Geri Dön

a-SİC:H ince filmlerde elektriksel ölçümler ve ölçü düzeneğinin kurulması

Başlık çevirisi mevcut değil.

  1. Tez No: 12608
  2. Yazar: HALİT TAŞKIN
  3. Danışmanlar: Y.DOÇ.DR. HÜSEYİN TOLUNAY
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 1990
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Hacettepe Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 53

Özet

ÖZET Bu çalışmada, 450K-77K sıcaklık aralığında karanlık ilet kenlik ve f otoiletkenlik deneyleri yapılabilecek bir ölçü düzeneği kurulmuştur. Bir plazma biriktirme sisteminde, silan-metan gaz karışımının“glow discharge”yöntemiyle ayrıştırılmasıyla hazırlanan hidrojenli amorf silisyum- karbon“(a-SiC:H) filmlerin iletkenlik ölçüleri, kurulan bu ölçü düzeneğinde yapılarak aşağıdaki sonuçlar elde edil miştir : 300K-420K sıcaklık aralığında yapılan karanlık iletkenlik ölçülerinde, iki farklı iletkenlik rejimi gözlenmiştir. Karanlık iletkenliğin aktivasyon enerjisi için, 350K'ın üstünde ve altında iki farklı değer elde edilmiş ve bu ak tivasyon enerjileri AE1, (yüksek sıcaklık) ve AE2”(alçak sı caklık) ' nin artan karbon oranı ile arttıkları sonucuna va rılmıştır. a-SiC:H filmlerin fotoiletkenliği 200K-420K sıcaklık ara lığında, üç farklı foton akısında ölçülmüş ve karbon mik tarı arttırıldığında, f otoiletkenlikte kuvvetli bir azal ma gözlenmiştir.

Özet (Çeviri)

SUMMARY In this work, an apparatus is constructed to measure dark conductivity and photoconductivity of thin film samples at a temperature between 4 5 OK and 77K in vacuum. The measurements are reported on the dark conductivity and photoconductivity of hydrogenated amorphous silicon- carbon alloys (a-SiC:H) prepared from the glow-discharge decomposition of silane-methane mixtures at various carbon concentrations. The dark conductivity of the alloys has been measured in the temperature range 3 00K-42 0K, and two conduction regiues have been observed. For the activation energy of the dark- conductivity, two different values have been obtained above and below ^350K, and it is concluded that these activation energies AE, (high temperature) and AE~ (low temperature) Increase when the carbon concentration is increased. The photoconductivity of the a-SiC:H films has been measured in. the temperature range 200K-420K at three different photon fluxes. A strong decrease is observed in the photoconductivity, when the carbon content is increased.

Benzer Tezler

  1. Deposition and characterization of single and multilayered boron carbide and boron carbonitride thin films by different sputtering configurations

    Tek ve çok katmanlı bor karbür ve bor karbonitrür ince filmlerinin farklı sıçratma teknikleriyle biriktirilmesi ve karakterizasyonu

    TOLGA TAVŞANOĞLU

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2009

    Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    Metalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DR. MİCHEL JEANDİN

    PROF. DR. OKAN ADDEMİR

  2. Production of light emitting pin diodes based on the plasma deposited amorphous silicon carbide films

    Plazma ile büyütülmüş amorf silisyum karbür film tabanlı ışık yayınlayan pin diyotların üretilmesi

    KIVANÇ SEL

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2002

    Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. İSMAİL ATILGAN

  3. Analyset of silicon based thin films by fourier transfer infrared spectroscopy

    Silikon tabanlı yarı iletken filmlerin kızılötesi spectrometre ile analizi

    ÖZCAN BAZKIR

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    1999

    Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. BAYRAM KATIRCIOĞLU