Au/ZnO/p-InP (MOS) kapasitörün elektrik ve dielektrik özelliklerinin frekans ve sıcaklığa bağlı incelenmesi
Investigation of electric and dielectric properties of frequency and temperature of Au/ZnO/p-InP (MOS) capacitor
- Tez No: 728311
- Danışmanlar: PROF. DR. ADEM TATAROĞLU
- Tez Türü: Doktora
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2022
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Gazi Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 115
Özet
Bu çalışmada, p-InP yarıiletken üzerine arayüzey dielektrik tabaka olarak çinko oksit (ZnO), radyo frekansı (RF) magnetron püskürtme yöntemi kullanılarak biriktirildi. Termal buharlaştırma sisteminde omik ve doğrultucu kontakları oluşturulduktan sonra Au/ZnO/p-InP (MOS) kondansatörü hazırlanmıştır. ZnO filminin kristal yapısı ve yüzey morfolojisi, sırasıyla X-ışını kırınımı (XRD) ve atomik kuvvet mikroskobu (AFM) ile karakterize edildi. MOS kapasitörün admitans (Y=G+iωC) ölçümleri ilk önce oda sıcaklığında geniş bir frekans aralığında (1 kHz-1 MHz), sonra 100 kHz ve 500 kHz için geniş bir sıcaklık aralığında (100 K-400 K) gerçekleştirilmiştir. Frekans ve sıcaklığa bağlı kapasitans (C) ve iletkenlik (G) ölçümleri kullanılarak kondansatörün seri direnç (Rs), arayüzey durum yoğunluğu (Nss), dielektrik sabiti (ε'), dielektrik kayıp (ε''), dielektrik kayıp tanjantı (tanδ), ac iletkenlik (σac) ve elektrik modülüs (M) gibi elektrik ve dielektrik parametreleri elde edilmiştir. Bu parametrelerin hem frekansa hem de sıcaklığa oldukça duyarlı olduğu bulunmuştur. Sonuç olarak, hazırlanan Au/ZnO/p-InP (MOS) kapasitör elektronik devrelerde enerji depolama cihazı olarak kullanılabilir.
Özet (Çeviri)
In this study, zinc oxide (ZnO) was deposited as an interfacial dielectric layer on a p-InP semiconductor by using radio frequency (RF) magnetron sputtering method. After forming the ohmic and rectifier contacts in the thermal evaporation system, the Au/ZnO/p-InP (MOS) capacitor was prepared. The crystal structure and surface morphology of ZnO film were characterized by X-ray diffraction (XRD) and atomic force microscopy (AFM), respectively. The admittance (Y=G+iωC) measurements of the MOS capacitor were first performed in a wide frequency range (1 kHz-1 MHz) at room temperature, then over a wide temperature range (100 K-400 K) for 100 kHz and 500 kHz. Electrical and dielectric parameters such as the series resistance (Rs), the interface state density (Nss), dielectric constant (ε'), dielectric loss (ε''), dielectric loss tangent (tanδ), ac conductivity (σac) and electric modulus (M) of the capacitor were obtained by using these frequency and temperature-dependent capacitance (C) and conductance (G) measurements. It was found that these parameters are quite sensitive to both frequency and temperature. As a result, the prepared Au/ZnO/p-InP (MOS) capacitor can be used as an energy storage device in electronic circuits.
Benzer Tezler
- Geniş bant aralıklı ZnO'nun, elektrokimyasal olarak büyütülmesi, karakterizasyonu ve mümkün elektronik uygulamalarının araştırılması
Electrochemical growth and characterization of wide bandgap and investigation of its possible electronic applications
HATİCE ASIL
Doktora
Türkçe
2010
Fizik ve Fizik MühendisliğiAtatürk ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. CEVDET COŞKUN
- N, n′-dioktil-3,4,9,10-perilendikarboksiimid organik yarı iletken katkılı n-zno/p-si heteroeklem fotodiyotun ışığaduyarlılık performansının araştırılması
Investigation photosensitivity performance of n,n′-dioctyl-3,4,9,10-perylenedicarboximide organicsemiconductor doped n-zno/p-si heterojunction photodiode
EMRECAN EMEKSİZ
Yüksek Lisans
Türkçe
2020
BiyoteknolojiSelçuk ÜniversitesiBiyoteknoloji Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. MURAT YILDIRIM
- Flor(F) katkılı ZnO ince filmlerin büyütülmesi, karakterizasyonu ve güneş pili potansiyeli
Growth and charachterization of F doped ZnO thin films and their solar cell potential
AHMET ÖZMEN
Yüksek Lisans
Türkçe
2018
Elektrik ve Elektronik MühendisliğiAtatürk ÜniversitesiNanobilim ve Nanomühendislik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. MEHMET YILMAZ
- Al/ZnO/p-Si ve Au/CuO/p-Si Schottky yapıların farklı metotlarla elde edilmesi ve karakterizasyonu
Production and characterizations of Al/ZnO/p-Si and Au/CuO/p-Si Schottky structures by different methodes
SAMED ÇETİNKAYA
Yüksek Lisans
Türkçe
2011
Fizik ve Fizik MühendisliğiMustafa Kemal ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. H. ALİ ÇETİNKARA
- N-ZnO/p-Si heteroeklem diyot yapılarının üretilmesi ve elektriksel karakteristiklerinin aydınlık ve karanlık ortamlar için zno ince film kalınlığına bağlı olarak belirlenmesi
Production of N-ZnO / p-Si heterojunction diode structuresand determination of electrical characteristics depending on the thickness of the zno thin film under the illumination and dark environments
BAHRİ GEZGİN
Yüksek Lisans
Türkçe
2021
Fizik ve Fizik MühendisliğiSelçuk ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DR. ÖĞR. ÜYESİ YASEMİN GÜNDOĞDU