Geri Dön

Katkısız ve azot katkılı NiO ince filmlerin magnetron söktürme ile büyütülmesi, yapısal ve optik özelliklerinin incelenmesi

Growth of undoped and nitrogen-doped NiO thin films by magnetron sputtering, investigation of their structural and optical properties

  1. Tez No: 711382
  2. Yazar: HİCRET HOPOĞLU
  3. Danışmanlar: PROF. DR. EBRU ŞENADIM TÜZEMEN
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Mühendislik Bilimleri, Engineering Sciences
  6. Anahtar Kelimeler: Katkılama tekniği, Magnetron, Nikel, İnce filmler, Doping technique, Magnetron, Nickel, Thin films
  7. Yıl: 2022
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Sivas Cumhuriyet Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Optik Mühendisliği Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

Bu çalışmada, katkısız ve azot katkılı ince filmler farklı alttaşlar üzerine NiO hedefi kullanılarak farklı büyütme basıncı, farklı kalınlık, farklı alttaş sıcaklığı ve farklı miktarlarda azot katkısıyla RF magnetron söktürme yöntemi ile büyütülmüştür. Farklı büyütme şartlarında üretilmiş olan filmlerin kristal yapı, geçirgenlik ve enerji bant aralığı ayrıntılı olarak incelenmiştir. Bir p-tipi oksit yarıiletken olan Nikel oksit (NiO), çok yönlü ve ayarlanabilir özelliklerinden dolayı büyük ilgi görmektedir. Dirençli anahtarlama rastgele erişimli bellek cihazları ve son derece hassas ve seçici sensör uygulamaları dahil olmak üzere çok çeşitli elektronik uygulamalarında kritik malzemelerden biridir. Ek olarak geniş bant aralığından dolayı (NiO veya Ni(II) oksit, yüksek dirence, 3,6 – 4,0 eV'luk geniş bir bant aralığına sahiptir) NiO'yu yeni ortaya çıkan optoelektronik ve p-n heteroeklemlerde çalışmalarda yaygın olarak kullanılmaktadır. NiO ince filmlerin özellikleri büyük ölçüde depolama yöntemine ve koşullarına bağlıdır.

Özet (Çeviri)

In this study, pure and nitrogen-doped thin films have been grown on different substrates by using NiO target with different growth pressure, different thickness, different substrate temperature and different amounts of nitrogen additive by RF magnetron sputtering method. The crystal structure, transmittance, and energy band gap of the films to be produced under different growing conditions have been examined in detail. Nickel oxide (NiO), a p-type oxide semiconductor, has attracted great attention due to its versatile and tunable properties. Resistive switching is one of the critical materials in a wide variety of electronics applications, including random access memory devices and highly sensitive and selective sensor applications. In addition, due to its wide band gap (NiO or Ni(II) oxide has high resistivity, a wide band gap of 3.6 – 4.0 eV), NiO is widely used in studies in emerging optoelectronics and p-n heterojunctions. The properties of NiO thin films are highly dependent on the deposition method and conditions.

Benzer Tezler

  1. Hekzadeka sübstitüe ftalosiyaninlerin X-ışını kristallografisi ve NMR spektroskopisi ile yapısal özelliklerinin incelenmesi

    Investigation of the structural properties of hexadeca-substituted phthalocyanines by X-ray crystallography and NMR spectroscopy

    ARMAĞAN ATSAY

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2015

    Kimyaİstanbul Teknik Üniversitesi

    Kimya Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MAKBULE KOÇAK

  2. Bor ve azot katkılı TiO2 ince filmlerin fotokatalitik aktivitelerinin incelenmesi

    Investigation of photocatalytic activity of boron and nitrogen doped TiO2 thin films

    SEMİH ÇULHAOĞLU

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2015

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. SÜHEYLA AYDIN

    YRD. DOÇ. DR. ALİ ERÇİN ERSUNDU

  3. Katkılı ve katkısız TİO2 nanotellerin üretilmesi ve gaz algılama özelliklerinin incelenmesi

    Fabrication of doped and undoped TİO2 nanowi̇res and investigation of gas sensing properties

    ASUMAN CENGİZ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2014

    KimyaGebze Yüksek Teknoloji Enstitüsü

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. ZAFER ZİYA ÖZTÜRK

  4. Elektron siklotron mikrodalga plazma (ECR-MP) yöntemi ile farklı yüzeylerin karbon ve azot katkılı karbon filmler ile kaplanması

    Coating on different surfaces with carbon and nitrogen doped carbon films by using electron cyclotron microwave plasma (ECR-MP) method

    ÖZLEM ÇELİKEL

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2020

    Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HAMİDE KAVAK

  5. Katkılı çinko oksit nanoparçacıkların elektriksel, optik ve fotokatalitik özelliklerinin incelenmesi

    Electrical, optical and photocatalytic properties of doped ZnO nanoparticles

    ALİ CAN GÜLER

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2017

    Fizik ve Fizik MühendisliğiEge Üniversitesi

    Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    YRD. DOÇ. DR. BİRCAN DİNDAR