Geri Dön

PVD tekniğiyle büyütülen MoO3 yarıiletken ince filmlerin elektriksel ve optik özelliklerinin incelenmesi

MoO3 thin films growth with physical vapour deposition technique and investigation of electrical and optical properties

PDF İndir

  1. Tez No: 575835
  2. Yazar: CANAN YÖNEY
  3. Danışmanlar: DOÇ. DR. BEYHAN TATAR
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Magnetron Sıçratma Tekniği, Fiziksel Buhar Biriktirme, MoO3
  7. Yıl: 2019
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Tekirdağ Namık Kemal Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 68

Özet

Son yıllarda teknolojik gelişmelere paralel olarak artan enerji ihtiyacını karşılamak ve üretim maliyeti ile verim arasındaki ilişkiyi geliştirmek için alternatif malzemelerin araştırılması ve kullanılması önem kazanmıştır. Geleneksel ve enerji üretimi sınırlı olan malzemelerin yanında farklı malzemeler kullanarak hem yapı hem de verimi geliştirecek seçenekler gittikçe artmaktadır. Bu ihtiyacı karşılamak için geçiş metal oksit ailesi içerisinde özellikle MoO3 ilginç yapısal, kimyasal, elektriksel ve optiksel özellikleriyle ön plana çıkmıştır. Bu çalışmada MoO3 yarıiletken ince filmlerin fiziksel buhar biriktirme (PVD) yöntemi olan magnetron sıçratma tekniği ile c-Si, Corning cam ve ITO kaplı cam altlıklara oda sıcaklığında büyütülmüştür. MoO3 yarıiletken ince filmlerin yapısal özellikleri x-ışınları difraksiyonu (XRD) ve Raman Spektrumu analiziyle incelenmiştir. Büyütülen MoO3 yarıiletken ince filmlerin yüzey morfolojilerinin belirlenmesi için taramalı elektron mikroskobu (SEM) kullanılmıştır. Büyütülen MoO3 yarıiletken ince filmlerin optik özellikleri geçirgenlik ve yansıma ölçümlerinin incelenmesi ile yapılmıştır. Elektriksel karakterizasyonları karanlık ve aydınlıktaki Akım-Gerilim ölçümleri yapılmıştır. Bu incelemeler ışığında üretilen eklemlerin iletkenlik tipleri, özdirençleri, doğrultma özellikleri ve ışığa duyarlılıkları gibi parametreleri araştırılıp literatür ile karşılaştırılmış ve öneriler sunulmuştur.

Özet (Çeviri)

In recent years with technological developments, it has become important to investigate alternative materials for increasing energy need and reduce the cost. In addition to the traditional and energy-limited materials, there are increasing options to improve both the structure and efficiency by using different materials. In order to for this purpose, especially in the transition metal oxide family, MoO3 has remarked with its interesting structural, chemical, electrical and optical properties. In this study, MoO3 organic semiconductor thin films were grown on the c-Si, corning glass and ITO coated glass substrates by magnetron sputtering technique which is physical vapour deposition method at room temperature. The structural properties of MoO3 semiconductor thin films were investigated by X-ray diffraction (XRD) and Raman Spectrum analysis. Scanning Electron Microscopy (SEM) was used to determine the surface morphology of the MoO3 semiconductor thin films. Optical properties of MoO3 semiconductor thin films were investigated. For electrical characterization of MoO3 semiconductor thin films, current-voltage measurements were taken in dark and light. In the light of these investigations, parameters such as conductivity types, resistivity, straightening properties and light sensitivities were investigated. Keywords : PVD, MoO3, Magnetron Sputtering Technique, Physical Vapour Deposition

Benzer Tezler

  1. Tez No

    78248

    PVD kaplama tekniği ile hazırlanan TiN ince filmlerin temel karakteristiklerinin incelenmesi

    Investigation of basic characteristics on TiN thin films obtaining from PVD coating technique

    AHMET UĞUR KAYA

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1998

    Fizik ve Fizik MühendisliğiKocaeli Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. YÜKSEL BEKTÖRE

    YRD. DOÇ. DR. HASAN ALANYALI

  2. Tez No

    285791

    Biyomedikal uygulamalarda pvd kaplama tekniğiyle hazırlanan ince filmlerin temel karakteristiklerinin incelenmesi

    An investigation of base characterizations of thin films deposited by pvd techniques in biomedical applications

    GÜLFEM IŞIK

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2010

    Makine MühendisliğiErciyes Üniversitesi

    Makine Mühendisliği Bölümü

    YRD. DOÇ. DR. ŞENGÜL DANIŞMAN

  3. Tez No

    66677

    Ark PVD yöntemiyle tin kaplanmış kesici takımların karakterizasyonu ve performanslarının incelenmesi

    Başlık çevirisi yok

    M.CENK TÜRKÜZ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1997

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Metalurji Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. E. SABRİ KAYALI

  4. Tez No

    155619

    Magnezyum alaşımlarının korozyonu ve FBB kaplamaların korozyon davranışlarına etkisi

    Corrosion of magnesium alloys and the effect of PVD coatings on the corrosion behaviour

    HİKMET ALTUN

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2004

    Makine MühendisliğiAtatürk Üniversitesi

    Makine Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ.DR. SADRİ ŞEN

    PROF.DR. HANİFİ SARAÇ

  5. Tez No

    98504

    316L paslanmaz çelik üzerinde katodik ark FBB ve oxidasyon yöntemleriyle üretilen zirkonyum oksit kaplamaları özellikleri

    Properties of zirconium oxide coatings on 316-L stainless steels produced by cathodic arc PUD and oxidation techniques

    ERDEM ŞİRELİ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1999

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Metalurji Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MUSTAFA ÜRGEN

Geri Dön