Geri Dön

Amorf yarı iletken a-Si:H/a- SİNx:H çokkatlı filimlerin elektrik ve optik özellikleri

Electrical and optical properties of amorphous semiconducting a-Si i H/a-SİNx:H multilayer films

  1. Tez No: 105586
  2. Yazar: ESİN ÜLGEN GÜNDEM
  3. Danışmanlar: DOÇ. DR. HÜSEYİN TOLUNAY
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Amorf Silisyum, amorf silisyum azot alaşımı, a-Si:H/ a-SiNx:H çokkatlı filmler, bant geçiren filtre, Fabry-Perot filtre, Amorphous silicon, amorphous silicon nitride alloys, a-Si:H/ a~SiNx:H multilayer films, bandpass filter, Fabry-Perot filter
  7. Yıl: 2001
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Hacettepe Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 101

Özet

öz Bu çalışmada, RF plazma biriktirme sisteminde hidrojenlendirilmiş amorf silisyumun (a-Si:H) ve hidrojenlendirilmiş amorf silisyum- azot alaşımı (a-SiNx:H) tekkatlı filmlerin ve bunların ardışık olarak üst üste büyütülmesi ile elde edilen çokkatlı ince filmlerin elektronik ve optik özelliklerini belirlemek için karanlık iletkenlik, aydınlık iletkenlik ve optik geçirgenlik deneyleri yapılmıştır. Karanlık iletkenlik deneyleri sonucunda; tekkatlı ve çokkatlı filmlerin karanlık öziletkenlikleri arasında ilişki kurulmuş ve çokkatlı filmlerin karanlık öziletkenliklerinin tekkatlı filmlerle aynı davranışı gösterdiği tespit edilmiştir. Çokkatlı filmlerin a-Si:H katmanını oluşturan tekkatlı yarım saatlik saf filme göre daha yüksek karanlık öziletkenlikleri vardır ve katman sayısı karanlık öziletkenliği çok belirgin bir şekilde değiştirmemiştir. Aydınlık iletkenlik deneyleri sonucunda; tekkatlı ve çokkatlı filmlerin fotoöziletkenlikieri arasında ilişki kurulmuş çokkatlı filmlerin fotoöziletkenliklerinin karanlık öziletkenlikte olduğu gibi tekkatlı filmlerle aynı davranışı gösterdiği tespit edilmiştir. Katman sayısı ve katmanların büyüme süresi fotoöziletkenliği etkilemekte ve artan azot oranı ile fotoöziletkenlik artmaktadır. Optik geçirgenlik deneylerinin sonucunda; çokkatlı filmlerin, katman sayısı, azot oranı ve katmanların büyüme süresine bağlı olarak görünür bölgeyi çok iyi kesen yakın infrared bölgeyi (NIR) geçiren bant filtre özelliği gösterdiği tespit edilmiştir.

Özet (Çeviri)

ABSTRACT In this study, multilayer films consisting of sequential layers of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) and insulating amorphous silicon nitride (a-SiNx:H) were prepared on glass substrates by plasma decomposition, using SihU for the undoped a-Si:H and SiH4 / NH3 for nitride layer. The dark conductivity and the steady-state photoconductivity and their dependence on light intensity were investigated in multilayer films as a function of temperature between 420 and 100 K. Optical transmission measurements were carried out on a spectrometer in the wavelength range from 400 nm to 1 100 nm. Dark conductivity measurements showed that the conductivity was thermally activated with a single activation energy as in the case of single-layer films. The activation energy was measured to be ~ 0.5 eV. The temperature and the light intensity dependence of photoconductivity of multilayer films behaved like single-layer films. Optical transmission measurements displayed that some multilayer films behaved as a Fabry-Perot bandpass filter in the near-infrared region.

Benzer Tezler

  1. Analyset of silicon based thin films by fourier transfer infrared spectroscopy

    Silikon tabanlı yarı iletken filmlerin kızılötesi spectrometre ile analizi

    ÖZCAN BAZKIR

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    1999

    Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. BAYRAM KATIRCIOĞLU

  2. Fabrication and characterization of a-Si:H based top-gate and bottom-gate thin-film transistors (TFTs)

    A-Si:H tabanlı üst-kapı ve alt-kapı ince film transistörlerin (TFTs) fabrikasyonu ve karakterizasyonu

    ELÇİN MERT

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2019

    Bilim ve TeknolojiGebze Teknik Üniversitesi

    Nanobilim ve Nanomühendislik Ana Bilim Dalı

    DR. ÖĞR. ÜYESİ ALİGÜL BÜYÜKAKSOY

    DR. ÖĞR. ÜYESİ TURGUT TUT

  3. Amorf silisyum ve alaşımları heteroeklemlerin elektronik ve optik özelliklerinin incelenmesi

    Electronic and optical properties of heterostructures fabricated by using a-Si:H and its alloys

    İLKER AY

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2006

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HÜSEYİN TOLUNAY

  4. Instability studies in amorphous silicon based alloys

    Amorf silisyum tabanlı alaşımlardaki kararsızlık çalışmaları

    ORHAN ÖZDEMİR

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2004

    Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. BAYRAM KATIRCIOĞLU

  5. Nanocrystal silicon based visible light emitting pin diodes

    Nanokristal silisyum tabanlı görünür ışık yayan pin diyotlar

    MUSTAFA ANUTGAN

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2010

    Elektrik ve Elektronik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Fizik Bölümü

    PROF. DR. BAYRAM KATIRCIOĞLU