Thickness determination of thin films by energy dispersive x-ray spectroscopy
Enerji dağılımı x-ışını spektroskopisi yöntemiyle ince film kalınlık analizi
- Tez No: 285642
- Danışmanlar: PROF. RAŞİT TURAN, YRD. DOÇ. DR. BURCU AKATA KURÇ
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2010
- Dil: İngilizce
- Üniversite: Orta Doğu Teknik Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Mikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 93
Özet
EDS, malzemelerin nitelik ve nicelik analizini yapan bir araçtır. Elektronmikroskopisinde, elektronların enerjisi, örnekten gelen X ışınlarının geldiği bölgeninderinliğini belirler. Elektronların enerjileri değiştirilerek, X ışınlarının geldiğiderinlik de değiştirilebilir. Herhangi bir ince film yapısı incelendiğinde, farklıelektron enerjilerinde farklı element yüzdeleri ile karşılaşılır. Belirli bir filmin, belirlibir kalınlığı, kendine özgü bir enerji-oran diagrami verecektir ki, biz bu diagramı ofilmin o kalınlığı için parmakizi olarak nitelendirebiliriz ve buradan filminkalınlığına ulaşılabilir.
Özet (Çeviri)
EDS is a tool for quantitative and qualitative analysis of the materials. In electronmicroscopy, the energy of the electrons determines the depth of the region where theX-rays come from. By varying the energy of the electrons, the depth of the regionwhere the X-rays come from can be changed. If a thin film is used as a specimen,different quantitative ratios of the elements for different electron energies can beobtained. Unique thickness of a specific film on a specific substrate gives uniqueenergy-ratio diagram so the thickness of a thin film can be calculated by analyzingthe fingerprints of the energy-ratio diagram of the EDS data obtained from the film.
Benzer Tezler
- Termiyonik vakum ark (TVA) tekniği ile II-VI grubu bazı yarıiletken bileşiklerin ince filmlerinin üretilmesi ve bazı fiziksel özelliklerinin incelenmesi
Produce of thin films of II-VI group some semiconductor compounds with thermionic vacuum arc (TVA) technique and investigation of some physical properties
MEHMET ÖZKAN
Doktora
Türkçe
2010
Fizik ve Fizik MühendisliğiEskişehir Osmangazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. NACİ EKEM
- Pb(Zr 0.52 Ti 0.48)O3 films on stainless steel by chemical solution deposition
Kimyasal çözeltiden biriktirme yöntemiyle paslanmaz çelik üzerinde hazırlanan Pb(Zr 0.52 Ti 0.48)O3 filmler
FARUK ALTAN YILDIRIM
Yüksek Lisans
İngilizce
2002
Metalurji MühendisliğiOrta Doğu Teknik ÜniversitesiMetalurji Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. MACİT ÖZENBAŞ
- Magnetron sıçratma yöntemiyle farklı zirkonyum katkılama oranlarıyla hazırlanan tungsten oksit ince filmlerinin karakterizasyonu ve elektrokromik özelliklerinin incelenmesi
Characterization and investigation of electrochromic properties of zirconium doped tungsten oxide thin films coated by magnetron sputtering method
CEREN GİRAY
Yüksek Lisans
Türkçe
2023
KimyaMarmara ÜniversitesiKimya Ana Bilim Dalı
DR. ÖĞR. ÜYESİ EFE BATURHAN ORMAN
PROF. DR. ALİ RIZA ÖZKAYA
- Katodik ark plazma işlemi ile Al-Cu-Fe üçlü bileşiklerinin elde edilmesi
Production of ternary Al-Cu-Fe compounds with cathodic arc plasma treatment
SEDA ARPACI
Yüksek Lisans
Türkçe
2014
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiMetalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. MUSTAFA KAMİL ÜRGEN
- NiMn,NiMnP+ ve CrFe alaşım ince filmlerinde elektron spin rezonans (ESR) ve direnç ölçümleri
Başlık çevirisi yok
MUSTAFA ÖZDEMİR
Doktora
Türkçe
1998
Fizik ve Fizik Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiFizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. YILDIRHAN ÖNER