Magnetron püskürtme sistemi ile kaplanan bor karbür ince filmlerinin yapısal özelliklerinin incelenmesi
Investigation of structral properties of boron carbide thin films deposited with magnetron sputtering system
- Tez No: 795647
- Danışmanlar: PROF. DR. SAİME ŞEBNEM AYDIN
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2023
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Gazi Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 70
Özet
Bor karbür, bor bileşikleri içinde pazar hacmi yüksek olan önemli bir bor ürünü olarak yer almaktadır. Bor karbür ileri teknolojik malzemeler arasında özel bir yere sahiptir. Yüksek sertliği, düşük yoğunluğu, yüksek sıcaklıklara dayanıklılığı ve yüksek nötron yakalama kapasitesi özellikleriyle birçok askeri ve sivil alanlarda kullanım alanı bulmaktadır. Sert ve hafif olması sebebiyle zırhlı muharebe araç zırhlarının güçlendirilmesinde kullanılır. Askeri alanda kullanılan uçak ve helikopterlerin mekanik bölümleri ve bu alanlarda çalışan kişilerin korunmasına yönelik zırhlandırılmasında yaygın bir şekilde kullanım alanı bulmaktadır. Literatür incelendiğinde bor karbürün ince film formunda detaylı olarak çalışılmadığı görülmüştür. Bor karbür, püskürtme gibi atomik düzeyde kaplamanın uygulandığı ince film kaplama yöntemleriyle az çalışılmış malzemeler arasındadır. Bu tez çalışmasının amacı, kaplama parametrelerinin elde edilen bor karbür ince filmlerin yapısal, morfolojik ve optik özelliklerine olan etkilerini incelemektir. Bu tez çalışmasında, oda sıcaklığında, 250 C ve 450 C olmak üzere üç farklı alttaş sıcaklığında ve dört farklı kalınlık değerinde eş-püskürtme tekniği ile n-Si ve cam alttaşlar üzerine bor karbür ince filmler kaplandı. Tavlama sıcaklığının ince filmlerde oluşturduğu etkiyi gözlemlemek amacıyla üretilen ince filmler 1000 C tavlandı. Üretilen bor karbür ince filmlerin yapısal, morfolojik, optik özellikleri XRD, AFM, FTIR spektrometresi ve UV-Vis spektrometresi kullanılarak belirlendi. Bor karbür filmlerin amorf yapıya sahip olduğu gözlendi. Alttaş sıcaklığının artmasıyla birlikte ince filmlerin optik geçirgenliğinin %55 'lerden %80 'lere artmış olduğu görüldü. Oda sıcaklığında kaplanan 150 nm kalınlıklı film N-1, 250 C de kaplanan 75 nm kalınlıklı film N-2, 450 C kaplanan 100 nm kalınlık film N-3 ve 450 C kaplanan film 200 nm kalınlıklı film N-4 olarak adlandırıldı ve bu numunelerinin sırasıyla yasak bant enerji aralığı değerleri yaklaşık olarak 3,80 eV, 3,75 eV, 3,75 eV ve 3,65 eV bulundu.
Özet (Çeviri)
Boron carbide is an important boron product with a high market volume among boron compounds. Boron carbide has a special place among high-tech materials. With its high hardness, low density, resistance to high temperatures and high neutron capture capacity, it finds use in many military and civilian areas. Because it is hard and light, it is used to strengthen the armor of armored combat vehicles. It is widely used in the armoring of the mechanical parts of aircraft and helicopters used in the military field and for the protection of people working in these fields. When the literature is examined, it has been seen that boron carbide has not been studied in thin film form in detail. Boron carbide is among the less studied materials with thin-film coating methods such as sputtering, where coating at atomic level is applied. The aim of this thesis is to examine the effects of coating parameters on the structural, morphological and optical properties of boron carbide thin films. In this thesis, boron carbide thin films were coated on n-Si and glass substrates by co-sputtering technique at room temperature, three different substrate temperatures, 250 C and 450 C, and four different thicknesses. In order to observe the effect of annealing temperature on thin films, the produced thin films were annealed at 1000 C. The structural, morphological and optical properties of the produced boron carbide thin films were determined using XRD, AFM, FTIR spectrometry and UV-Vis spectrometry, respectively. It was observed that boron carbide films have amorphous structure. It was observed that the optical transmittance of thin films increased from 55% to 80% with the increase in substrate temperature. The 150 nm thick film coated at room temperature was named N-1, the 75 nm thick film coated at 250 °C was named N-2, the 100 nm thick film coated at 450 °C was named N-3, and the 200 nm thick film coated at 450 °C was named N-4 and the band gap values these samples were found to be approximately 3.80 eV, 3.75 eV, 3.75 eV and 3.65 eV.
Benzer Tezler
- 100Cr6 malzeme üzerine RF magnetron püskürtme tekniği ile farklı kalınlıklarda TiN nano kaplamanın mikroyapı özellikleri ve elektrokimyasal korozyon direnci üzerine etkilerinin incelenmesi
Investigation of the effects of TiN nano coating on 100Cr6 material with RF magnetron sputtering technique on microstructural properties and electrochemical corrosion resistance
BURCU ÇİL
Yüksek Lisans
Türkçe
2022
Mühendislik BilimleriGazi Üniversitesiİmalat Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. MAHMUT İZCİLER
- V2O5 ince filmlerin yapısal, morfolojik ve optiksel karakterizasyonu
Structural, morphological and optical characterization of V2O5 thin films
MELTEM DÖNMEZ
Yüksek Lisans
Türkçe
2015
Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. MEHMET ÇAKMAK
- Recycling of In2O3 from waste LCD panels & process design
Atık LCD panellerinden In2O3 geri dönüşümü ve prosestasarımı
DOĞAÇ TARI
Yüksek Lisans
İngilizce
2020
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiMetalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. SEBAHATTİN GÜRMEN
- ZnSe ince filmlerin karakterizasyon ve fabrikasyonu
Characterization and fabrication of ZnSe thin films
ESRA BALCI
Yüksek Lisans
Türkçe
2022
Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. SEMRAN SAĞLAM
- Püskürtme tekniği ile elde edilen TiO2 filminin yapısal ve elektriksel özelliklerinin incelenmesi
The investigation of structural and electrical analyses of TiO2 films deposited by sputtering method
YUNUS ÖZEN
Yüksek Lisans
Türkçe
2010
Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. PERİHAN DURMUŞ