Silisyum karbür ince filmlerin reaktif doğru akım manyetik alanda sıçratma yöntemiyle üretimi ve karakterizasyonu
Synthesis and characterization of silicon carbide thin films by reactive DC magnetron sputtering
- Tez No: 292228
- Danışmanlar: PROF. DR. ONURALP YÜCEL
- Tez Türü: Yüksek Lisans
- Konular: Metalurji Mühendisliği, Metallurgical Engineering
- Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
- Yıl: 2010
- Dil: Türkçe
- Üniversite: İstanbul Teknik Üniversitesi
- Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
- Ana Bilim Dalı: Metalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
- Bilim Dalı: Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Bilim Dalı
- Sayfa Sayısı: 107
Özet
Bu çalışmada, SiC ince filmler, yüksek saflıktaki (% 99,999) Si hedef malzeme kullanılarak reaktif doğru akım manyetik alanda sıçratma yöntemiyle AISI M2 yüksek hız çeliği, mikroskop camı ve Si (100) plaka olmak üzere 3 tip altlık malzeme üzerinde biriktirilmiştir. Farklı kompozisyonlarda kaplama oluşturmak amacıyla ortama, değişen CH4/Ar gaz akış oranlarında (% 0?50) reaktif gaz verilmiştir. Deneylerdeki bu kompozisyon değişimini öncelikle harici ısıtıcı kullanmadan yaklaşık 50 °C sıcaklıkta, daha sonra aynı parametrelere sahip deneyleri harici ısıtıcı kullanarak 250 °C altında gerçekleştirerek numunelerin faz yapılarında, sertliklerinde, kompozisyonlarında ve aşınma dirençlerinde meydana gelen değişimler gözlemlenmiştir.
Özet (Çeviri)
In this study, SiC thin films were deposited on AISI M2 high-speed steel, microscope glass and Si (100) wafer substrares by the reactive DC magnetron sputtering of high purity (%99,999) Si target material. In order to create deposition at different compositions, reactive gas was introduced into the environment at a flow rate of CH4/Ar between % 0?50. Phase formations, hardness, compositions and wear resistance were first examined on the coatings deposited without using the external heater at 50 oC and then on the coatings deposited by using the heater at 250 oC.
Benzer Tezler
- Tungsten karbonitrür (WCN) ince filmlerin reaktif doğru akım manyetik alanda sıçratma yöntemiyle üretimi ve karakterizasyonu
Synthesis and characterization of tungsten carbonitride (WCN) thin films by reactive DC magnetron sputtering
ERŞAT ÇAYAN
Yüksek Lisans
Türkçe
2013
Metalurji Mühendisliğiİstanbul Teknik ÜniversitesiMetalurji ve Malzeme Mühendisliği Ana Bilim Dalı
PROF. DR. ONURALP YÜCEL
- Synthesis of high temperature wear resistant WC and WN coatings
Yüksek sıcaklıkta aşınmaya dirençli WC ve WN kaplamaların sentezlenmesi
HÜSEYİN ALAGÖZ
Yüksek Lisans
İngilizce
2012
Kimyaİhsan Doğramacı Bilkent ÜniversitesiKimya Ana Bilim Dalı
YRD. DOÇ. DR. ERMAN BENGÜ
- Ellipsometric and UV-VIS transmittance analysis of amorphouse silicon carbide thin films
Amorf silisyum karbür ince filmlerin elipsometrik ve mor ötesi-görünür bölge optik geçirme analizi
ALİ ALKAN GÜLSES
Yüksek Lisans
İngilizce
2004
Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
PROF. DR. BAYRAM KATIRCIOĞLU
- Fosfor katkılanmış hidrojenlenmiş amorf silisyum karbür ince filmlerin elektriksel özelliklerinin karakterizasyonu
The characterization of electrical properties of phosphorus doped hydrogenated amorphous silicon carbide thin films
BURAK ALÇINKAYA
Yüksek Lisans
Türkçe
2017
Fizik ve Fizik MühendisliğiÇanakkale Onsekiz Mart ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. KIVANÇ SEL
- The effects of carbon content on the properties of plasma deposited amorphous silicon carbide thin films
Karbon içeriğinin plazma ile biriktirilmiş amorf silisyum karbür ince filmlerin özelliklerine etkileri
KIVANÇ SEL
Doktora
İngilizce
2007
Fizik ve Fizik MühendisliğiOrta Doğu Teknik ÜniversitesiFizik Ana Bilim Dalı
DOÇ. DR. İSMAİL ATILGAN