Geri Dön

Arayüzey tabakalı metal/yarı iletken (MS) yapıların hazırlanması ve elektriksel ile dielektrik özelliklerinin geniş frekans ve voltaj aralığında incelenmesi

Preparation metal/semiconductor (MS) structures with interlayer and investigation their electrical and dielectric properties in wide range of frequency and voltage

  1. Tez No: 472666
  2. Yazar: SEÇKİN ALTINDAL YERİŞKİN
  3. Danışmanlar: PROF. DR. MUZAFFER BALBAŞI
  4. Tez Türü: Doktora
  5. Konular: Kimya Mühendisliği, Chemical Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2017
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Gazi Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Kimya Mühendisliği Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 119

Özet

Bu çalışmada, Au/(%7 grafen-katkılı PVA)/n-Si (MPS) yapılar hazırlanmış ve bunların muhtemel akım-iletim merkanizmaları, doğru beslem akım-voltaj (I-V) ölçümleri kullanılarak 80-380 K sıcaklık aralığında Termiyonik emisiyon (TE) teorisine göre incelenmiştir. Deneysel sonuçlar, temel yapı parametrelerinden olan sıfır-öngerilim engel yüksekliğinin (Bo) artan sıcaklıkla literatüre aykırı olarak artarken idealite faktörünün (n) ise azalmakta olduğu gözlenmiştir. Bu davranışın, Gaussian dağılımı (GD) ile açıklanıp-açıklanamayacağını göstermek için Bo-q/2kT grafiği çizilmiş ve grafiğin, yüksek (280-380 K) ve düşük sıcaklık (80-240 K) aralıklarında iki farklı eğimli lineer bölgeye sahip olduğu gözlenmiştir. Bu iki lineer bölgenin y-eksenini kesme noktası ve eğimlerinden ortalama engel yüksekliği ( ve standart sapma değeri (σso) sırasıyla 1.30 eV ile 0.16 V ve 0.74 eV ile 0.085 V olarak elde edilmiştir. Bu σso değerler kullanılarak elde edilen lineer eğimli modifiye iki Richardson eğrisinin, (Ln(Io/T2)-(q2σso2/2k2T2))-q/kT, y-eksenini kesme noktası ve eğimlerindenveetkin Richardson sabiti (A*) değerleri sırasıyla 1.31 eV ile 130 A/cm2K2 ve 0.76 eV ile 922 A/cm2K2 elde edilmiştir. Özellikle yüksek sıcaklık bölgesi için elde edilen A*(=130 A/cm2K2) değeri, n-Si için bilinen teorik 112 A/cm2K2 değerine oldukça yakındır. Bu sonuçlar, hazırlanan yapılarda akım-iletim mekanizmasının TE bazlı iki engel dağılımı (DGD) yardımı ile başarıyla açıklanabileceğini göstermektedir. Arayüzey durumlarının (Nss) enerjiye bağlı dağılım profilleri de doğru beslem I-V verilerinden elde edilmiştir. Bunlara ilave olarak, yapının dielektrik özellikleri, elektrik modulus ve elektrik iletkenlik () değerleri de 0.5 kHz - 1 MHz frekans aralığında ve oda sıcaklığında ölçülen kapasitans-voltaj (C-V) ve kondüktans-voltaj (G/-V) ölçümleri kullanılarak detaylı şekilde incelenmiş ve bu değerlerin özellikle düşük frekanslarda büyük bir değişim sergilediği gözlenmiştir. Bu değişim arayüzey ve dipol polarizasyon ile metal/yarıiletken arayüzeyinde yerleşmiş olan arayüzey durumlarına (Nss) bağlanmıştır. -log(f) garfiğinde, değeri düşük frekanslarda neredeyse sabit kalırken yüksek frekanslarda ise üstel olarak artmakta olduğu gözlenmiştir. Bu durum, düşük frekanslarda dc iletkenlik ve yüksek frekanslarda ise ac iletkenliğin etkin olduğunu göstermektedir.

Özet (Çeviri)

In this study, Au/Au/%7 graphene-doped PVA/n-Si (MPS) structure were prepared and their posible current-conduction mechanisms have been investigated based on Thermionic emisiyon (TE) in the temperature range of 80-380 K by using the forward bias current-voltage (I-V) measurements. Experimental results show that the values of zero-bias barrier height (Bo) increase with increasing temperature contarary to literature, whereas ideality factor (n) decreases. Φap vs q/2kT plot was drawn to obtain an evidence of a Gaussian distribution (GD) of the barrier heights (BHs) and it revealed two distinct linear regions with different slopes and intercepts. The mean values of BH ( and zero-bias standard deviation (σso) were obtained from the intercept and slope of these linear plots as 1.30 eV and 0.16 V for the first region (280-380 K) and 0.74 eV and 0.085 V for the second region (80-240 K), respectively. Thus, the values ofBo and effective Richardson constant (A*) were also found from the intercept and slope of the modified Richardson plot (ln(Is/T2)-q2o2/2k2T2 vs q/kT) for two linear regions as 1.31 eV and 130 A/cm2 K2 for the first region and 0.76 eV and 922 A/cm2 K2 for the second region, respectively. This value of A* for the first region is very close to the theoretical value of 112 A/cm2K2 for n-Si. Thus the forward bias I-V characteristics of the structure can be successfully explained on the basis of TE mechanism with double (DGD) of BHs.The energy density distribution profile of surface states (Nss) was also extracted from the forward bias I-V data by taking into account voltage dependent effective BH (e) and n. In addition, dielectric properties, eelctric modulus and electrical conductivity of these structures were obtained from the capacitance-voltage (C-V) and conductance-voltage (G/-V) measurements in the frequency range of 0.5 kHz - 1 MHz at room temperature. The changes in these parameters become more high at low frequencies due to interfacial and dipole polarizations and Nss. The vs log(f) plot exhibited both low and high frequency dispersion phenomena such that at low frequencies  value corresponding to the dc conductivity (dc), but at high frequencies it corresponds to the ac conductivity (ac).

Benzer Tezler

  1. Preparation of Al/p-Si structures with ZnFe2O4 doped PVA interlayer and investigation of electrical and dielectric properties in wide range of frequency and voltage

    ZnFe2O4 katkılı PVA arayüzey tabakalı Al/p-Si yapıların hazırlanması ve elektriksel ve dielektrik özelliklerinin geniş frekans ve voltaj aralığında incelenmesi

    JAAFAR ABDULKAREEM MUSTAFA ALSMAEL

    Doktora

    İngilizce

    İngilizce

    2023

    Elektrik ve Elektronik MühendisliğiKarabük Üniversitesi

    Elektrik-Elektronik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. SERHAT ORKUN TAN

  2. Ara yüzey tabakalı metal-yarı iletken(MS) yapıların hazırlanması ve elektriksel özelliklerinin frekansa ve voltaja bağlı incelenmes

    The fabrication of Au/N-S (MS) structures with a thin organic layer and investigation their electrical parameters as function frequency and voltage

    AYCAN GÜMÜŞ

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2019

    Fizik ve Fizik MühendisliğiÇankırı Karatekin Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. SEBAHADDİN ALPTEKİN

  3. Arayüzey tabakalı metal-yarıiletken (MS) yapıların hazırlanması ve elektriksel özelliklerinin sıcaklık ve frekansa bağlı incelenmesi

    Preparation of interface layer metal-semiconductor (MS) structures and analysis of electrical characteristics depending on temperature and frequency

    AYSUN ARSLAN ALSAÇ

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2022

    Fizik ve Fizik MühendisliğiAnkara Üniversitesi

    Fizik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. SALİHA TÜLAY SERİN

  4. Au/PVA:Zn/n-Si (MPS) yapıların hazırlanması ve temel elektriksel özelliklerinin ışık altında incelenmesi

    The preperation of Au/PVA:Zn/n-Si (MPS) structures and investigation of main electrical characteristics under illumination

    UMUT AYDEMİR

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2014

    Fizik ve Fizik MühendisliğiGazi Üniversitesi

    Fizik Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. ŞEMSETTİN ALTINDAL

  5. Organik arayüzey tabakalı metal-yarıiletken yapıların elektriksel özelliklerinin radyasyona bağlı incelenmesi

    Investigation of radiation effects on the electrical properties of metal-semiconductor structures with organic interfacial layer

    AHMET KAYMAZ

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2020

    Elektrik ve Elektronik MühendisliğiKarabük Üniversitesi

    Elektrik-Elektronik Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. HABİBE TECİMER