Geri Dön

GaAsP/GaP yarıiletken yapılarının si üzerine epitaksiyel büyütülmesi ve karakterizasyonu

Epitaxial growth and characterization of GaAsP/GaP on si

  1. Tez No: 352578
  2. Yazar: EMRE PİŞKİN
  3. Danışmanlar: PROF. DR. SÜLEYMAN ÖZÇELİK
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2014
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Gazi Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: Belirtilmemiş.

Özet

Bu tez çalışmasında, Si alttaş üzerine III-V grubu yarıiletkenlerden GaP katmanın iyi kristal kalitesinde moleküler demet epitaksi (MBE) tekniği ile büyütüldü. Büyütülen bu yapının yapısal, elektriksel, morfolojik ve optik özellikleri analiz edildi. GaP/Si yapısının Hall etkisi ölçümleri ile taşıyıcılar üzerindeki etkin saçılma mekanizmaları belirlendi. Ayrıca, faklı P oranına sahip GaAsP yapısının Si alttaş üzerine ardışık iki pn-eklem olarak büyütülmesi gerçekleştirildi. Büyütülen iki pn-eklemli yapının yapısal ve optik özellikleri SEM, SIMS ve PL analizleri ile incelendi. Yapılan analizler, ardışık iki eklemli yapının, iki farklı dalga boyunda ışıma yaptığı PL ölçümleri ile belirlenerek iki renkli LED aygıtları için uygun olduğu görüldü. İki eklemli GaAsP/GaP/Si yapısından litografik teknikle diyot fabrikasyonu gerçekleştirilerek, üretilen yapının diyot özelliğine sahip olduğu gösterildi.

Özet (Çeviri)

In this thesis, GaP layer that is III-V group semiconductors was grown in good crystal quality by using molecular beam epitaxy (MBE) technique. Structural, electrical, morphological and optical properties of the grown structure were analyzed. Effective scattering mechanisms on carriers were determined by Hall effect measurements. In addition, growing of two tandem pn-junction GaAsP layers with different P content was successfully achieved on GaP/Si structure. Structural and optical properties of the grown tandem structure were characterized by SEM, SIMS and PL measurements. It is observed that the structure has two PL emission peaks at different wavelength. This result show that grown structure with two pn-junctions is suitable for the fabrication of two color LED devices. In addition, A diode device was fabricated by lithographic technique and it was determined that fabricated structure has diode properties by I-V measurements.

Benzer Tezler

  1. Teaching of literature through short stories

    Başlık çevirisi yok

    ESİN EKEMEN

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    1986

    Eğitim ve ÖğretimGazi Üniversitesi

    DR. ÇİĞDEM YILDIRIM

  2. Wolfgang Borcherts Stellungnahme zum Krieg in seinen Kurzgeschichten ab 1945

    Başlık çevirisi yok

    ZEKİ KARAKAYA

    Yüksek Lisans

    Almanca

    Almanca

    1988

    Alman Dili ve EdebiyatıHacettepe Üniversitesi

    DOÇ. DR. NURAN ÖZYER

  3. Microwave GaAs fet low noise amplifier design

    Başlık çevirisi yok

    NEVZAT YARAŞ

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    1989

    Elektrik ve Elektronik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    PROF. DR. CANAN TOKER

  4. Properties of shallow impurities in quantum wells and wires

    Başlık çevirisi yok

    MOHAMMAD KHALİL EL-SAİD

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    1990

    Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MEHMET TOMAK