Deposition of fluorocarbon-based polymer thin films using initiated chemical vapor deposition (icvd) method
Floropolimer ince filmlerin başlatmalı kimyasal buhar biriktirme yontemi ile kaplanması
- Tez No: 687625
- Danışmanlar: DOÇ. DR. GÖZDE İNCE
- Tez Türü: Doktora
- Konular: Kimya, Chemistry
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2021
- Dil: İngilizce
- Üniversite: Sabancı Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Malzeme Mühendisliği Bilim Dalı
- Sayfa Sayısı: 115
Özet
Bu çalışmada başlatıcılı kimyasal buhar biriktirme (iCVD) yöntemi kullanılarak floropolimer ailesine ayıt olan polimerleri ince film halinde kaplanması hedeflenmektedir. Kullanılacak olan iCVD sistemindeki düşük sıcaklıklar ve nazik vakum ortamı, monomerlerin fonksiyonel gruplarını etkilemeyerek, sentezlenen polimer deki özelliklerin korunması sağlayacaktır. Diğer vakum kaplama tekniklerine göre iCVD yönteminin bir üstünlüğü, polimerizasyonun yüzeyde gerçekleşmesinden ötürü, polimerlerin kimyasal yapılarının nanometre hassasiyetindeki kalınlıklarda kontrol edebilmesidir. Ayrıca polimer sentezinde kullanılan metotların elektronik aygıtların üretim süreçlerine uygun olması da büyük önem taşımaktadır. Özellikle mikroelektronik uygulamalar için yüzeyinde nanoyapılar bulunan inorganik altlıkların polimerler ile açı-korur (konformal) bir şekilde kullanabilmesi ve altlık- ince film uyumunun sağlanması gerekmektedir.
Özet (Çeviri)
In this work initiated chemical vapor deposition (iCVD) will be used to deposit fluoropolymer thin films. The method we use performs in low temperature and low pressures hence protect the functional groups of the depositing polymers. Compared to other vacuum-based deposition methods, in the iCVD method deposition happens on the surface, hence controlling the functionality of the coating on the nanometer scale is possible. The application of the deposited polymers is in a microelectronic application in which conformal coatings of functional polymers are required.
Benzer Tezler
- Atomic layer deposition of III-nitrides and metal oxides; their application in area selective ALD
III-nitratların ve metal oksitlerin atomik katman kaplamısı; bunların alan seçici ALD'deki uygulamaları
ALI HAIDER
Doktora
İngilizce
2017
Bilim ve Teknolojiİhsan Doğramacı Bilkent ÜniversitesiMalzeme Bilimi ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı
Assist. Prof. AYKUTLU DANA
DR. NECMİ BIYIKLI
- Kuru aşındırma yöntemiyle titanyum silisite seçici kontak aşındırma prosesinin optimizasyonu
Optimization of selective titanium silicide contact hole etching process via dry etching method
TUĞBA BİLGİÇ KELLE
Yüksek Lisans
Türkçe
2022
Kimya Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiKimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. AYŞEGÜL MERİÇBOYU
- A study on some constituents of electrospraying process determining the deposition time
Elektrosprey işleminin yığma süresini belirleyen bazı bileşenleri üzerine bir çalışma
BİLGEN KAPAR
Doktora
İngilizce
2018
Tekstil ve Tekstil MühendisliğiGaziantep ÜniversitesiTekstil Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. CEM GÜNEŞOĞLU
PROF. DR. YASEMİN KORKMAZ
DOÇ. DR. MEHMET DAŞDEMİR
- TiSiN kaplamaların üretilmesi, mekanik ve aşınma özelliklerinin araştırılması
Deposition of TiSiN coatings, investigation of mechanical and wear properties
YUNUS EMRE ACAR
Yüksek Lisans
Türkçe
2022
Makine MühendisliğiErzurum Teknik ÜniversitesiMakine Mühendisliği Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. HİKMET ÇİÇEK
- Deposition of nanocrystallized amorphous silicon thin films by magnetron sputtering
Nanokristalize edilmiş amorf silisyum ince filmlerin magnetron saçtırma yöntemi ile büyütülmesi
ELİF CEYLAN CENGİZ
Yüksek Lisans
İngilizce
2013
Fizik ve Fizik Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiNanobilim ve Nanomühendislik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. EYÜP SABRİ KAYALI
DOÇ. DR. OSMAN ÖZTÜRK