Fotolitografi işleminde UV sertleştirme parametrelerinin deney tasarımı ile eniyilenmesi
UV hardening parameters optimization of photolitography process with design of experiment
- Tez No: 372689
- Danışmanlar: YRD. DOÇ. DR. KASIM BAYNAL
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Endüstri ve Endüstri Mühendisliği, İstatistik, Industrial and Industrial Engineering, Statistics
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2014
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Kocaeli Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Endüstri Mühendisliği Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.
Özet
Deney tasarımı yaklaşımı, en uygun üretim faktörlerini belirlemek için kullanılan etkin bir istatistiksel metottur. Bir süreç ya da sistemin girdilerinde değişiklik yapılarak çıktıların gözlemlenmesi ve analiz edilmesini sağlamaktadır. Deney tasarımındaki bu karşılıklı ilişkilerin analiz sonuçları üretim süreci kalitesinin iyileştirilmesinde önemli bir mühendislik aracı olarak kullanılmaktadır. Bu çalışmada, tümdevre üretimi fotolitografi sürecinin; Ultraviyole (UV) sertleştirme adımı için aşınmaya karşı rezist direncini etkileyen farklı faktör ve faktör etkilerinin tam faktöriyel deney tasarımı yöntemi ile sistematik olarak araştırılması sağlanmıştır. Deneysel sonuçların istatistiksel analizinde varyans analizi (ANOVA) kullanılmıştır. İstatistiksel sonuçlar temel alınarak faktör ve faktör etkileşimleri sınıflandırılmış, UV sertleştirmesinde en yüksek rezist direncini sağlamaya yönelik Son Sıcaklık (°C), Eğim (°C/sn) ve Son Pişirme Süresi (sn) faktörlerinin en uygun seviye ve etkilerinin görülmesi sağlanmıştır.
Özet (Çeviri)
The experimental design aproach is an active statistical method which is using for determine the optimum production factors. We perform series of experiments on the process making changes in its inputs and analyze corresponding changes in the outputs. Results of analysis of these mutual relationships lead to improvement of process quality. Therefore experimental design is a critically important engineering tool for improvement of manufacturing process quality. In this paper, we systematically investigate different factors and their effects on the the resistance of the resist to etching using a full-factorial experimental design of the UV hardening which is a sub process step of photolithography in a semiconductor production. Analysis of Variance (ANOVA) has been used for statistically analyzing of the experimental results. Based on the statistical results; it is used to determine the significance of individual parameters, and interactions thereof, in achieving higher percentages of correct classification. The importance of this study is illustrated in the UV hardening process where appropriate Final Temperature (C°), Ramp Rate (C°/sec) and Post-bake Time (sec) can be chosen to achieve the best level and their impact of the resistance of the resist to etching.
Benzer Tezler
- Polisilisyum tabaka üzerine fotolitografi yöntemi 0,3 mikron şekillendirme prosesinin optimizasyonu
Optimization of 0,3 µm photolithography process parameters over polysilicon layer
ZELİHA ÖZDOĞAN
Yüksek Lisans
Türkçe
2014
İstanbul Teknik ÜniversitesiMalzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
Yükleniyor...
- Metal-oksit ince film yapıların üretilmesi ve elektriksel karakteristiklerinin incelenmesi
Production of metal-oxide thin film structures and investigation of electrical characteristics
HACI MUSTAFA ÇAKMAK
- Bizmut içeren III-V grubu uyumsuz yarı iletken alaşımların yapısal, optik ve elektriksel özelliklerinin incelenmesi
Investigation of structural, optical and electronic properties of bismuth containing III-V group highly mismatched semiconductor alloys
TÜLİN ERUÇAR
- Designing, developing and using the anode of a microbial fuel cell by containing PDMS,carbon nanotubes and graphene
PDMS, karbon nanotüpler ve grafen içeren bir mikrobiyal yakıt hücresinin anotunun tasarlanması, geliştirilmesi ve kullanılması
ELİF HAZAL ŞAKAR
Yüksek Lisans
İngilizce
2022
İstanbul Teknik ÜniversitesiNanobilim ve Nanomühendislik Ana Bilim Dalı
Yükleniyor...
- Nano-scale chemically modified thin film characterization for chemical mechanical planarization applications
Nano-boyutta kimyasal modifiye edilmiş ince filmlerin kimyasal-mekanik düzleştirme uygulamaları için karakterizasyonu
AYŞE KARAGÖZ