Elektron siklotron rezonans mikrodalga plazma (electron cyclotron resonance mıcrowave plasma, ECR-MP) sistemi ile yarı iletken karbon bileşiklerinin üretilmesi ve karakterizasyonu
Production and characterization of carbon based thin films produced by ECR-MP plasma system
- Tez No: 287133
- Danışmanlar: PROF. DR. RAMAZAN ESEN
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2011
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Çukurova Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 96
Özet
Bu çalışmada, Karbon bazlı yarıiletken ince filmler cam ve silisyum alttabanlar üzerine Elektron Siklotron Rezonans Mikrodalga Plazma (ECR-MP ) yöntemi ile depolandı. Plazma oluşumu için metan (CH4) gazı kullanıldı. Filmlerin optiksel, elektriksel, yapısal ve yüzey özellikleri belirlendi. Ek olarak, üretilen filmler üzerindeki tavlama etkisi araştırıldı. Tavlama sıcaklığı arttırılarak, elde edilen ince fimlerin optik özelliklerinin değişimine bakıldı. Her bir tavlama işleminden sonra Perkin-Elmer UV/VIS Lamda 2S (190-1100 nm) spektrofotometresi kullanılarak dalga boyu-geçirgenlik grafikleri çizildi. Geçirgenlik ve soğurma verileri ile soğurma kenarı, enerji bant aralığı gibi optik parametreleri hesaplandı. Elde edilen ince filmlerin yasak bant aralığının yaklaşık olarak 4.2 eV civarında olduğu saptandı ve tavlama ile birlikte yasak enerji aralığının azaldığı gözlendi. Ayrıca, üretilen karbon ince filmlerin yapısal özellikleri X-ışınları kırınımı (XRD) yöntemi, moleküler yapısı infrared (IR) spektrofotometresi ile yüzey morfolojisi ise Atomik Kuvvet Mikroskobu kullanılarak belirlendi.
Özet (Çeviri)
In this work, Carbon semiconductor thin films were deposited with Electron Cyclotron Resonance-Microwave Plasma System (ECR-MP) on glass and silicon substrates. Electrical, optical, structural properties of the carbon semiconductor thin films were investigated. The Metan (CH4) gas were used for producing plasma. The carbon semiconductor thin films were annealed at 200, 300, 400°C in nitrogen ambient. The annealing related changes of the optical parameters such as absorption, energy band gap, extinction coefficients have been determined. The optical properties of the films were obtained by a double beam computer controlled spectrophotometer (Perkin Elmer Lambda 2S) in the UV/VIS/NIR regions. Using the optical measurement results of the carbon films, energy band gap values were found to be 4.2 eV and found to decrease with annealing. X-ray diffraction technique was used to determine the structural parameters, the existent phases and the orientation of the carbon semiconductor thin films. The molecular structure of the films are determined by Infrared Spectrometer and the surface morphology of the films were studied by Atomic Force Microscopy.
Benzer Tezler
- Elektron siklotron rezonans mikrodalga plazma (ECR-MP) sisteminin optimizasyonu
Optimization of electron cyclotron resonance microwave plasma (ECR-MP) system
SAADET YILDIRIMCAN
Yüksek Lisans
Türkçe
2011
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAMAZAN ESEN
- Effects of electric field on the properties of carbon-based thin films deposited by electron cyclotron resonance microwave plasma (ECR-MP) system
Elektron siklotron rezonans mikrodalga plazma (ECR-MP) sistemi ile elektrik alanın karbon bazlı yarııletken ince filmlerin özelliklerine etkileri
WAFAA S.A. ABUSAID
Yüksek Lisans
İngilizce
2019
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAMAZAN ESEN
- A permanent-magnet microwave discharge ion source at KAHVELab
KAHVELab kalıcı mıknatıslı mikrodalga deşarj iyon kaynağı
SEVİM AÇIKSÖZ
Yüksek Lisans
İngilizce
2022
Fizik ve Fizik MühendisliğiBoğaziçi ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. VEYSİ ERKCAN ÖZCAN
DR. HAKAN ÇETİNKAYA
- Atmalı filtreli katodik vakum ark depolama ve elektron siklotron rezonanas mikrodalga plazma teknikleri ile karbon nanoduvar ince filmlerin üretimi ve karakterizasyonu
Production and characterization of carbon nanowall thin films by pulsed filtered catodic vacuum arc deposition and electron cyclotron resonance microwave plasma tecniques
BİRSEN KESİK ZEYREK
Doktora
Türkçe
2020
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. HAMİDE KAVAK
- Elektron siklotron mikrodalga plazma (ECR-MP) yöntemi ile farklı yüzeylerin karbon ve azot katkılı karbon filmler ile kaplanması
Coating on different surfaces with carbon and nitrogen doped carbon films by using electron cyclotron microwave plasma (ECR-MP) method
ÖZLEM ÇELİKEL
Yüksek Lisans
Türkçe
2020
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. HAMİDE KAVAK