Geri Dön

Electirical transport in metal-oxide-semiconductor capacitors

Metal-oksit-yarı iletken kondansatörlerde elektiriksel taşıma

  1. Tez No: 153448
  2. Yazar: MUSTAFA ARIKAN
  3. Danışmanlar: PROF. DR. RAŞİT TURAN
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Metal-Oksit-Yarı iletken, aşırı ince oksit, Schottky salımı, Fowler- Nordheim, Poole-Frenkel, kapan., Metal-Oxide-Semiconductor, ultra-thin oxide, Schottky emission, Fowler- Nordheim, Poole-Frenkel, trap. iv
  7. Yıl: 2004
  8. Dil: İngilizce
  9. Üniversite: Orta Doğu Teknik Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 86

Özet

oz METAL-OKSİT-YARI İLETKEN KONDANSATÖRLERDE ELEKTRİKSEL TAŞIMA Arıkan, Mustafa Yüksek Lisans, Fizik Bölümü Tez Yöneticisi: Prof. Dr. Raşit Turan Ağustos 2004, 75 sayfa Metal-Oksit-Yarı iletken (MOS) kondansatörlerdeki elektriksel taşıma mekanizmaları incelendi. Bu çalışmada kullanılan aygıtlar akım-gerilim yöntemleri kullanılarak karakterize edildi. Fiziksel katsayı çıkarımı ve bilgisayarla yaratılmış verilerin uyumu yöntemleri deneysel verilere uygulandı. İki aygıt incelendi: Göreceli kalın oksit (125 nm) ve aşırı ince oksit (3 nm) MOS yapıları. Bu aygıtların gerilim ve sıcaklık bağımlılıkları günümüzdeki akım-gerilim modelleri kullanılarak açıklandı.

Özet (Çeviri)

ABSTRACT ELECTRICAL TRANSPORT IN METAL-OXIDE-SEMICONDUCTOR CAPACITORS Ankan, Mustafa M. Sc, Department of Physics Supervisor: Prof. Dr. Raşit Turan August 2004, 75 pages The current transport mechanisms in metal-oxide-semiconductor (MOS) capacitors have been studied. The devices used in this study have characterized by current-voltage analyses. Physical parameter extractions and computer generated fit methods have been applied to experimental data. Two devices have been investigated: A relatively thick oxide (125 nm) and an ultra-thin oxide (3 nm) MOS structures. The voltage and temperature dependence of these devices have been explained by using present current transport models.

Benzer Tezler

  1. Yüksek dielektrik sabitli yalıtkan filmlerin üretilmesi ve mos yapıda incelenmesi

    Fabrication and characterization of high-k dielectric films in mos structure

    AYŞE EVRİM SAATCİ

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2015

    Fizik ve Fizik MühendisliğiYıldız Teknik Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. KUBİLAY KUTLU

  2. Electrical characterization of electron selective titanium dioxide and hole selective molybdenum trioxide heterocontacts on crystalline silicon

    Silisyum alttaş üzerınde büyütülmüş, electron geçirgen titanyum dioksit ve hol geçirgen molibden trioksit ince film tabakalarının electriksel karekterizasyonu

    DOĞUŞCAN AHİBOZ

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2017

    Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. RAŞİT TURAN

  3. Atomik katman biriktirme yöntemi ile büyütülmüş al2o3 ince filmlerin elektriksel özelliklerinin incelenmesi

    The investigation of electrical properties of al2o3 thin films deposited by atomic layer deposition method

    KEMAL KAPLAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2018

    Fizik ve Fizik MühendisliğiÇankırı Karatekin Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HALİT ALTUNTAŞ

  4. Silisyumun yönlü aşındırılması ve mikroalgılayıcılar

    Anisotropic etching of silicon and microsensors

    F.ALİ ALDEMİR

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1991

    Elektrik ve Elektronik Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

    PROF.DR. DURAN LEBLEBİCİ