Geri Dön

Kızılötesi (IR) hassas fotodedektör tasarımı ve üretimi

Design and fabrication of infrared (IR) sensitive photodetector

  1. Tez No: 728439
  2. Yazar: ESRA EFİL KUTLUOĞLU
  3. Danışmanlar: PROF. DR. ELİF ORHAN
  4. Tez Türü: Doktora
  5. Konular: Bilim ve Teknoloji, Fizik ve Fizik Mühendisliği, Science and Technology, Physics and Physics Engineering
  6. Anahtar Kelimeler: Belirtilmemiş.
  7. Yıl: 2022
  8. Dil: Türkçe
  9. Üniversite: Gazi Üniversitesi
  10. Enstitü: Fen Bilimleri Enstitüsü
  11. Ana Bilim Dalı: Fizik Ana Bilim Dalı
  12. Bilim Dalı: Belirtilmemiş.
  13. Sayfa Sayısı: 116

Özet

Bu tez çalışmasında; lazerle desenleme (LP) işleminin hem büyütülen grafen (Gr) nanotabakanın kalitesine hem de grafen-silikon (Gr-Si) Schottky fotodiyotun diyot parametreleri üzerine etkisi araştırılmış, bu sayede kızılötesi (IR) hassas fotodiyot geliştirilmesi amaçlanmıştır. Tez çalışmasında ilk olarak; p-tipi silikon (Si) alttaşlar doğrusal olmayan Lazer Litografi (Nonlinear Laser Lithography-NLL) tekniği kullanılarak desenlendi. Ardından Radyo Frekans Plazma Destekli Kimyasal Buhar Biriktirme (Radio Frequency-Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition- RF-PECVD) tekniği kullanılarak lazerle desenlendirilmiş p-tipi silikon (LP-Si) alttaşlar üzerine dikey olarak yönlendirilmiş üç boyutlu (3D) Gr nanoyapılar (Vertically Oriented Graphene Nanosheets-VGrN'ler) üretildi. p-Si alttaş üzerinde elde edilen bu VGrN'ler Raman Spektrometresi ile karakterize edildi. 3D Gr yapısının morfolojik özellikleri ise taramalı elektron mikroskobu (Scanning Electron Microscope-SEM) ile karakterize edildi ve Gr-Si hibrit (Metal-Yarıiletken-MS) yapılar üretildi. Lazerle desenlendirilmemiş doğal oksit tabakalı Gr-Si yapı (Gr-I-Si) ile Gr-Lazer Desenli Silikon (Gr-LP-Si) yapının aygıt özellikleri, lazer desenlemenin etkisini belirlemek için karanlık ve aydınlık ortamda 300 K'de karşılaştırıldı. Cheung, Norde ve termiyonik emisyon (TE) metotları kullanılarak aygıtın Schottky bariyer yüksekliği (SBH- ΦB0), seri direnç (Rs), idealite faktörü (n) gibi diyot parametreleri akım-voltaj (I-V) karakteristikleri kullanılarak hesaplandı. Ayrıca, bu tez çalışması kapsamında, iki tabakalı grafen (BLGr) nanotabakalar bakır (Cu) folyo üzerinde Kimyasal Buhar Biriktirme (Chemical Vapor Deposition-CVD) yöntemi ile büyütüldü. CVD ile büyütülmüş BLGr film hakkında destekleyici bilgi elde etmek için Raman analizi gerçekleştirildi. Al2O3/p-Si yapı üzerine ıslak transfer yöntemi ile BLGr nanotabakalar transfer edildi. Bu yapının I-V karakteristikleri 300 K ve karanlık ortamda incelenerek BLGr nanotabakanın diyot parametresi üzerindeki etkisi araştırıldı. Diyotun ileri öngerilim I-V eğrisinin, literatürde“iki paralel diyot”veya“çift üstel”modelleme olarak tanımlanan bir davranış sergilediği görüldü. Özellikle bariyer yüksekliği değerleri birbirleri ile karşılaştırılarak aralarında iyi bir uyum olduğu tespit edildi. Bu analizler kapsamında özellikle lazer desenleme işleminin, 3D Gr nanoyapıların kalitesini artırdığı, SBH'de bir artışa neden olduğunu, ters ön gerilim altında diyotun kaçak akımlarını azalttığı ve nanoküre ve nanogül morfolojisinde yeni yapıların p-Si alttaş üzerinde biçimlendiği görüldü. Bu tez çalışması kapsamında elde edilen sonuçlar, üretilen 3D VGrN tabanlı diyotların, kısa dalga IR hassas yarıiletken cihaz uygulamalarında kullanılabileceğini, bant aralığının kontrolünün arzu edildiği elektronik endüstrisindeki uygulamalar için ise üretilen BLGr tabanlı diyotun potansiyel bir malzeme olabileceğini göstermiştir.

Özet (Çeviri)

In this thesis study; the effect of laser patterning (LP) on both the quality of the grown graphene (Gr) nanosheets and the diode parameters of the graphene-silicone (Gr-Si) Schottky photodiode has been investigated and, it is aimed to develop an infrared (IR) sensitive photodiode. In the thesis study, firstly; p-type silicon (Si) substrates were patterned using the nonlinear Laser Lithography (NLL) technique. Next, vertically oriented three-dimensional (3D) Gr nanosheets (VGrNs) on laser-patterned p-type silicon (LP-Si) substrates were synthesized using the Radio Frequency-Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (RF-PECVD) technique. These VGrNs obtained on p-Si substrate were characterized by Raman Spectrometer. The morphologic features of the 3D Gr structure were also characterized by scanning electron microscopy (SEM). Then, Gr-Si hybrid (Metal-Semiconductor-MS) structures were fabricated. To determine the effect of laser patterning, the device properties of the non-laser-patterned natural oxide layered Gr-Si structure (Gr-I-Si) and the Gr-Laser Patterned Silicon (Gr-LP-Si) structure were compared under dark and light conditions at 300 K. By using Cheung, Norde and thermionic emission (TE) methods, diode parameters of the devices such as Schottky barrier height (SBH-ΦB0), series resistance (Rs), ideality factor (n) were extracted from the current-voltage (I-V) characteristics. In addition, within the scope of this thesis, bilayer graphene (BLGr) nanosheets were grown on copper (Cu) foil by chemical vapor deposition (CVD) method. Raman analysis was performed to obtain supporting information about the CVD synthesized BLGr film. BLGr nanosheets were transferred onto Al2O3/p-Si structure by wet transfer method. The effect of BLGr nanosheets on the diode performance was investigated by examining the I-V characteristics of this structure under dark at 300 K. The forward bias I-V curve of the diode exhibited a behavior described in the literature as“two parallel diodes”or“double exponential”modelling. Especially the barrier height values were compared with each other and it was determined that there was a good agreement between them. Within the scope of these analyzes, it was observed that especially laser patterning process increased the quality of 3D nanostructures, caused an increase in SBH, reduced leakage currents of the diode under reverse bias voltage and formed new structures with nanosphere and nanorose morphology on p type Si substrate. The results obtained within the scope of this thesis study showed that the produced 3D VGrN-based diodes can be used in short-wave IR precision semiconductor device applications, and the produced BLGr-based diode can be a potential material for applications in the electronics industry where band gap control is desired.

Benzer Tezler

  1. Gezgin robotların çiftliklerde ürün yeri belirleme ve taşıma işlemlerinde kullanımı

    Using mobile robots in detecting the location of products and carriage in the farms

    DURMUŞ ÖZDEMİR

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2009

    Bilgisayar Mühendisliği Bilimleri-Bilgisayar ve KontrolKaradeniz Teknik Üniversitesi

    Bilgisayar Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    YRD. DOÇ. DR. CEMAL KÖSE

  2. Adli vakaların çözümlenmesinde yeni tekniklerin kullanımı: Kızılötesi fotoğrafçılık

    Using new techniques in the resolution of forensic cases: Infrared photography

    AYŞE ÇALIŞKAN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2022

    HukukHitit Üniversitesi

    Adli Bilimler Ana Bilim Dalı

    DOÇ. DR. VAHDET ÖZKOÇAK

  3. Sıçrama yüksekliği ölçümünde kullanılacak yeni bir ölçüm sistemi geliştirilmesi

    Developing A novel system to evaluate jump height

    HİKMET GÜMÜŞ

    Doktora

    Türkçe

    Türkçe

    2019

    FizyolojiDokuz Eylül Üniversitesi

    Fizyoloji Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. BERKANT MUAMMER KAYATEKİN

  4. Fabrication and characterization of polyvinylidene fluoride based hollow fiber ultrafiltration membranes blended with nanoparticles

    Nanoparçacık katkılı poliviniliden florür esaslı delikli elyaf ultrafiltrasyon membranlarının üretimi ve karakterizasyonu

    YAPRAK SUBAŞI

    Yüksek Lisans

    İngilizce

    İngilizce

    2018

    Polimer Bilim ve TeknolojisiYıldız Teknik Üniversitesi

    Malzeme Bilimi ve Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    YRD. DOÇ. DR. BUĞRA ÇİÇEK

  5. Portakal yağı içeren mikro ve moleküler kapsüllerin salım davranışlarının incelenmesi

    Analysing releasing attitude of micro and moecular capsules containing orange oil

    İRŞAH GÖNÜLŞEN

    Yüksek Lisans

    Türkçe

    Türkçe

    2013

    Tekstil ve Tekstil MühendisliğiDokuz Eylül Üniversitesi

    Tekstil Mühendisliği Ana Bilim Dalı

    PROF. DR. A. MERİH SARIIŞIK