Geri Dön

Fotolitografi işleminde UV sertleştirme parametrelerinin deney tasarımı ile eniyilenmesi

UV hardening parameters optimization of photolitography process with design of experiment

  1. Tez No: 372689
  2. Yazar: FATMA GÖZDE AYTEKİN
  3. Danışmanlar: YRD. DOÇ. DR. KASIM BAYNAL
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Endüstri ve Endüstri Mühendisliği, İstatistik, Industrial and Industrial Engineering, Statistics
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2014
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Kocaeli Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Endüstri Mühendisliği Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 73

Özet

Deney tasarımı yaklaşımı, en uygun üretim faktörlerini belirlemek için kullanılan etkin bir istatistiksel metottur. Bir süreç ya da sistemin girdilerinde değişiklik yapılarak çıktıların gözlemlenmesi ve analiz edilmesini sağlamaktadır. Deney tasarımındaki bu karşılıklı ilişkilerin analiz sonuçları üretim süreci kalitesinin iyileştirilmesinde önemli bir mühendislik aracı olarak kullanılmaktadır. Bu çalışmada, tümdevre üretimi fotolitografi sürecinin; Ultraviyole (UV) sertleştirme adımı için aşınmaya karşı rezist direncini etkileyen farklı faktör ve faktör etkilerinin tam faktöriyel deney tasarımı yöntemi ile sistematik olarak araştırılması sağlanmıştır. Deneysel sonuçların istatistiksel analizinde varyans analizi (ANOVA) kullanılmıştır. İstatistiksel sonuçlar temel alınarak faktör ve faktör etkileşimleri sınıflandırılmış, UV sertleştirmesinde en yüksek rezist direncini sağlamaya yönelik Son Sıcaklık (°C), Eğim (°C/sn) ve Son Pişirme Süresi (sn) faktörlerinin en uygun seviye ve etkilerinin görülmesi sağlanmıştır.

Özet (Çeviri)

The experimental design aproach is an active statistical method which is using for determine the optimum production factors. We perform series of experiments on the process making changes in its inputs and analyze corresponding changes in the outputs. Results of analysis of these mutual relationships lead to improvement of process quality. Therefore experimental design is a critically important engineering tool for improvement of manufacturing process quality. In this paper, we systematically investigate different factors and their effects on the the resistance of the resist to etching using a full-factorial experimental design of the UV hardening which is a sub process step of photolithography in a semiconductor production. Analysis of Variance (ANOVA) has been used for statistically analyzing of the experimental results. Based on the statistical results; it is used to determine the significance of individual parameters, and interactions thereof, in achieving higher percentages of correct classification. The importance of this study is illustrated in the UV hardening process where appropriate Final Temperature (C°), Ramp Rate (C°/sec) and Post-bake Time (sec) can be chosen to achieve the best level and their impact of the resistance of the resist to etching.

Benzer Tezler

  1. Polisilisyum tabaka üzerine fotolitografi yöntemi 0,3 mikron şekillendirme prosesinin optimizasyonu

    Optimization of 0,3 µm photolithography process parameters over polysilicon layer

    ZELİHA ÖZDOĞAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2014

    Mühendislik Bilimleriİstanbul Teknik Üniversitesi

    Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HÜSNÜ ATAKÜL

  2. Metal-oksit ince film yapıların üretilmesi ve elektriksel karakteristiklerinin incelenmesi

    Production of metal-oxide thin film structures and investigation of electrical characteristics

    HACI MUSTAFA ÇAKMAK

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2011

    Fizik ve Fizik MühendisliğiEge Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MUSTAFA TEPE

    YRD. DOÇ. DR. H. ALİ ÇETİNKARA

  3. Nano-scale chemically modified thin film characterization for chemical mechanical planarization applications

    Nano-boyutta kimyasal modifiye edilmiş ince filmlerin kimyasal-mekanik düzleştirme uygulamaları için karakterizasyonu

    AYŞE KARAGÖZ

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2015

    Mühendislik BilimleriÖzyeğin Üniversitesi

    Makine Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. GÜL BAHAR BAŞIM DOĞAN

  4. Batch-compatible micromanufacturing of a CMUT array for optoacoustic imaging of tissue-like phantoms

    Doku benzeri fantomların optoakustik görüntülenmesi için CMUT dizilerinin toplu mikro üretimi

    DOĞU KAAN BUĞRA ÖZYİĞİT

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2021

    Mühendislik Bilimleriİhsan Doğramacı Bilkent Üniversitesi

    Malzeme Bilimi ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı

    DR. ÖĞR. ÜYESİ MEHMET YILMAZ

  5. Metal-oxide nano structures for gas sensing applications

    Gaz algılama uygulamaları için metal-oksit nano yapılar

    ENİS EKMEL TURAL

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2014

    Bilim ve TeknolojiGediz Üniversitesi

    Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı

    YRD. DOÇ. DR. YAVUZ BAYAM