Au/SiO2/n-GaAs (MOY) yapıların elektrik ve dielektrik karakteristiklerinin frekans ve sıcaklığa bağlı incelenmesi
The investigetion of frequency and temperature dependence of electrical and dielectric properties of Au/SiO2/n-GaAs (MOS) structures
- Tez No: 234052
- Danışmanlar: DOÇ. DR. ŞEMSETTİN ALTINDAL
- Tez Türü: Doktora
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2008
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Gazi Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 143
Özet
Au/SiO2/n-GaAs (MOS) yapıların; seri direnç (Rs), arayüzey durumları (Nss) ve ac elektrik iletkenlik ( ? ac) gibi elektriksel karakteristikleri ile dielektrik sabiti ( ? '), dielektrik kayıp ( ?“), dielektrik kayıp tanjantı (tan ? ), reel ve imajiner elektrik modülü ( ? ' and ? ”) gibi dielektrik özelliklerinin frekans, sıcaklık ve oksit tabaka kalınlığına bağımlılığı, 80-350 K sıcaklık aralığında değişik frekans ve oksit tabaka kalınlıkları için deneysel kapasitans-voltaj (C-V) ve kondüktans-voltaj (G/w-V) ölçümleri kullanılarak araştırıldı. Deneysel sonuçlar göstermiştir ki; özellikle yüksek sıcaklık ve düşük frekanslarda, arayüzey durum yoğunluğunun (Nss) dağılımı ile gevşeme zamanı ?? ve arayüzeyin termal olarak yeniden yapılanmasına bağlı olarak C ve G/w değerleri frekans, sıcaklık ve oksit tabaka kalınlığına oldukça bağımlıdır. Au/SiO2/n-GaAs (MOS) yapısının Rs ve Nss değerleri sırasıyla Nicollian ve Hill-Coleman metotları kullanılarak hesaplanmış olup bu değerler artan frekansla azalmaktadır. Artan sıcaklıkla azalan seri direnç, artan oksit kalınlığına bağlı olarak lineer olarak artmaktadır. Dielektrik sabiti, dielektrik kayıp, kayıp tanjant ve elektrik modülünün frekans, sıcaklık ve oksit tabaka kalınlığının kuvvetli bir fonksiyonu olduğu bulundu. ?', ?'' ve tan? değerleri artan frekansla azalırken reel ve imajiner elektrik modülü artan frekansla artmaktadır. Ayrıca, ?' ve ?'' artan sıcaklıkla artarken, reel ve imajiner elektrik modülü artan sıcaklıkla azalmaktadır. Artan oksit kalınlığına bağlı olarak dielektrik sabiti ?? ' değerleri azalırken, tan ?? ve elektrik modülünün imajiner bileşeni olan M" değerleri artmaktadır.
Özet (Çeviri)
The frequency, temperature and oxide thickness dependence of electrical characteristics such as series resistance (Rs), interface states (Nss) and ac electrical conductivity ( ? ac) and dielectric properties such as dielectric constant ( ? '), dielectric loss ( ?“), dielectric loss tangent (tan ? ), real and imaginary part of electric modulus ( ? ' and ? ”) of the Au/SiO2/n-GaAs (MOS) structures have been investigated in the temperature range of 80-350 K at various frequencies by using experimental capacitance-voltage (C-V) and conductance-voltage (G/w-V) measurements. Experimental results show that both the values of C and G/w were quite sensitive to frequency, temperature and oxide layer thickness at relatively high temperatures and low frequencies due to a continuous density distribution of Nss and their relaxation time ( ? ), and thermal restructuring and reordering of the interface. The values Rs and Nss of the Au/SiO2/n-GaAs (MOS) structure were obtained from Nicollian and Hill-Coleman methods, respectively, and their values decrease with increasing frequency. While the series resistance decreases with increasing temperature, it increases linearly with increasing oxide layer thickness. The dielectric constant, dielectric loss, loss tangent and the electric modulus were found a strong function of frequency, temperature and oxide layer thickness. While the values of the ?', ?'' and tan? decrease with increasing frequencies, the electric modulus (real and imaginary part) increase with increasing frequency. Also, while the dielectric constant and dielectric loss increase with increasing temperature, electric modulus (real and imaginary part) decrease with increasing temperature. While the ?' decreases with increasing oxide layer thickness tan ?? and imaginary electric modulus increase with increasing oxide layer thickness.
Benzer Tezler
- Au/SiO2/N-Si MOS yapıların C-V-F ve G-V-F karakteristiklerinin incelenmesi
Investigation of C-V-F and G-V-F characteristics of Au/SiO2/N-Si structures
YAVUZ NURTAN
Yüksek Lisans
Türkçe
2010
Fizik ve Fizik MühendisliğiSelçuk ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. Ö. FARUK YÜKSEL
- Au/SiO2/n-tipi Si yapıların ışık şiddetine bağlı olarak elektriksel ve fotovoltaik özelliklerinin incelenmesi
Investigation of electrical and photovoltaic properties of Au/SiO2/n-type Si structures depending on light intensity.
AYKUT AK
Yüksek Lisans
Türkçe
2023
Elektrik ve Elektronik MühendisliğiKahramanmaraş Sütçü İmam ÜniversitesiMalzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. ŞÜKRÜ KARATAŞ
- Au/SİO2/n-Sİ (MIS) yapının elektrik ve dielektrik karakteristiklerinin sıcaklığa bağlı incelenmesi
The investigation oftemperature dependent electric and dielectric characteristics of Au/SİO2/n-Sİ (MIS) structure
AYŞE GÜL EROĞLU
Yüksek Lisans
Türkçe
2011
Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. ŞEMSETTİN ALTINDAL
- Au/SiO2/n-Si (MYY) yapıların elektriksel parametrelerinin sıcaklığa bağlı incelenmesi
The investigation of temperature dependence of electrical parametres ofAu/SiO2/n-Si (MİS) structures
MERT YILDIRIM
Yüksek Lisans
Türkçe
2010
Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. PERİHAN DURMUŞ
- Metal-yalıtkan-yarıiletken (Au/SiO2/N-Si) yapıların elektriksel özelliklerinin I-V ve C-V ölçüm metotları ile incelenmesi
The investigation of electrical characteristics of metal-insulator-semiconduktor (Au/SiO2/N-Si) structures by using I-V and C-V mensurements methods
FADİME ALITKAN
Yüksek Lisans
Türkçe
2009
Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi ÜniversitesiFizik Bölümü
DOÇ. DR. SEMRAN SAĞLAM