Geri Dön

Density of states distribution of hydrogenated amorphous silicon pin diode through optoelectronic measurements

Optoelektronik ölçümlerle hidrojenlenmiş amorf silisyum pin diyodların durum yoğunluğu dağılımı

  1. Tez No: 116421
  2. Yazar: OBEN SEZER
  3. Danışmanlar: DOÇ. DR. İSMAİL ATILGAN
  4. Tez Türü: Yüksek Lisans
  5. Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: a-Si:H ince film, PECVD, FTIR, CPM, DOS, ayrıştırma iv, a-Si:H thin film, PECVD, FTIR, CPM, DOS, deconvolution 111
  7. Yıl: 2001
  8. Dil: İngilizce
  9. Üniversite: Orta Doğu Teknik Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 110

Özet

oz OPTOELEKTRONİK ÖLÇÜMLERLE HİDROJENLENMİŞ AMORF SİLİSYUM PİN Dİ YODLARIN DURUM YOĞUNLUĞU DAĞILIMI Sezer, Oben Yüksek Lisans, Fizik Bölümü Tez Yöneticisi: Doç. Dr. İsmail Atılgan Ocak 2001, 97 sayfa Çok tabakalı p-i-n yapı üretilebilmesi için katkısız ve n,p tipi katkılı a-Si:H ince filmler PECVD tekniği ile büyütüldü. Bu yapının çeşitli aydınlanma koşullarında akım- voltaj özellikleri incelendi. Her tabakadaki hidrojenin konumlan ve yoğunluğu kızılötesi (FTIR) spektroskopisi ile çözümlendi. Labview programlama diliyle tümden bilgisayar denetimli sabit fotoakım (CPM) tekniği gerçekleştirildi. Veri çözümlemeye dönük ilgili yazılımlar geliştirildi. Sonuç olarak yerelleşmiş durum yoğunlukları (DOS) değişik ayrıştırma yöntemleriyle elde edildi. Somut uygulama olarak da katkısız a-Sı:H ince filmlerin derin elektronik durumlarının rahatlaması (yokedilmesi veya oluşturulması) araştırıldı.

Özet (Çeviri)

ABSTRACT DENSITY OF STATES DISTRIBUTION OF HYDROGENATED AMORPHOUS SILICON PIN DIODE THROUGH OPTOELECTRONIC MEASUREMENTS Sezer, Oben M.S., Department of Physics Supervisor: Assoc.Prof. Dr. Ismail Atılgan January 2001, 97 pages N, p and intrinsic type a-Si:H thin films were deposited by PECVD for fabricating a multilayered p-i-n structures. I-V behavior of the structure was carried out under various illumination conditions. Hydrogen content and configurations of each layer was analyzed by FTIR spectroscopy. A fully computerized CPM was built up by Labview programming language. Relevant software(s) were developed for data analyses. As a final result, the localized DOS (density of states) was obtained by different deconvolution approaches. As an example, the relaxation (removal or creation) of deep states of the intrinsic a-Si:H layer was studied.

Benzer Tezler

  1. Determination of sensity of states of n-type hygrogenated amorphous silicon by phase shift analysis of modulated photocurrent method

    Modüle edilmiş fotoakım yöntemi ile hidrojenlendirilmiş amorf silisyumda durum yoğunluğunun belirlenmesi

    FERHAT KOCABIYIK

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    1995

    Fizik ve Fizik MühendisliğiBoğaziçi Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. GÜLEN AKTAŞ

  2. Hidrojenlendirilmiş amorf silisyum yapılarda kapasite gerilim yöntemiyle durum dağılımının belirtilmesi

    Başlık çevirisi yok

    ORHAN DURAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    1998

    Fizik ve Fizik MühendisliğiAnkara Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. TÜLAY SERİN

  3. Hidrojenlendirilmiş amorf silisyum deneklerde modüle edilmiş fotoiletkenlik ölçümleri

    Modulated photoconductivity measurements on the hydrogenated amorphous silicon samples

    EVRİM UMUT

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2006

    Fizik ve Fizik MühendisliğiHacettepe Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF.DR. AYNUR ERAY

  4. The effects of carbon content on the properties of plasma deposited amorphous silicon carbide thin films

    Karbon içeriğinin plazma ile biriktirilmiş amorf silisyum karbür ince filmlerin özelliklerine etkileri

    KIVANÇ SEL

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2007

    Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. İSMAİL ATILGAN

  5. SCL akımları yöntemi ile hidrojenlendirilmiş amorf silisyum-germanyum alaşımı n-i-n sandviç yapılarda elektronik kusur dağılımlarının incelenmesi

    Investigation of electronic defect distribution on amorphous silicon-germanium alloy n-i-n sandwich structure by using SCL current

    ZEYNEP RUKİYE ÖZGE CAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2011

    Fizik ve Fizik MühendisliğiMuğla Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. MEHMET GÜNEŞ