Geri Dön

Nötron aktivasyon analizi yöntemi ile ince filmlerin kalınlık tayini

Başlık çevirisi mevcut değil.

  1. Tez No: 75039
  2. Yazar: CENAP Ş. ÖZBEN
  3. Danışmanlar: PROF. DR. H. HÜSEYİN GÜVEN
  4. Tez Türü: Doktora
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 1998
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: İstanbul Teknik Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Nükleer Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 74

Özet

ÖZET Gelişen teknoloji ile endüstrinin birçok dalında yaygınca kullanılan ince Alimlerin fiziksel parametrelerinden olan kalınlıklarının belirlenmesi özeliklerinin tayini açı sından oldukça önemlidir. İnce Alimlerde kalınlık tayini birçok farklı yöntem ile yapılmakla birlikte günü müzde bu yöntemleri kullanan kompakt cihazlar geliştirilmiştir. Bu cihazların yüksek teknoloji ürünleri oluşu maliyetlerinin yüksekliği problemini getirmekte bu nedenle mevcut imkanlar dahilinde alternatif yöntemlerin geliştirilmesi gerek mektedir. Bu yüksek maliyetli cihazların geliştirilmesinde kullanılan alışılmış tekniklerin yanısıra nükleer yöntemler de oldukça önem kazanmıştır. Bu çalışmada kalınlıkların ölçülmesinde nötron aktivasyon analizi yöntemi seçil miş, ilk etapta ışınlamaların yapıldığı İTÜ Nükleer Enerji Enstitüsü Triga Mark II reaktörünün termal ve epitermal akıları iki ayrı yöntem ile belirlenmiş ve bu lunan akı değerleri ile yapılan elementer analiz sonuçları atomik soğurmadan bu lunan değerler ile karşılaştırılarak akıların doğruluğu kontrol edilmiştir. Belir lenen termal ve epitermal akılar ayrıca Ta2O5 filimi için kullanılan alt tabaka malzemesi olan kaplama camının elementer analizi ile test edilmiş ve üreticinin verdiği değerler ile uyumlu olduğu görülmüştür. Fizik bölümü ince filim laboratuvarında sol-jel yöntemi ile kaplanmış Ta2O5 ve vakum depozisyon tekniği ile elde edilmiş altın ve indiyum çok tabakalı meta lik Alimlerde kalınlıklar belirlenmiştir. Ta2Ü5 Alimlerinde komplementer yöntem olarak kullanılan optik ölçümlerden yararlanılmış ve iki yöntem verilerinin kom binasyonundan filim yoğunlukları belirlenmiştir. Filmlerin kalınlıklarının belirlenmesinde yöntem olarak filim ve alt tabaka malze melerinden üretilen radyoizotopların yayımladığı gama ışınlarının şiddetlerinin karşılaştırılması baz alınmış ve buradan alt tabaka kalınlığı ile yapılan bir oran lama ile filim kalınlığı tesbit edilmiştir. Yapılan ölçümler, reaksiyon etki kesiti, hedef çekirdeğin izotopik bolluğu ve üre tilen radyoizotopun yarı ömrü uygun olan malzemelerden yapılmış filimler kul lanıldığında nötron aktivasyon yönteminin filim kalınlığını belirlemede nanometre den daha küçük değerlere inebileceğini göstermiştir.

Özet (Çeviri)

SUMMARY THICKNESS DETERMINATION OF THIN FILMS BY NEUTRON ACTIVATION ANALYSIS Thin films have become very popular on many research facilities in the last 20 years because they have been widely used in many products dealing with elec tronics and optics. For this reason, to determine properties of thin films is very important. To determine these properties, their physical and optical parameters should be measured. Thin films can be produced by means of many different methods and with many different composition depending on their purposes. Coating techniques such as vacuum deposition and sputtering are physical techniques and they are very effective for both metallic and metal-oxide film production. Chemical coating techniques are generally based on specific chemical reactions, like thermal growth technique, are proper for making metal-oxide layers on the surfaces. This method, on the other hand, has some thickness limitation. Other chemical techniques such as electrolytic coating are also common and used for mostly to obtain metallic films. Sol-gel methods can also be proper for the films which can be prepared as chemical solution. Oxidation states of pure chemical elements or pure metallic compositions are common thin film formations. In this work multilayered TaaOs thin films produced with sol-gel method on Cor ning cover glass substrate and metallic thin films were produced with the vacuum evaporation method both on the glass and aluminum substrates in the Thin Film Laboratory of ITU Physics Department. Physical parameter thickness and optical refractive index can be precisely mea sured by interferometric methods. On the other hand when the film is mul tilayered and not transparent, it is not easy to determine the thickness of the independent layers with the optical methods. In this case nuclear methods can play a leading role with the ion-beam techniques. However ion-beam requires an accelerator and experimental setup considered is not as easy as in other met hods. In thin film thickness measurement, Rutherford Back Scattering (RBS) is very successive not only in thickness measurement but also in the determination of thin film depth resolution. XI

Benzer Tezler

  1. Source apportionment of urban aerosols using recep for modelling approach; An application to Ankara

    Alıcı ortam modelini kullanarak kent aerosollerinin kaynaklara dağılımı ve Ankara'ya uygulanması

    MUSTAFA YATIN

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    1994

    KimyaOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Kimya Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. NAMIK K. ARAS

  2. Synthesis and sensor appplication of reusable fluorescent uranyl-imprinted polymer gels

    Yeniden kullanılabilir uranil-imprint floresan polimer jellerin sentezi ve sensör olarak kullanılması

    ELİF GÖKÇE ATÇAKAN

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2018

    Kimyaİstanbul Teknik Üniversitesi

    Polimer Bilim ve Teknolojisi Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. ORHAN GÜNEY

  3. Fake news classification using machine learning and deep learning approaches

    Makine öğrenimi ve derin öğrenme yaklaşımlarını kullanarak sahte haber sınıflandırması

    SAJA ABDULHALEEM MAHMOOD AL-OBAIDI

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2023

    Bilgisayar Mühendisliği Bilimleri-Bilgisayar ve KontrolGazi Üniversitesi

    Bilgisayar Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DR. ÖĞR. ÜYESİ TUBA ÇAĞLIKANTAR

  4. Değişik akılı bir nötron kaynağının hazırlanması ve karakteristiklerinin belirlenmesi

    The preparation of a neutron generator with different flux and the determination of its characteristics

    RAHMİ KÜÇER

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1990

    Fizik ve Fizik Mühendisliğiİstanbul Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. ALİ GİRGİN

  5. Nötron aktivasyon analizi yöntemi ile cam içinde 59-27Co belirlenmesi

    Determination of 59-27Co in glass by the method of neutron activation analysis

    İSMAİL ÇELİK

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1999

    Nükleer Mühendislikİstanbul Teknik Üniversitesi

    Nükleer Mühendislik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. ERDİNÇ EDGÜ