf Co fcc, 0.01 M Cu içerençözeltiden büyütülmüş film hcp, 0.02 M ve 0.04 M Cu içeren çözeltidenbüyütülmüş filmler karışık yapıdadır.Farklı parametrelere göz önünde tutularak filmlerin MR özellikleriincelendi. Hazırlanan tüm filmlerin anizotropik manyetorezistans (AMR)davranış gösterdiği tespit edildi. pH' ın MR değerlerini etkilediği görüldü.Ayrıca filmlerdeki Cu konsantrasyonunun artmasıyla MR eğrilerindekidalgalanmalar azalmaktadır.

Özet (Çeviri)

ABSTRACTSingle Co and Co-Cu alloy films were grown on polycrystalline Ti(hcp) substrates from electrolytes containing their ions by theelectrodeposition technique. The properties of the films were investigatedas a function of the deposition potential, the film thickness, the electrolytepH and the Cu concentration. The appropriate potential region fordeposition was determined by the cyclic voltammetry (CV) method. Thecurrent-time transients recording during deposition was used toinvestigate the initial nucleation and progressive growth mechanisms offilms. It was observed that the Co and Co-Cu films have different growthmechanisms.The current efficiency can be calculated from the ratio of thenominal mass of the films to their real mass weighed in a balance . Theefficiency was found to be about 80 %. The ICP-AES analysis revealed thatCo-Cu films include 90 % Co and 10 % Cu. The Cu content in the filmschanges with the Cu concentration in electrolyte.The structural characterisations were studied using X-raydiffraction (XRD). Single Co films show face centred cubic (fcc) crystalstructure at all pHs studied, but their preferred orientations change withthe electolyte pH. Co-Cu films the crystal structure is a mixture of fcc andhexagonal closed packed (hcp) at high pH (3.9), while fcc at low pH (1.9).The Cu concentration in electrolyte was observed to affect the crystalstructure. The Co-Cu film grown from an electrolyte containing 0.01 M Cushows hcp, while those grown from the electrolytes having 0.02 M and0.04 M Cu concentrations show mixed (fcc+hcp) crystal structure.Magnetoresistances measurements of films were carried out atroom temperature and in the magnetic field of up to ±10 kOe. It wasobserved that both Co and Co-Cu films exihibited anisotropicmagnetoresistances (AMR) which is affected considerably by theelectrolyte pH.

Benzer Tezler

  1. CoCu alaşım filmlerin elektrodepozisyonu, yapısal ve manyetik özellikleri üzerine depozisyon parametrelerin etkisinin incelenmesi

    Electrodeposition of CoCu films and investigation of the effect of deposition parameters on their structural and magnetic properties

    ÖZNUR KARAAĞAÇ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2007

    Fizik ve Fizik MühendisliğiBalıkesir Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ.DR. HAKAN KÖÇKAR

    PROF.DR. MÜRSEL ALPER

  2. Elektrodepozisyon tekniği ile büyütülen CoFeCu filmlerin yapısal, manyetik ve manyetodirenç özelliklerinin incelenmesi

    Investigation of structural, magnetic and magnetoresistance properties of CoFeCu films produced by electrodeposition technique

    ERCÜMENT ÖZERGİN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2008

    Fizik ve Fizik MühendisliğiBalıkesir Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. HAKAN KÖÇKAR

    PROF. DR. MÜRSEL ALPER

  3. Elektrokimyasal depolama yoluyla elde edilen CuCo ve Cu-Co-Ni alaşım filmlerinin yapısal ve magnetorezistans özellikleri

    The characterizations of structural and magnetoresistance properties of CuCo and Cu-Co-Ni alloys obtained by electrochemical deposition

    İSMAİL HAKKI KARAHAN

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2002

    Fizik ve Fizik MühendisliğiAtatürk Üniversitesi

    Ortaöğretim Fen ve Matematik Alanları Eğitimi Ana Bilim Dalı

    PROF.DR. Ö. FARUK BAKKALOĞLU

  4. Magnetoresistance effect CuAgCo allo films

    CuAgCo alaşım filmlerinde magnetoresistans etkisi

    PINAR CAN

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2005

    Fizik ve Fizik MühendisliğiGaziantep Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. ÖMER FARUK BAKKALOĞLU

  5. Elektrokimyasal depolama metoduyla elde edilen Co-Cu alaşım filmlerinde sıcaklığa bağlı boyuna magnetorezistans ve özdirenç

    Longitudinal magnetorezistans in Co-Cu alley films prepared by electrochemical deposition method

    İSMAİL HAKKI KARAHAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1997

    Eğitim ve ÖğretimAtatürk Üniversitesi

    Fizik Eğitimi Ana Bilim Dalı

    DOÇ.DR. ÖMER FARUK BAKKALOĞLU