Geri Dön

Structural and electronic properties of monolayer and multilayer gallium nitride crystals

Tek ve çok atomik katman galyum nitrür kristalinin yapısal ve elektronik özellikleri

  1. Tez No: 436350
  2. Yazar: ABDULLATİF ÖNEN
  3. Danışmanlar: YRD. DOÇ. DR. ENGİN DURGUN
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2016
  8. Dil: İngilizce
  9. Üniversite: İhsan Doğramacı Bilkent Üniversitesi
  10. Enstitü: Mühendislik ve Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Malzeme Bilimi ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 62

Özet

Üç boyutlu (3B) galyum nitrür direkt band aralıklı bir III-V yarı iletkenidir. Bir çok olası optoelektronik uygulamasının yanında, ışık yayan diyod (LED) olarak da yaygın şekilde kullanılmaktadır. Bu çalışmada ilk olarak 3B wurtzite ve zincblende kristal yapılarındaki GaN'ün yapısal, mekanik, ve elektronik özellikleri gelişen yöntemlerle tekrar hesaplanarak literatürdeki diğer çalışmalarla karşılaştırıldı. Daha sonra, balpeteği örgüsüne sahip iki boyutlu (2B) tek atomik katmanlı GaN'ün (g-GaN) elektronik ve mekanik özellikleri yoğunluk fonksiyonel teori (YFT) kullanılarak incelendi. Buna ek olarak, yine YFT kullanılarak iki atomik katmanlı, üçatomik katmanlı, ve çok atomik katmanlı van der Waals yapıları incelendi. Fonon analizi ve yüksek sıcaklıkta ilk prensipler moleküler dinamik hesaplarıyla yapının kararlı oldugu ve yüksek sıcaklıklarda yapısını koruduğu gösterildi. Devamında fiziksel özelliklerin boyuta bağli olarak değişimi incelendi. 3B GaN direkt bant aralıklı bir yarı iletken olmasina karşılık, 2B GaN görece daha geniş ve indirekt bir bant aralğına sahiptir. Buna ek olarak 2B GaN daha yüksek Poisson katsayısına sahiptir ve katyondan anyona daha az yük geçişi sergilemektedir. g-GaN icin öngörülen özelliklerini, bu yapı metalik ya da yarı iletken bir alttaş üzerinde büyütüldüğü takdirde de koruyacağı gösterilmiştir. özel olarak, g-GaN büyütmek için 3B atomik katmanlı mavi fosforun uygun bir alttaş olacağı öngörülmüştür. Elektronik özelliklerin katman sayısına bağlı olarak kontrol edilebildiği, ve katman sayısı arttıkça bant aralığının azaldığı ve indirekt bant aralığından direkte geçildiği gösterilmiştir. Bu çalismanın nanoelektronik uygulamalarda geniş bir kullanım alanı olacağı düşünülen g-GaN'ın büyütülmesi yönünde yardımcı olması umulmaktadır.

Özet (Çeviri)

Three-dimensional (3D) Gallium Nitride (GaN) is a III-V compound semiconductor with direct band gap. It is widely used in light emitting diodes (LED) and has potential to be used numerous optoelectronic applications. In this thesis, firstly 3D GaN in wurtzite and zincblende structures are revisited and structural, mechanical, and electronic properties are studied and compared with the literature. Next, the mechanical and electronic properties of two-dimensional (2D) single-layer honeycomb structure of GaN (g-GaN), its bilayer, trilayer and multilayer van der Waals solids are investigated using density functional theory. Based on phonon spectrum analysis and high temperature ab initio molecular dynamics calculations, first it is showed that g-GaN is stable and can preserve its geometry even at high temperatures. Then a comparative study is performed to reveal how the physical properties vary with dimensionality. While 3D GaN is a direct band gap semiconductor, g-GaN in 2D has relatively wider indirect band gap. Moreover, 2D g-GaN displays higher Poisson's ratio and slightly less charge transfer from cation to anion. It is also showed that the physical properties predicted for freestanding g-GaN are preserved when g-GaN is grown on metallic, as well as semiconducting substrates. In particular, 3D layered blue phosphorus being nearly lattice matched to g-GaN is found to be an excellent substrate for growing g-GaN. Bilayer, trilayer and van der Waals crystals can be constructed by special stacking sequence of g-GaN and they can display electronic properties which can be controlled by the number of g-GaN layers. In particular, their fundamental band gap decreases and changes from indirect to direct with increasing number of g-GaN layers. It is hoped that the present work will provide helpful insights for growing g-GaN which can be widely used in nanoelectronics applications in low dimensions.

Benzer Tezler

  1. Preparation and characterization of graphene samples on atomically smooth surfaces

    Atomik boyutta pürüzsüz yüzeylerde grafen örneklerinin hazırlanması ve karakterizasyonu

    SERHAT YANIK

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2011

    Fizik ve Fizik MühendisliğiFatih Üniversitesi

    Fizik Bölümü

    YRD. DOÇ. DR. MEHMET BURAK YILMAZ

  2. Multiscale modeling and study on the exfoliation and electronic properties of functionalized graphene analogs

    Fonksiyonlaştırılmış grafen analoglarının yapraklanması ve elektronik özellikleri üzerine çok ölçekli modelleme

    BERKAY SÜTAY

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2016

    Kimyaİstanbul Teknik Üniversitesi

    Fizikokimya Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MİNE YURTSEVER

  3. Langmuir Blodgett assembly of peptide functionalized nanoparticles onto silicatebased surfaces and their characterization

    Peptit ile fonksiyonlandırılmış nanoparçacıkların Langmuir Blodgett yöntemi ile silika tabanlı yüzey üzerine kaplanması ve karakterizasyonu

    NUR MUSTAFAOĞLU

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2012

    Biyolojiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Nanobilim ve Nanomühendislik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MUSTAFA ÜRGEN

  4. Wear behaviour of multilayer coated WE43 magnesium alloy

    Çok katmanlı kaplanmış WE43 magnezyum alaşımının aşınma davranışı

    MERTCAN KABA

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2020

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Metalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HÜSEYİN ÇİMENOĞLU

    PROF. DR. UĞUR MALAYOĞLU