A1 / P-Si / CrNiCo schottky diyod yapısının akım iletim özellikleri ve diyot parametrelerinin tayini
Başlık çevirisi mevcut değil.
- Tez No: 38695
- Danışmanlar: PROF.DR. NECATİ YALÇIN
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Schottky diyodları, İletkenlik, Schottky diodes, Conductivity
- Yıl: 1995
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Erciyes Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.
Özet
ÖZET Bu çalışmanın amacı yüksek özdirençli (p=l 150 ü cm) P-Si kristali kullanılarak yapılan Al/P-Si/CıNiCo Schottky diyot yapısının akım-iletim özellikleri inceleyerek diyot parametrelerinin tayin edilmesidir. Bunun için Norde yaklaşımı ve Cheung yöntemi kullanıldı. Klasik DC yöntemi ile elde edilen Schottky diyodun C-V karakteristiklerinden taşıyıcı yoğunluğu Na= 3,5x10 18 m"3, kristal kalınlığı d=18 um, difüzyon potansiyeli eVd=0,31 eV, boşluk engel yüksekliği etyp - 0,65 eV olarak elde edildi. Bu durumda elektronlar için hesap edilen engel yüksekliği e*j>n = 0,47 eV 'tur. Schottky diyodun I-V ölçümleri yardımı ile elde edilen Schottky çiziminden boşluk engel yüksekliği çHJjp^GoeV, doğru besleme [dV/dlnI]-I ve H(I)-I grafiklerinden e<j>p ==0,76^ bulundu. Buna göre elektronlar için engel yüksekliği sırasıyla e*^ 0,46eV ve e^ = 0,36e V olarak elde edilir. Ayrıca diyot idealite çarpanın -1,8 ve diyot seri direnci de Rs=8kQ ve Rs = 7,2kQ olarak hesap edildi. Sonuç olarak Al/p-Si/CrNiCo Schottky diyot yapısının C-V ve I-V ölçümlerinden elde edilen diyot parametrelerinin birbiri ile yaklaşık olarak uyum içinde oldukları görüldü,
Özet (Çeviri)
VI SUMMARY The aim of this study is to search the current transport mechanisms of the Schottky diodes Al / p -Si / CrNiCo and determine the parameters of the diodes made of p-type Si having a high resistivity (p=1150 £2cm) and cut [111] direction. Therefore Norde theory and Cheung's Method has been used. Classical DC methods, from the C - V characteristics of the Schottky diode structure, the majority carrier density Na = 3,5 10 ^ m "3, the crystal thickness d = 18 (im; difliıssion potential eVj = 0,31 eV and hole barrier height eta) = 0,65 eV were found. In this case, calculated the barrier height for electons, e^n = 0,47 eV. By using I- V mesuring of the Schottky diode, eta = 0,66 eV was found from Schottky drawing and e<|>p = 0,76 eV, from reserve bias [dV /din I] - 1 and H(I) - 1 plots. Hence, obtain the barrier heights of the electons are etaj = 0,46 eV nd e^ = 0,36 eV. In addition; the diode ideality factor and series resistance obtined as n = 1,8 and Rs = 8 k£2, Rs = 7,2 kQ. As results, the measured values from I - V and C - V characteristics of the Al / p- Si/ CrNiCo Schottky diode Structure are in agreement with each ether.
Benzer Tezler
- Silisyum katkısının döküm CrNiCo süperalaşımının özelliklerine etkisi
Başlık çevirisi yok
HAVVA KAZDAL ZEYTİN
Doktora
Türkçe
1998
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiMetalurji Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. ADNAN TEKİN
- Comparison of different methods for lung immobilization through an animal model study
Başlık çevirisi yok
İRFAN KARACA
Yüksek Lisans
İngilizce
2018
BiyomühendislikPolıtecnıco Dı MılanoPROF. DR. ANDREA ALİVERTİ
PROF. DR. ANTONELLA LO MOURA
- Hidrostatik basınç altında metal/p-Si schottky diyotların elektriksel karakterizasyonu
Electrical characterization of metal/p-Si schottky diodes under hydrostatic pressure
GÜVEN ÇANKAYA
Doktora
Türkçe
2003
Fizik ve Fizik MühendisliğiAtatürk ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. NAZIM UÇAR
- Otomotiv sektörü için AI-Si-Fe-x alaşımlarının geliştirilmesi
Başlık çevirisi yok
NECİP ÜNLÜ
Doktora
Türkçe
1998
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiMetalurji Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. NİYAZİ ERUSLU