Capacitance analysis of MOS structure at different frequencies and at different D.C. biases

Benzer Tezler

1. Tez No

   406283

   Yüksek dielektrik sabitli yalıtkan filmlerin üretilmesi ve mos yapıda incelenmesi

   Fabrication and characterization of high-k dielectric films in mos structure

   AYŞE EVRİM SAATCİ

   Doktora

   

   Türkçe

   2015

   Fizik ve Fizik MühendisliğiYıldız Teknik Üniversitesi

   Fizik Ana Bilim Dalı

   PROF. DR. KUBİLAY KUTLU

2. Tez No

   55758

   Eşikaltı çalışan otaların iyileştirilmesi ve tip elektroniği alanına uygulanması

   Başlık çevirisi yok

   GÜRSEL DÜZENLİ

   Yüksek Lisans

   

   Türkçe

   1996

   Elektrik ve Elektronik Mühendisliğiİstanbul Teknik Üniversitesi

   PROF.DR. H. HAKAN KUNTMAN

3. Tez No

   28624

   Preparation and characterization of silicon thin films

   Silisyum ince filmlerinin hazırlanması ve karakterizasyonu

   İSMAİL ATILGAN

   Doktora

   

   İngilizce

   1993

   Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

   Fizik Ana Bilim Dalı

   PROF. DR. BAYRAM KATIRCIOĞLU

4. Tez No

   473256

   Electrical characterization of electron selective titanium dioxide and hole selective molybdenum trioxide heterocontacts on crystalline silicon

   Silisyum alttaş üzerınde büyütülmüş, electron geçirgen titanyum dioksit ve hol geçirgen molibden trioksit ince film tabakalarının electriksel karekterizasyonu

   DOĞUŞCAN AHİBOZ

   Yüksek Lisans

   

   İngilizce

   2017

   Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

   Fizik Ana Bilim Dalı

   PROF. DR. RAŞİT TURAN

5. Tez No

   35728

   Investigation of SiO2 / P-Si structure by DLTS and various admittance techniques

   SiO2 / P-Si yapısının DLTS ve çeşitli admıttans teknikleri ile belirlenmesi

   SERHAT ÖZDER

   Yüksek Lisans

   

   İngilizce

   1994

   Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

   Fizik Ana Bilim Dalı

   PROF. DR. BAYRAM KATIRCIOĞLU