Elektron siklotron rezonans mikrodalga plazma (ECR-MP) sisteminin optimizasyonu
Optimization of electron cyclotron resonance microwave plasma (ECR-MP) system
- Tez No: 287157
- Danışmanlar: PROF. DR. RAMAZAN ESEN
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Fizik ve Fizik Mühendisliği, Physics and Physics Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2011
- Dil: Türkçe
- Üniversite: Çukurova Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
- Sayfa Sayısı: 90
Özet
Bu çalışmada, Elektron Siklotron Rezonans Mikrodalga Plazma (Electron Cyclotron Resonance Microwave Plasma, ECR-MP) sistemi gerçekleştirildi. Sistemin güç ve gaz akış oranı değiştirilerek plazma oluşma ve stabilizasyon koşulları belirlendi. Bu sistem kullanılarak cam alt tabanlar üzerine oda sıcaklığında karbon (C) bazlı yarıiletken ince filmler üretildi. Plazma oluşumu için metan (CH4) gazı kullanıldı. Bu filmler üretilirken, en iyi filmi üretmek için sistemin güç, basınç ve gaz akış oranı değerleri optimize edildi. Elde edilen karbon bazlı yarıiletken ince filmlerin optik ve elektriksel özellikleri incelendi.
Özet (Çeviri)
In this work, the Electron Cyclotron Resonance Microwave Plasma(ECR-MP) system was set up. The conditions for producing plasma and also for stabilizing the system were determined by changing the power of the system and the gas flow rate. The carbon based semiconducting thin films were deposited on glass substrates at room temperature by using this system. The Methane (CH4) gas were used to produce the plasma. During the deposition of the film, the power, pressure and gas flow rate values of the system were optimized in order to produce the best film. The optical and electrical properties of the carbon based semiconducting thin films prepared were investigated.
Benzer Tezler
- Effects of electric field on the properties of carbon-based thin films deposited by electron cyclotron resonance microwave plasma (ECR-MP) system
Elektron siklotron rezonans mikrodalga plazma (ECR-MP) sistemi ile elektrik alanın karbon bazlı yarııletken ince filmlerin özelliklerine etkileri
WAFAA S.A. ABUSAID
Yüksek Lisans
İngilizce
2019
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAMAZAN ESEN
- Elektron siklotron rezonans mikrodalga plazma (electron cyclotron resonance mıcrowave plasma, ECR-MP) sistemi ile yarı iletken karbon bileşiklerinin üretilmesi ve karakterizasyonu
Production and characterization of carbon based thin films produced by ECR-MP plasma system
BİRSEN KESİK
Yüksek Lisans
Türkçe
2011
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAMAZAN ESEN
- Elektron siklotron mikrodalga plazma (ECR-MP) yöntemi ile farklı yüzeylerin karbon ve azot katkılı karbon filmler ile kaplanması
Coating on different surfaces with carbon and nitrogen doped carbon films by using electron cyclotron microwave plasma (ECR-MP) method
ÖZLEM ÇELİKEL
Yüksek Lisans
Türkçe
2020
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. HAMİDE KAVAK
- Atmalı filtreli katodik vakum ark depolama ve elektron siklotron rezonanas mikrodalga plazma teknikleri ile karbon nanoduvar ince filmlerin üretimi ve karakterizasyonu
Production and characterization of carbon nanowall thin films by pulsed filtered catodic vacuum arc deposition and electron cyclotron resonance microwave plasma tecniques
BİRSEN KESİK ZEYREK
Doktora
Türkçe
2020
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. HAMİDE KAVAK
- Sers raman amaçlı altın ve gümüş kaplı alttabanlar üretimi ve MW ECR (mikrodalga elektron siklotron rezonans) yöntemiyle üretilmiş DLC ince filmlerde uygulanması
Production of gold and silver coated substrates for sers raman and application on MW ECR plasma system DLC thin films
ZEYNEP BAZ
Doktora
Türkçe
2016
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇukurova ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. RAMAZAN ESEN