PECVD tekniği ile izopren temelli homo ve kopolimerlerin sentezi ve karakterizasyonu
Synthesis and characterization of isoprene based homo and copolymers by PECVD technique
- Tez No: 818607
- Danışmanlar: PROF. DR. MUSTAFA KARAMAN
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Kimya Mühendisliği, Polimer Bilim ve Teknolojisi, Chemical Engineering, Polymer Science and Technology
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2023
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Konya Teknik Üniversitesi
- Enstitü: Lisansüstü Eğitim Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Kimya Mühendisliği Bilim Dalı
- Sayfa Sayısı: 73
Özet
Bu çalışmada poli (İzopren) ve poli (İzopren- co- Akrilik asit) polimerik ince filmler Plazma Destekli Kimyasal Buhar Biriktirme (PECVD) yöntemi ile sentezlenmiştir. Çözücü kullanımına gereksinim duyulmadan tek adımda ve düşük sıcaklıkta kaplama yapılabilmesi gibi önemli avantajları sunması sebebiyle arzu edilen homo ve kopolimer ince filmlerin sentezinde PECVD yöntemi tercih edilmiştir. Yapılan deneysel çalışmalarda substrat sıcaklığı ve plazma gücü parametreleri sabit tutularak monomer akış hız oranlarındaki değişimin kaplamaların kimyasal, morfolojik ve ıslatma özellikleri üzerine etkileri incelenmiştir. PECVD reaktörüne 2-metil 1,3-bütadien (İzopren) ve akrilik asit (AA) monomer buharları, herhangi bir ısıtma işlemlerine tabii tutulmadan PECVD reaktörüne beslenerek silikon alttaş üzerine ince film kaplamalar elde edilmiştir. Sistemde 13.56 MHz RF plazma kaynağı kullanılmış olup, deneysel çalışmalarda 15 W plazma gücü uygulanmıştır. Kaplanan filmlere ait FTIR spektrumları incelendiğinde fonksiyonel grupların büyük ölçüde korunarak kaplandığı, kimyasal olarak düzgün yapılı, hidrofilik özellikte kopolimer filmlerinin elde edildiği görülmüştür. PIP homopolimer kaplamasının en homojen ve iğne deliksiz (pin hole-free) kaplama olduğu, PAA kaplamasının az miktarda iğne delikleri içerdiği ve P(AA-IP) kopolimer kaplama yüzeyinin çok sayıda tüm yüzey üzerine yayılmış farklı boyutlarda iğne delikleri içerdiği gözlemlenmiştir. AFM sonuçlarına göre 5.9 nm pürüzlülük derecesine sahip, oldukça pürüzsüz P (IP-AA) ince filmler elde edilmiştir.
Özet (Çeviri)
In this study, poly (Isoprene) and poly (Isoprene-co-Acrylic acid) polymeric thin films were synthesized by Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition (PECVD) method. The PECVD method was preferred for the synthesis of desired homo and copolymer thin films, since it offers important advantages such as coating in one step and at low temperature without the need for solvent use. In experimental studies, the effects of changes in monomer flow rates on the chemical, morphological and wetting properties of the coatings were investigated by keeping the substrate temperature and plasma power parameters constant. Thin film coatings on silicon substrate were obtained by feeding 2-methyl 1,3-butadiene (Isoprene) and acrylic acid (AA) monomer vapors to the PECVD reactor without any heating processes. 13.56 MHz RF plasma source was used in the system and 15 W plasma power was applied in the experimental studies. When the FTIR spectra of the coated films were examined, it was observed that the functional groups were largely protected and chemically uniform, hydrophilic copolymer films were obtained. It has been observed that the PIP homopolymer coating is the most homogeneous and pin hole-free coating, the PAA coating contains a small amount of pinholes, and the P(AA-IP) copolymer coating surface contains a large number of pinholes of different sizes spread over the entire surface. According to the AFM results, very smooth P (IP-AA) thin films with a roughness of 5.9 nm were obtained.
Benzer Tezler
- PECVD tekniği ile büyütülmüş ince filmlerde oluşan Si, Ge ve SiGe nanokristallerin geçirgen elektron mıkroskobu (TEM), Raman, fotoışıma ve esr spektroskopisi teknikleri ile incelenmesi
Transmission electron microscopy, Raman, photoluminescence and electron spin resonance characterization of Si,Ge and SiGe nanocrystals in thin films synthesized by plasma enhanced chemical vapor deposition
BÜNYAMİN ŞAHİN
Doktora
Türkçe
2010
Fizik ve Fizik MühendisliğiKırıkkale ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. SEDAT AĞAN
- The Admittance analysis of the PECVD deposites silicon nitride thin films
PECVD tekniği kullanılarak büyütülmüş silisyum nitrür ince filmlerin admittans analizleri
SELMA MUŞABAK
Yüksek Lisans
İngilizce
1998
Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
- Plazma ile zenginleştirilmiş kimyasal depolama tekniği kullanılarak büyütülen çok katlı amorf SiOx:SiOxGe filimlerde ge nanokristallerin elektron mikroskobu ile görüntülenmesi
Transmission electron microscopy characterization of ge nanocrystals in amorphous SiOx:SiOxGe multilayers films synthesized by plasma enhanced chemical vapor deposition
KEMAL DURANDAŞ
Yüksek Lisans
Türkçe
2009
Fizik ve Fizik MühendisliğiKırıkkale ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. SEDAT AĞAN
- Characterization and enhancement of antibacterial diamond like carbon (DLC) nano films against Mycobacterium chimaera
DLC (Elmas Benzeri Karbon) filmlerin 'Mycobacterıum chımaera' bakterisine karşı anti bakteriyel özelliklerinin incelenmesi ve geliştirilmesi
VAHİT EREN TABUROĞLU
Doktora
İngilizce
2024
BiyofizikOrta Doğu Teknik ÜniversitesiMikro ve Nanoteknoloji Ana Bilim Dalı
PROF. DR. ALPAN BEK
DR. ELİF APAYDIN
- Production of amorphous silicon /p-type crystalline silicon heterojunction solar cells by sputtering and PECVD methods
Amorf silisyum/p-tipi kristal silisyum heteroeklem güneş gözelerinin saçtırma ve PECVD tekniği ile üretilmesi
ZEYNEP DENİZ EYGİ
Doktora
İngilizce
2011
Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik ÜniversitesiFizik Bölümü
PROF. DR. RAŞİT TURAN
PROF. DR. ÇİĞDEM ERÇELEBİ