Geri Dön

ALD yöntemi ile üretilen ZnO ince filmlerinin mikroyapısal, elektriksel ve optik özelliklerinin incelenmesi

The examination of microstructural, electrical and optical properties of ZnO thin films coated by ALD method

  1. Tez No: 727993
  2. Yazar: MURAT MUT
  3. Danışmanlar: PROF. DR. HAKAN ATEŞ
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Metalurji Mühendisliği, Mühendislik Bilimleri, Metallurgical Engineering, Engineering Sciences
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2022
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Gazi Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: İleri Teknolojiler Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 86

Özet

Günümüzde; ZnO ince filmleri özellikle optoelektronik devre ve elektronik cihazlarda olmak üzere oldukça yüksek kullanım potansiyeline sahiptir. Bu kullanım potansiyeline sahip ZnO ince filmlerin birçok üretim/büyütme yöntemi bulunmaktadır. Bu çalışmada, ZnO ince filmleri, Atomik Katman Biriktirme (ALD) tekniği ile Corning Gorilla Glass ile Cam alttaşlar üzerine kaplanmıştır. Kaplama işleminden ardından, ZnO ince filmler, 300 οC ile 600 οC sıcaklıklar arasında tavlanmıştır. Tavlama işlemi sonrası, mikroyapı, kalınlık ve yüzeydeki ZnO dağılımını tespit etmek amacı ile SEM ve EDS görüntülemeleri yapılmış, yapısal değişiklik ve kristal yapısını tespit etmek için ise X-ışını kırınımı incelemesi gerçekleştirilmiştir. Elde edilen ince filmlerin optik enerji bant aralıklarının tespiti için UV-Vis ile kalınlıkları, geçirgenlik ve yansıtıcılıkları belirlenmiştir. Tüm ince filmlerin optik enerji bant aralığı değerlerinin 3,24 eV ile 3,28 eV arasında değiştiği tespit edilmiştir. ZnO ince film yoğunluğunun, 500 οC ile 600 οC tavlama sıcaklığında tavlanan numuneler için 300οC'de tavlanan ilk numuneye kıyasla fazla olduğu ve bu durumun ise kristal yönelimlerinin, boyutlarının ve yoğunluklarının değişmesinden kaynaklandığı tespit edilmiştir. Buna ek olarak; 600 οC sıcaklıkta tavlanan ZnO ince filminin yapısal özelliğinin de geliştiği tespit edilmiştir.

Özet (Çeviri)

Today; ZnO thin films have a very high potential for use, especially in optoelectronic circuits and electronic devices. There are many production methods of ZnO thin films with this potential for use. In this study, ZnO thin films were coated on Corning Gorilla Glass and glass substrates by Atomic Layer Deposition (ALD) technique. After coating, the ZnO thin films were annealed between the temperatures of 300 οC and 600 οC. After annealing, while SEM and EDS imaging were performed to determine the microstructure, thickness and ZnO distribution on the surface, and X-ray diffraction analysis was performed to determine the structural change and crystal structure. In order to determine the optical energy band gaps of the thin films, which were coated, their thickness, transmittance and reflectivity were determined by UV-Vis measurements. It has been determined that the optical energy band gap values of all thin films vary between 3.24 eV and 3.28 eV. It has been determined that the density of ZnO thin film is higher for the samples annealed at 500 οC to 600 οC annealing temperatures compared to the first sample annealed at 300 οC, causing by the change in crystal orientations, sizes and densities. In addition to this; It was determined that the structural feature of ZnO thin film annealed at the temperature of 600 οC also improved.

Benzer Tezler

  1. ALD yöntemi ile düşük sıcaklıkta büyütülen ZnO esaslı TFT'lerin üretimi ve karakterizasyonu

    Synthesis and characterization of ZnO based TFT's deposited under low temperature by ALD

    LÜTFULLAH DURNA

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2019

    Metalurji MühendisliğiGazi Üniversitesi

    İleri Teknolojiler Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HAKAN ATEŞ

  2. Atomic layer deposition based titanium alloying of ZnO for microbolometer applications

    Mikrobolometre uygulamaları için çinko oksidin atomik katmanlama yöntemiyle titanyum ile alaşımlanması

    BİLGE TİLKİOĞLU

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2016

    Metalurji Mühendisliğiİhsan Doğramacı Bilkent Üniversitesi

    Malzeme Bilimi ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı

    YRD. DOÇ. DR. ALİ KEMAL OKYAY

  3. Silisyum nanoyapı tabanlı gaz sensörü üretimi ve karakterizasyonu

    Formation of silicon nanostructure based metal oxide gas sensors

    NİLÜFER USLU UZUN

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2017

    Fizik ve Fizik MühendisliğiDicle Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. YUSUF SELİM OCAK

  4. Zno,tio2 and exotic materials for thin film electronic devices

    Zno, tio2 ve bazı egzotik malzemeler kullanılarak düşük sıcaklıkta oluşturulmuş ince film elektronik aygıtlar

    FEYZA ORUÇ

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2012

    Mühendislik Bilimleriİhsan Doğramacı Bilkent Üniversitesi

    Elektrik ve Elektronik Mühendisliği Bölümü

    YRD. DOÇ. DR. ALİ KEMAL OKYAY

  5. Ditiyofen türevi polimerler ile üretilen organik güneş pillerinin optimizasyonu, karakterizasyon ve kararlılık çalışmaları

    Optimization, characterization and stability studies of dithiophene polymers based organic solar cells

    TÜLİN ATEŞ TÜRKMEN

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2019

    Fizik ve Fizik MühendisliğiYıldız Teknik Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. YUSUF YERLİ

    DOÇ. DR. ELİF ALTÜRK PARLAK