Geri Dön

Çinko oksit ince filmlerin kemometrik yaklaşımla üretimi ve karakterizasyonu

Production and characterization of zinc oxide thin films with a chemometric approach

  1. Tez No: 767146
  2. Yazar: ÖMER OTUZBİR
  3. Danışmanlar: PROF. DR. YASİN YÜCEL
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Kimya, Chemistry
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2022
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Hatay Mustafa Kemal Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Kimya Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 45

Özet

Malzeme biliminde öne çıkan konulardan biri saydam iletken oksit filmlerin uygulamaları ve temel özellikleridir. Bu tür malzemelerin karakteristik özelliği, düşük elektriksel direnç ve görünür bölgede yüksek geçirgenliğe sahip olmalarıdır. Optik ve elektriksel özelliklerinden dolayı çinko oksit (ZnO) saydam yarıiletken filmler son yıllarda oldukça dikkat çekmektedir. ZnO elektromanyetik spektrumun geniş bir aralığında yüksek geçirgenliğe sahip bir malzemedir. ZnO ince filmler fiziksel veya kimyasal kaplama teknikleriyle üretilebilmektedir. Yarıiletken malzemelerin yüksek kaliteye sahip olmasında malzemenin üretiminde kullanılan metot önemli yer tutar. ZnO saydam iletken oksitlerin optik, yapısal ve elektriksel özellikleri uygun üretim parametreleri kullanılarak iyileştirilebilir. Bu nedenle çalışmamızda çinko oksit yarıiletken ince filmlerin kemometrik yaklaşımla üretimi ve fiziksel özelliklerinin geliştirilmesi hedeflenmiştir. Bu çalışmada çinko oksit ince filmler kemometrik tekniklerle optimize edilen üretim koşullarında SILAR yöntemiyle üretilmiştir. ZnO ince filmlerin SILAR yöntemiyle üretiminde etkili faktörler incelenmiş ve merkezi kompozit dizayn (CCD) ile yanıt yüzey yöntemi (RSM) kullanılarak optimum üretim koşulları belirlenemiştir. Elde edilen çinko oksit saydam yarıiletken filmlerin kristal yapısı ve morfolojik özellikleri X ışını difraksiyonu (XRD) ve taramalı elektron mikroskobu (SEM) ile karakterize edilmiştir.

Özet (Çeviri)

One of the prominent topics in material science is the applications and basic properties of transparent conductive oxide films. Such materials are characterized by low electrical resistance and high transmittance in the visible region. Due to its optical and electrical properties, zinc oxide (ZnO) transparent semiconductor films have attracted considerable attention in recent years. The ZnO is a high transmission material in a wide range of electromagnetic spectrum. ZnO thin films can be produced by physical or chemical coating techniques. The method used in the production of the material has an important place in the high quality of semiconductor materials. The optical, structural and electrical properties of ZnO transparent conductive oxides can be improved using appropriate production parameters. Therefore, in our study, it was aimed to produce zinc oxide semiconductor thin films with chemometric approach and to improve their physical properties. In this study, zinc oxide thin films were produced by SILAR method under production conditions optimized by chemometric techniques. The factors affecting the production of ZnO thin films by SILAR method were investigated and optimum production conditions were determined using the central composite design (CCD) and response surface method (RSM). The crystal structure and morphological properties of the obtained zinc oxide transparent semiconductor films were characterized by X-ray diffraction (XRD) and scanning electron microscopy (SEM).

Benzer Tezler

  1. Electrodeposition of ZnO thin films: Effect of vanadium doping

    Çinko oksit ince filmlerin elektrodepozisyonu: Vanadyum katkılamanın etkisi

    CEMRE AVŞAR

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2013

    Kimya MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. GÜRKAN KARAKAŞ

  2. Çinko oksit ince filmin pyroelektriklik özelliği üzerinde alt taş materyalin etkisi

    The effect of substrate material on pyroelectric property of zinc oxide

    KENAN ÇİÇEK

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2011

    Elektrik ve Elektronik MühendisliğiAtatürk Üniversitesi

    Elektrik-Elektronik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    YRD. DOÇ. DR. TEVHİT KARACALI

  3. Zinc oxide based transparent conductive oxide thin films deposited by R.F. magnetron sputtering for photovoltaic applications

    Çinko oksit alaşımlı saydam illetken oksit ince filmlerin fotovoltaik uygulamalar için R. F. manyetik sıçratma tekniğiyle biriktirilmesi

    NİLÜFER DUYGULU

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2013

    Metalurji MühendisliğiYıldız Teknik Üniversitesi

    Üretim Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. AHMET EKERİM

    DOÇ. DR. ALP OSMAN KODOLBAŞ

  4. Growth and characterization of undoped and indium doped zinc oxide thin films grown by hydrothermal method

    Katkısız ve indiyum katkılı çinko oksit ince filmlerin hidrotermal metot ile büyütülmesi ve karakterizasyonu

    TUĞÇE BAYRAKTAR

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2020

    Fizik ve Fizik MühendisliğiAnkara Yıldırım Beyazıt Üniversitesi

    Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. AYTUNÇ ATEŞ

  5. Katkılı ve katkısız çinko oksit (ZnO) ince filmlerin hazırlanması ve karakterizasyonu

    Preparation and characterization of doped and undoped zinc oxide (ZnO) thin films

    İDRİS SORAR

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2008

    Fizik ve Fizik Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. FATMA Z. TEPEHAN