Geri Dön

Pfcvad sistemi ile üretilen n ve p tipi zno ince filmlerin fotoiletkenlik özelliklerinin karşılaştırılması

Comparison of the photoconductivity properties of the n and p type zno thin films which are grown by pfvad system

  1. Tez No: 307811
  2. Yazar: KAMURAN KARA
  3. Danışmanlar: PROF. DR. RAMAZAN ESEN
  4. Tez Türü: Doktora
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2013
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Çukurova Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 146

Özet

Bu çalışmada, n ve p tipi ZnO ince filmler, Atmalı Filtreli Katodik Vakum Ark Depolama (PFCVAD) yöntemi ile cam alt tabanlar üzerine oda sıcaklığında elde edilmiştir. Azot Katkılı ve katkısız ZnO (N:ZnO ve ZnO) ince filmler üç seri ince film şeklinde incelemiştir. Birinci seride ısısal oksidasyon ile n ve p tipi ZnO ince filmler elde edilip karakterizasyonu yapılırken ikinci ve üçüncü seri ince filmler daha yüksek oksijen ve azot gaz akış oranlarında üretilerek karakterizasyonu üzerinde durulmuştur. Elde edilen yarıiletken ince filmlerin optiksel, yapısal, elektriksel, yüzey ve fotoiletkenlik özellikleri belirlenmiş ve tartışılmıştır.

Özet (Çeviri)

In this study, n and p type ZnO thin films were deposited at room temperature on glass substrates by Pulsed Filtered Cathodic Vacuum Arc Deposition (PFCVAD) system. There are three part of semiconductor thin films in this study. In first part, n and p type thin films were prepared with thermal oxidation method and second and third part of these thin film?s pressure is higher than first part of thin films. Finally, optical, structural, electrical, surface images and photoconductivity properties of these thin films were determined and discussed.

Benzer Tezler

  1. PFCVAD sistemi ile üretilen n ve p-tipi zno ince filmlerin fotolüminesans özelliklerinin karşılaştırılması

    Comparison of the pholuminescence properties of the n and p-type zno thin films which are grown by PFCVAD system

    HAVVA ÖZDAMAR

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2014

    Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HAMİDE KAVAK

  2. Atmalı filtreli katodik vakum ark ile üretilen karbon filmlerin yapısı ve özellikleri

    Structure and properties of carbon films produced by filtered cathodic vacuum arc

    MERHAN KILIÇ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2017

    Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. RAMAZAN ESEN

  3. Atmalı katodik vakum ark depolama sistemiyle üretilen ZnO'nun elektriksel iletkenliği ve ısıl işlemle değişimi

    Electrical conductivity and changing with thermal operation of ZnO which growth by pulsed cathodic vacuum arc deposition

    MEDİHA SOYLU

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2006

    Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    YRD. DOÇ. DR. ŞADİ YILMAZ

  4. ZnO tabanlı yarı iletkenlerde metal kontak özelliklerinin araştırılması

    Investigation of metal contact properties at ZnO based semiconductors

    NİHAL TOZLU

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2011

    Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HAMİDE KAVAK

  5. Atmalı filtreli katodik vakum ark depolama yöntemi ile p-tipi ZnO (çinko oksit) üretimi ve yapısal özellikleri

    P-type ZnO (zinc oxide) which are grown by pulsed filtered cathodic arc deposition method and structural properties

    KAMURAN KARA

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2008

    Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova Üniversitesi

    Fizik Bölümü

    PROF. DR. RAMAZAN ESEN