Nano ölçekli vanadyum oksit ince filmlerin yapısal ve elektriksel karakterizasyonu
Stractural and electrical characterization of nano scale vanadium oxide thin films
- Tez No: 269682
- Danışmanlar: DOÇ. DR. R. MUSTAFA ÖKSÜZOĞLU
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Mühendislik Bilimleri, Engineering Sciences
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2010
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Anadolu Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: İleri Teknolojiler Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 129
Özet
Bu çalışmada, VOx ince filmler, farklı O2/Ar (%) oranlarda ve 20 - 80 nm kalınlık aralığında DC magnetron reaktif sıçratma tekniği kullanılarak Si/SiO2 altlık üzerine üretildiler. Üretilen VOx ince filmlerin TCR, ROS ve özdirençlerinin tespiti için Dört Nokta İğne (Four Point Probe, FPP) tekniği kullanılarak yapılan ölçümler sonucunda, en yüksek TCR değeri birim sıcaklık başına -% 3,32 ve yüzey direnci 5414 k?/? olarak belirlendi. Bu sonuçlara göre, belirlenen TCR değerinin literatürdeki değerlerden yüksek olduğu tespit edildi. Buna rağmen VOx ince filmlerin uygulamalar için sınır değerin çok üzerinde ROS değerine sahip olduğu belirlendi. Elde edilen ölçüm sonuçlarında, filmlerin TCR değerlerinin O2/Ar (%) oranının artışıyla arttığı tespit edilmiştir; fakat kalınlığın değişimi için benzer ilişki tespit edildi. Üretilen VOx ince filmlerde yarıiletken fazdan metalik faza geçiş özelliği tespit edilemedi. Yapısal özelliklerinin tespiti için kullanılan XRD ve GIXRD teknikleriyle yapılan ölçüm sonuçlarından üretilen VOx ince filmlerin amorf olduğu tespit edildi.
Özet (Çeviri)
In this study, VOx thin films were deposited at different O2/Ar (%) and 20?80 nm thickness intervals on Si/SiO2 substrate by DC magnetron reactive sputtering technique. The results of measurements with using FPP technique for determination TCR, ROS and resistivity of deposited VOx thin films, the best TCR value was found to be -3,32 %/oC and ROS value is 5414 k?/?. According to these results, determined TCR value was found to be higher than literature values. However the ROS value is also higher than application limits. Measured results on, TCR values of VOx thin films was found to increase with increasing O2/Ar (%) ratio; but a similar relationship wasn?t detected for the change of thickness. The semiconductor to metal transition feature has not been detected for deposited VOx thin films. To determine the structural characteristics of the obtained scan peaks, XRD and GIXRD techniques were applied results on deposited VOx thin films were revealed that they are amorphous.
Benzer Tezler
- Nano ölçekli vanadyum oksit ince filmlerin tavlama süreçlerinin geliştirilmesi ve karakterizasyonu
Development and characterization of annealing processes of nanoscale vanadium oxide thin films
ERCAN ŞENER
Yüksek Lisans
Türkçe
2018
Metalurji MühendisliğiAnadolu ÜniversitesiMalzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAMİS MUSTAFA ÖKSÜZOĞLU
- Nano ölçekli Vanadyum Oksit ince filmlerde elektriksel özelliklerinin ve 1/f gürültüsünün karakterizasyonu
Electrical and 1/f noise caharacterization of nano scale Vanadium Oxide thin films
AHMET MURAT YAĞCI
Yüksek Lisans
Türkçe
2016
Bilim ve TeknolojiAnadolu Üniversitesiİleri Teknolojiler Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAMİS MUSTAFA ÖKSÜZOĞLU
- Nano ölçekli vanadyum oksit ince filmlere uygulanan ısıl işlemin film yapısına etkisinin karakterizasyonu
Structural characterization of nano-sized vanadium oxide thin films after annealing
CAN YAVRU
Yüksek Lisans
Türkçe
2015
Metalurji MühendisliğiAnadolu ÜniversitesiMalzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAMİS MUSTAFA ÖKSÜZOĞLU
- İnvestigation of correlation between 1/f electronic noise and structural properties in nano sized vanadium oxide films
Nano ölçekli vanadyum oksit filmlerde 1/f elektronik gürültü ile yapısal özellikler arasındaki ilişkinin incelenmesi
EMRAH DİRİCAN
Yüksek Lisans
İngilizce
2017
Mühendislik BilimleriAnadolu ÜniversitesiMalzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAMİS MUSTAFA ÖKSÜZOĞLU
- Nano ölçekli vanadyum oksit ince film akıllı malzemelerin farklı kalınlıklarda büyütülmesi
Magnification of nanoscale vanadium oxide thin film smart materials at different thicknesses
ULVIYYA GOZALI
Yüksek Lisans
Türkçe
2018
Bilim ve TeknolojiAnadolu Üniversitesiİleri Teknolojiler Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAMİS MUSTAFA ÖKSÜZOĞLU